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Fターム[2H079GA05]の内容

光の変調 (22,262) | 変調器の配置 (750) | 並列型 (515) | マトリックス (200)

Fターム[2H079GA05]に分類される特許

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【課題】消費電力を抑えつつ、複数の電気信号を並行処理で光信号に変換する。
【解決手段】データ信号Da1,Da2,Da3、およびクロック信号CKaの数未満の数の発光ダイオード11aで構成された光源部11と、データ信号Da1,Da2,Da3、およびクロック信号CKaと一対一で対応して配設されたこれらの電気信号の数と同数の光シャッタ12a,12b,12c,12dとを備え、各光シャッタ12は、対応する電気信号の信号内容に応じて、光源部11から出射される光Lを透過する透過状態および光Lを遮光する遮光状態のうちの一方の状態から他方の状態、または他方の状態から一方の状態に移行することにより、上記の電気信号を光信号に並行処理で変換して出力する。 (もっと読む)


【課題】 レーザ光の集光制御での歪み補正を好適に実現することが可能な光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置を提供する。
【解決手段】 空間光変調器を用いたレーザ光の集光照射の制御において、レーザ光の波長数、各波長の値、及びレーザ光の入射条件を取得し(ステップS101)、集光点数、及び各集光点での集光位置、波長、集光強度を設定し(S104)、各集光点について、レーザ光に空間光変調器を含む光学系で付与される歪み位相パターンを導出する(S107)。そして、歪み位相パターンを考慮して空間光変調器に呈示する変調パターンを設計する(S108)。また、変調パターンの設計において、1画素での位相値の影響に着目した設計法を用いるとともに、集光点での集光状態を評価する際に、歪み位相パターンを加えた伝搬関数を用いる。 (もっと読む)


【課題】 レーザ光の集光制御を充分な自由度で好適に実現することが可能な光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置を提供する。
【解決手段】 空間光変調器を用いたレーザ光の集光照射の制御において、レーザ光の波長数、各波長の値、及びレーザ光の入射条件を取得し(ステップS101)、集光点数、及び各集光点での集光位置、波長、集光強度を設定し(S104)、各集光点について、レーザ光に付与する集光制御パターンを設定する(S107)。そして、集光制御パターンを考慮して空間光変調器に呈示する変調パターンを設計する(S108)。また、変調パターンの設計において、1画素での位相値の影響に着目した設計法を用いるとともに、集光点での集光状態を評価する際に、集光制御パターンの逆の位相パターンを加えた伝搬関数を用いる。 (もっと読む)


【課題】高スループットで高品質のレーザ加工をすることができて装置の小型化が可能であるレーザ加工装置等を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置1は、レーザ光源10、位相変調型の空間光変調器20、駆動部21、制御部22、結像光学系30を備える。結像光学系30はテレセントリック光学系を含む。駆動部21に含まれる記憶部21Aは、複数の基本加工パターンそれぞれに対応する複数の基本ホログラムを記憶するとともに、フレネルレンズパターンに相当する集光用ホログラムを記憶する。制御部22は、記憶部21Aにより記憶された複数の基本ホログラムのうちから選択した2以上の基本ホログラムを並列配置し、その並列配置した各基本ホログラムに集光用ホログラムを重畳して全体ホログラムを構成し、その構成した全体ホログラムを空間光変調器20に呈示させる。 (もっと読む)


【課題】空間光変調器を通過する高強度の光源を必要とせずに、単一通過、高解像度、高速度の画像形成システムを提供する。
【解決手段】高エネルギ赤外レーザから均質光を発生させる均質光発生器110、2次元アレイ内に配列された光変調素子を含む空間光変調器120、およびアナモフィック光学システム130を含む画像形成システム。光変調素子は、各変調素子が関連均質光部分を受信するように配置され、「オン」変調状態と「オフ」変調状態との間で個々に調整可能であり、それによって「オン」変調状態において各変調素子は、関連変調光部分がアナモフィック光学システム130の中の対応する領域上へ向けられるように、受信した均質光部分を変調する。次いでアナモフィック光学システム130は、変調光部分をアナモフィックに集光して、スキャンライン画像を形成する。 (もっと読む)


【課題】複数の一次元スキャンライン画像を同時に生成するために使用が可能な高信頼かつ高速の画像形成システムを提供する。
【解決手段】複数行および複数列に配置される光変調素子を有する空間光変調器120を用いて二次元均質光場119Aを変調することにより、2つの略一次元スキャンライン画像SL1、SL2を同時発生させる。上側の変調素子グループは、第1のスキャンライン画像データグループを用いて構成され、かつ下側の変調素子グループは、第2のスキャンライン画像データグループを用いて構成される。次に、二次元均質光場を空間光変調器上へ方向づけるために、均質光源110がパルスされる。二次元変調光場119Bはアナモルフィック光学系130を介して方向づけられ、アナモルフィック光学系は、画像形成面上に2つの平行する一次元スキャンライン画像が同時に形成されるように、変調光を画像形成面上へ画像化し、かつ集中させる。 (もっと読む)


【課題】単一パス高解像度高速印刷用途に使用されることが可能な高信頼でしかも高出力である画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系130Eは、画像形成面162Eから湿し溶液を気化するに足るエネルギーを有するライン画像を発生するために、1つまたは複数の円柱/非円柱レンズ134Eにより全屈折配置に形成される、または円柱/非円柱レンズおよびミラーの組合せによって形成される工程方向サブ光学系137Eを含む。また、本アナモルフィック光学系は、変調光場119Bを工程横断方向に画像化するために1つまたは複数の円柱/非円柱レンズ138Eおよび任意選択の円柱/非円柱視野レンズにより形成される工程横断方向サブ光学系133Eも含む。本アナモルフィック投影光学系は、ライン画像の複数のピクセル画像の同時的発生を容易にし、1200dpi以上での印刷を容易にする。 (もっと読む)


【課題】光変調しない画素有効領域外からの出射光を抑制して、コントラストを向上させた反射型の空間光変調器を提供する。
【解決手段】基板7上に2次元配列された画素4からなる空間光変調器の画素アレイ40は、各画素4の光変調素子同士を絶縁する素子間絶縁層5を、光の入射される側から順に低屈折率絶縁層52およびそれよりも屈折率の高い高屈折率絶縁層51の少なくとも2層を積層して備える。光が高屈折率絶縁層51の上下界面で多重反射して閉じ込められることにより減衰して、出射光が抑制される。 (もっと読む)


【課題】 光波長多重信号の偏光面を波長成分ごとに調整することができ,しかも各成分に時間的なずれが生じない,波長選択偏波制御器を提供する。
【解決手段】 この波長選択偏波制御器は,光波長多重信号が入射するテレセントリック光学系11と,テレセントリック光学系から出力された光の偏波面を調整する偏波制御器12と,偏波制御器からの出力を光路へと出力するための出力光学系13と,を有する。テレセントリック光学系11は,光波長多重信号が入射する第1の回折格子15と,回折格子15を経た光波長多重信号を集光する第1の集光レンズ16と,を有する偏波制御器12は,複数の位相変調器21,22,23を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 (もっと読む)


【課題】スピン注入型磁化反転素子を用いた光変調素子の光変調度を向上することを目的とする。
【解決手段】磁化固定層11と、非磁性中間層12と、磁化自由層13とをこの順で積層したスピン注入型磁化反転素子構造と、このスピン注入型磁化反転素子構造の上下に設けられた一対の電極2,3とを備え、当該一対の電極2,3を介して電流を供給されることにより磁化自由層13の磁化方向を変化させて、入射した光をその偏光方向を変化させて出射する光変調素子10において、一対の電極2,3のうち、磁化固定層11側に設けられた電極である下部電極3は、少なくとも上層部がAgからなるように構成した。 (もっと読む)


【課題】周辺部分に非表示部分がある空間光変調器を複数並べた電子ホログラフィ表示装置で、隣の空間光変調器との境界部分で画像が途切れがちであるが、これがないようにする。
【解決手段】空間光変調器と拡大光学系を備える表示ユニットの複数を横に並べた面と、閲覧者との間に、光学系を配置して、上記の画像が途切れることを解決する。つまり、空間光変調器から出射した光を、拡大光学系を用いてそれぞれの表示ユニット毎に上記光学系で拡大し、複数の表示ユニットからの光を連結させて、表示面全体に広がる一連の画像にする。その際に、上記非表示部分からの光を遮光板で遮蔽する。次に、その一連の画像を縮小光学系で縮小する。これにより、その個々の空間光変調器の画素数や分解能などの表示特性を損なうことなく、上記の非表示部分の影響を除外でき、その部分で画像が途切れないようにする。 (もっと読む)


【課題】 集光点におけるレーザ光の集光状態を好適に制御することが可能な光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置を提供する。
【解決手段】 空間光変調器を用いたレーザ光の集光照射の制御において、レーザ光の入射パターン、及び伝搬経路上の第1、第2伝搬媒質それぞれの屈折率を取得し(ステップS101)、集光点の個数、及び各集光点についての集光位置、集光強度を設定し(S104)、レーザ光の伝搬で第1、第2伝搬媒質によって生じる収差条件を導出する(S107)。そして、収差条件を考慮して、空間光変調器に呈示する変調パターンを設計する(S108)。また、変調パターンの設計において、1画素での位相値の影響に着目した設計法を用いるとともに、集光点での集光状態を評価する際に、収差条件を考慮した伝搬関数を用いる。 (もっと読む)


【課題】省電力で駆動が可能な光導電スイッチング素子、光導電スイッチング素子アレイ、表示装置および画像形成装置を提供すること。
【解決手段】光導電スイッチング素子アレイ1は、第1の共通電極2と、第1の共通電極2に対向配置され、第1の共通電極2との間で電圧が印加される個別電極3と、第1の共通電極2と個別電極3との間に配置され、アドレス光L2を受光することにより導電性が発現する光導電層4とを備え、光導電層4は、アドレス光L2を受光した際に電荷を発生する機能を有する第1の電荷発生層41および第2の電荷発生層42と、第1の電荷発生層41および第2の電荷発生層42でそれぞれ発生した電荷を輸送する機能を有する電荷輸送層43とを備え、第1の電荷発生層41と第2の電荷発生層42とは、電荷輸送層43の面方向の異なる位置に配置され、電荷輸送層43の厚さ方向にも異なる位置に配置されている。 (もっと読む)


【課題】チューナブルフィルタの構造を簡潔にする。
【解決手段】チューナブルフィルタであって、互いに平行な一対の面の一方の面に配された、透過部およびミラー部、並びに、他方の面に配され、透過する波長帯域が面内の一の方向に沿って異なるダイクロイックミラー部を有し、連続スペクトルの平行光束が入射され、連続スペクトルの平行光束を波長に応じて空間的に分散された平行光束として射出する分波部と、分波部から空間的に分散された平行光束が入射され、空間的な位置に応じて強度を変調して、空間的な位置に応じた予め定められた光路に対して射出する空間変調部と、空間変調部から射出された、空間変調された平行光束を合波して射出する合波部とを備える。 (もっと読む)


【課題】スピン注入磁化反転素子による、光変調度を向上させた光変調素子を提供する。
【解決手段】光変調素子5は、基板7上に、磁化自由層13、中間層12、および磁化固定層11の順に積層したスピン注入磁化反転素子構造1を備え、磁化自由層13を下部電極3とし、磁化固定層11の上に積層された透明電極層を上部電極4とする。光変調素子5は、誘電体層2をさらに備えて、この上に前記磁化自由層13が積層される。光変調素子5に入射した光は、スピン注入磁化反転素子構造1および誘電体層2を透過して基板7で反射し、さらに誘電体層2と磁化自由層13との界面で反射して、誘電体層2で多重反射することにより、磁化自由層13のカー回転角での旋光を累積させて出射する。 (もっと読む)


【課題】動作の遅延を抑制しつつ、空間光変調素子の温度変化に伴う位相分布の歪みを抑える。
【解決手段】空間光変調装置1Aは、位相変調型の空間光変調素子10と、空間光変調素子10の温度を検出する温度センサと、駆動信号SDを空間光変調素子10に提供する制御部20Aとを備える。制御部20Aは記憶部22を有する。記憶部22は、空間光変調素子10の位相歪みを補正するために空間光変調素子10のN個(Nは2以上の整数)の温度値に対応して作成されたN個の補正用パターンを記憶している。制御部20Aは、空間光変調素子10の温度値に応じて一の補正用パターンを選択し、該一の補正用パターンを所望の位相パターンに加算することにより作成される位相パターンに基づいて駆動信号SDを生成する。 (もっと読む)


【課題】偏光成分毎に波長選択特性を調整可能な波長選択素子を提供することができる。
【解決手段】波長選択素子10は、透光性を有する誘電体とされた基板12上に、金属膜14を積層した構成とされている。金属膜14は、該金属膜14の面方向に直交する方向に貫通した複数の貫通孔14Aを備えている。貫通孔14Aは、金属膜14の平面における、X方向と該X方向に直交するY方向との2方向に沿って格子状に配列されている。また、貫通孔14Aの金属膜14の面方向の断面形状は、本実施の形態では、該X方向に延伸した2辺と該Y方向に延伸した2辺との4辺からなる矩形状とされている。また、この金属膜14に設けられた貫通孔14Aの、該X方向の配列周期と、該Y方向の配列周期と、は、異なる配列周期とされている。 (もっと読む)


【課題】画素の選択性を向上させた、磁気光学式の空間光変調器を提供する。
【解決手段】基板7上に配列された複数の画素4のそれぞれに磁気光学材料を細線状に形成してなる磁性細線1を備え、さらに基板7上に磁気転写膜5を磁性細線1の下面に接触させて備える空間光変調器10であって、磁性細線1において、両端に接続された一対の電極2,3にて供給される電流により2つの磁区D0,D1間の磁壁DWが細線方向に移動して、光の入射領域1rに磁区D0,D1のいずれかを選択的に到達させて、入射領域1rの磁化方向を反転させるものである。磁性細線1の磁化方向が磁気転写膜5に転写されるため、入射領域1rの直下における磁気転写膜5の磁化方向は磁性細線1と共に反転する。基板7を透過して入射した光は、磁気転写膜5を透過する際のファラデー効果により大きく旋光し、磁性細線1で反射して、再び磁気転写膜5を透過する際にも旋光して出射する。 (もっと読む)


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