Fターム[2H088FA00]の内容
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Fターム[2H088FA00]に分類される特許
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露光方法、露光装置及び電気光学装置
【課題】 液晶マスクの撓みを補正して、被露光基板に対して、均一なパターンを形成する露光方法、露光装置及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】 本発明の露光装置は、露光光を出射する光源と、基板を支持するステージとを備え、一対の電極を備えた液晶マスクを用いて基板に所定パターンを転写する露光方法であって、光源からの露光光が照射された液晶マスクの撓みを検出する撓み検出工程(S12,S14)と、液晶マスクの撓みに基づいて、液晶マスクの各領域の撓み量を算出する撓み量算出工程(S16,S18)と、液晶マスクの各領域の撓み量に基づいて、液晶マスクの一対の電極に印加する電圧を液晶マスクの各領域ごとに制御する電圧印加工程(S20,S22)と、を有する。
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