【課題】高度な微細加工技術を要することなく、高い階調表示を行なうことを課題とする。
【解決手段】液晶表示素子は、第一波長帯域を選択反射する第一液晶と、第一波長帯域とは異なる第二波長帯域を選択反射し、駆動に要する閾値電圧が第一液晶とは異なる第二液晶とが、画素単位で配置される同一の電極に接して形成される第一液晶層を有する。液晶表示素子は、第二波長帯域を選択反射する第三液晶と、第一波長帯域及び第二波長帯域とは異なる第三波長帯域を選択反射し、駆動に要する閾値電圧が第三液晶とは異なる第四液晶とが、画素単位で配置される同一の電極に接して形成される第二液晶層を有する。また、第一液晶層と第二液晶層とは、重ね合わせて配置される。 （もっと読む）

【課題】臨場感溢れる映像を表示可能な表示システムを提供する。
【解決手段】本発明の表示システム１は、不可視光Ｌ２が入射した領域ごとに、可視光Ｌ１を散乱させる散乱状態と可視光を透過させる透過状態とが切替わるスクリーン２と、スクリーン２に可視光Ｌ１による画像を投射する画像投射系３１と、画像投射系３１により画像が投射される領域が散乱状態になるように、スクリーン２に不可視光Ｌ２を投射する不可視光投射系３２と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。
【解決手段】平板状シャッター１０，２０は、マスク４から離れて設けられ、帯状シャッター３０ａ，３０ｂ，４０ａ，４０ｂは、マスク４に近接して設けられている。露光領域を制限する場合、平板状シャッター１０，２０及び帯状シャッター３０ａ，３０ｂ，４０ａ，４０ｂは、ＸＹ方向を所定の位置へ移動され、平板状シャッター１０，２０は、マスク４の露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断し、帯状シャッター３０ａ，３０ｂ，４０ａ，４０ｂは、マスク４の露光領域の境界付近へ照射される光を遮断する。平板状シャッター１０，２０の端部を通過して回折により広がった光は、帯状シャッター３０ａ，３０ｂ，４０ａ，４０ｂにより遮断される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの製造で、基板のそり事前に測定し、そり量に応じたパターンを作成し、高精度なパターン作成を実現する。
【解決手段】上記目的のため、本発明のフォトマスクの製造方法は、ガラスを基板の主材料としたフォトマスクの製造方法において、前記基板のそり量を測定した後に、前記そり量に応じたフォトマスクのパターンを選択して形成することを特徴とする。ここで、基板のそり量が基準値に対して１００μｍ以上変化する毎に、パターンの幅を１μｍ〜５μｍ細く変更することが望ましい。また、本発明のＰＤＰの製造方法はこれらのフォトマスクを用いた製造法である。 （もっと読む）

【課題】 基板へのダメージを抑制しつつ、基板の表面に対して超音波による洗浄処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置１は、基板Ｗを水平に保持して回転させるスピンチャック１０と、スピンチャック１０に保持された基板Ｗの上面に第１処理液（ＨＦＥ）、第２処理液（気体溶存水）をそれぞれ供給する第１処理液供給ノズル２０、第２処理液供給ノズル１７を備えている。スピンチャック１０に保持された基板Ｗの上面にＨＦＥおよび気体溶存水が供給され、基板Ｗの上面にＨＦＥの液膜が形成され、さらにその上層に気体溶存水の液膜が形成される。この状態で気体溶存水とＨＦＥの液膜に超音波振動が付与される。これにより、気体溶存水の液膜でのみ発生したキャビテーションによる衝撃エネルギーがＨＦＥの液膜で緩和されつつ、基板Ｗの洗浄処理が施される。 （もっと読む）

【課題】切断後の基板の端辺と遮光パターンの外縁との位置関係を容易且つ正確に制御すると共に、係る位置関係を容易且つ正確に検査する。
【解決手段】透光性を有する基板の主面上に形成された遮光膜がパターニングされることによる所定の遮光パターンを備えたフォトマスクであって、基板の主面上であって遮光パターン領域外に、遮光パターンと同時に形成されたアライメントマークであって、遮光パターン領域の外縁から等しい距離にある複数の位置を、認識可能に示す部分を含むアライメントマークが形成されている。 （もっと読む）

【課題】安定して基板上に処理液の液膜を保持させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、基板を水平に保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板の上面周縁部を選択的に疎水化させる疎水化手段と、前記基板保持手段に保持された基板の上面に処理液を供給する処理液供給手段と含む。この基板処理装置による基板の処理では、基板の主面の周縁部を選択的に疎水化させる疎水化工程（Ｓ１０１）と、前記疎水化工程が実行された後に、水平に保持された基板に処理液を供給して、当該基板の主面を覆う処理液の液膜を形成する液膜形成工程（Ｓ１０２）とが実行される。 （もっと読む）

【課題】基板を均一に処理することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｗを非回転状態で保持する基板保持手段と、ノズル４と、処理液供給手段と、制御手段とを含む。ノズル４は、基板保持手段に保持された基板Ｗの主面の中央部に向けて流体を吐出する中央吐出口１１、主面の中央部を取り囲む環状の中間領域Ｔ１に向けて外向きに流体を吐出する中間吐出口１２、および中間領域Ｔ１を取り囲む環状の周縁領域Ｔ２に向けて外向きに流体を吐出する周縁吐出口１３を有する。処理液供給手段は、中央吐出口１１、中間吐出口１２、および周縁吐出口１３に個別に処理液を供給する。制御手段は、処理液供給手段を制御して、中央吐出口１１、中間吐出口１２、周縁吐出口１３の順番で処理液を吐出させる。 （もっと読む）

【課題】パターン形状やパターン精度を高めることができるグレートーンマスクを提供する。
【解決手段】遮光部１と、透光部２と、グレートーン部３とを有するグレートーンマスクの製造方法であって、透明基板上に、少なくとも半透光膜、エッチングストッパー膜、遮光膜が順次形成され、レジスト膜が形成されたマスクブランクを準備する工程と、透光部を形成する部分に対してレジストが完全に感光される露光量で、またグレートーン部を形成する部分に対してレジストが完全に感光される露光量より少ない露光量でレジスト膜を露光する工程と、現像処理を行い、遮光部とグレートーン部とで残膜値が異なるようなレジストパターンを形成する工程と、レジストが除去された領域に露出する遮光膜をエッチングする工程と、透光部を形成すべき部分上の半透光膜と、半透光部を形成すべき部分上の遮光膜を同時に除去する工程と、レジスト膜を除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】垂直配向液晶表示素子の視角特性を変えることなく、ラビングスジの発生を抑えることが可能なラビング処理装置、ラビング処理方法及び該ラビング処理方法を用いた液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ラビング処理装置１は、表面に配向膜が形成された基板３０が載置されたステージ１０と、配向膜に接触可能に配置されたラビングロール２０とを備える。ラビングロール２０は回転しながら、基板３０の表面と平行に移動する。基板３０表面と平行な平面において、ラビングロール２０の進行方向に垂直な方向に対する基板３０の傾き角度θ_１と、ラビングロール２０の進行方向とラビングロール２０の回転軸に垂直な方向との成す角度θ_２とが、θ_１＝θ_２であって、且つθ_２≠０°である。 （もっと読む）

【課題】溶液の塗布装置において、塗布ヘッドのノズルから吐出される溶液の吐出状態を風の影響なく高精度に検出すること。
【解決手段】塗布ヘッド２０に設けたノズルから溶液を吐出させて基板１に塗布する溶液の塗布装置において、塗布ヘッド２０のノズルから吐出される溶液の吐出状態を検出する検出手段３０を備えるとともに、塗布ヘッド２０のノズルから吐出される溶液の吐出領域への風の進入を防止する風防手段４０を備えるもの。 （もっと読む）

機能性基板を担体基板に結合し、前記機能性基板上に機能性要素を形成し、その結合界面に超音波を印加することによって前記機能性基板を前記担体基板から剥離する、各工程を有してなる、薄い機能性基板を備えた装置の製造方法。超音波の印加は、機能性基板が受ける引張応力を低減することによって、剥離ステップを補助する。
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【課題】清浄度を維持しつつ、光学部材と光学表示ユニットとの貼り合せを行うことができる光学表示装置の製造方法および光学表示装置の製造システムを提供することを目的とするものである。
【解決手段】光学表示ユニットＷと、当該光学表示ユニットＷに貼り合わされ光学部材とを有する光学表示装置Ｗ１２の製造方法であって、気流を作用させた環境で、前記光学表示ユニットＷに前記光学部材１１、２１を貼り合わせる貼合工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されるパターンの不均一性を抑制できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】パターン形成方法は、第１基板に設けられた複数の領域のうち、第１群の領域のそれぞれを互いに異なる露光条件で露光し、第２群の領域のそれぞれをほぼ同一の露光条件で露光する第１露光を行うことと、第１露光によって露光された複数の領域のうち、第１群の領域をほぼ同一の現像条件で現像し、第２群の領域の第１部分と第２部分とを互いに異なる現像条件で現像する第１現像を行うことと、第１現像による現像結果に基づいて、所定パターンに対応する第１露光条件及び第１現像条件を決定することと、第２基板を、第１露光条件で露光し、且つ第１現像条件で現像して、第２基板に所定パターンを形成することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】制御装置により、シートＳを仮保持したまま６つの補助シートホルダＳＨ_２，ＳＨ_３が−Ｚ方向に微小駆動され、それらの保持面がシートホルダＳＨ_１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めされ、これにより、シートＳに幅方向（Ｙ軸方向）及び長尺方向に関する適当なテンションが加えられ、シートＳの中央部がシートホルダＳＨ_１の保持面上に固定される。すなわち、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉにＸＹ二次元方向のテンションが付与された状態で、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分が、シートホルダＳＨ_１の平坦状の保持面に倣わされる。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シートＳの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、シートの所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】クリーンルーム内の露光装置の前まで行かずにレシピを作成することにより、効率良く容易にしかもミスも無く作成されたレシピを使用することができる露光装置の制御方法を提供する。
【解決手段】露光装置１から離れた場所にあるコンピュータ１００に予め露光装置の装置情報１１０を格納しておき、当該コンピュータに、使用する予定のマスクおよび基板の情報１３０を入力することで、当該コンピュータ上で、装置情報を参照しながら露光作業を行うためのレシピ１２０を作成し、そのレシピを、可搬式の記憶媒体２００を介して、あるいはデータ転送路を介して、露光装置の制御装置５内部の記憶部６に格納する。 （もっと読む）

【課題】圧着ツールを加熱する加熱ツールの設定温度を従来よりも高くしても、熱による駆動部の破損を防止或いは抑制する。
【解決手段】熱圧着装置１は、受け台３と、圧着ツール１１と、ヒータ１２と、エアシリンダ１３と、放熱フィン１４とを備える。圧着ツール１１は、ヒータ１２によって加熱され、受け台３との間でドライバＩＣ回路１０２をディスプレイパネル１０１に圧着する。エアシリンダ１３は、圧着ツール１１に接続されるロッド２１と、ロッド２１を移動させて圧着ツール１１を受け台３に対して接近及び離間させる駆動部２２とを有する。放熱フィン１４は、ロッドに取り付けられ、ロッド２１と圧着ツール１１との間に介在される。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構でマスクと基板ステージとの位置関係情報を高精度に計測する。
【解決手段】マスクアライメント系１２Ａであって、マスクＭＡに形成されたマスクマーク１５Ａ，１５Ｂのうちのマスクマーク１５Ａを照明する照明系と、プレートステージＰＳＴに設けられ、基準マーク２７Ａ，２７Ｂが形成された基準マーク部材２６と、基準マーク２７Ａの形成面と基準マーク２７Ｂの形成面とを光学的に共役にするリレー光学系２９Ａと、マスクマーク１５Ａ，１５Ｂ及び基準マーク２７Ａ，２７Ｂの像を共通の撮像面で検出する撮像ユニット１４Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】各半導体発光素子の光を効率良く利用して、照度の高い露光光を形成する。
【解決手段】複数の拡大レンズ４３からフライアイレンズ４５までの光路を囲んで反射部材５０を設ける。ベース基板５１の外周部に搭載した半導体発光素子４２及びそれらに対応する拡大レンズ４３を、当該半導体発光素子４２から発生して対応する拡大レンズ４３により拡大された光の一方の端が、フライアイレンズ４５の照射面から外れない所定の角度以内でフライアイレンズ４５へ入射する様に配置する。そして、反射部材５０を、ベース基板４１の外周部に搭載した半導体発光素子４２から発生して対応する拡大レンズ４３により拡大された光の他方の端が、当該反射部材５０により反射されて、フライアイレンズ４５の照射面から外れない所定の角度以内でフライアイレンズ４５へ入射する様に配置する （もっと読む）

【課題】平面ミラーが反射する光によって高温になり変形する際、ミラー周辺と保持板との干渉を防止する。
【解決手段】ランプからの光の方向を曲げ、また、ランプからの光の波長を選択する第１平面鏡を保持する保持板の平面鏡周辺と干渉する面に溝を設ける。また、第１平面鏡周辺と保持板に隙間を開けるための部材を設けたものである。または、保持板に平面鏡サイズより小さい保持面を設ける。または、平面鏡周辺にテーパー形状を設ける。 （もっと読む）