【課題】基板上に配向膜を形成する際に、異物の発生を抑制し、配向膜を良好に形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、基板を収容可能であり、収容した基板上に配向膜を形成可能な第１室と、第１室に配置され、基板上に配向膜を形成するための材料を供給可能な材料供給部と、第１室に配置され、材料供給部と基板との間に所定部材が配置されるように所定部材を着脱可能に保持する保持装置と、第１室と別の位置に配置され、所定部材をクリーニング可能なクリーニングシステムと、第１室の保持装置とクリーニングシステムとの間で所定部材を搬送する搬送システムとを備えている。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を均一にエッチングすることができるエッチング液供給装置、エッチング装置及びエッチング方法を提供する。
【解決手段】本発明によるエッチング液供給装置は、エッチング槽でガラス基板をエッチングするエッチング装置に、水、フッ酸、及び無機酸を含む複数の構成成分からなるエッチング液を供給し、エッチング槽で用いられたエッチング液のフィードバックを受けるエッチング液タンクと、エッチング液タンクのエッチング液をエッチング槽に供給するエッチング液移送部と、エッチング液タンクのエッチング液における構成成分の少なくとも一部である制御構成成分の濃度を測定する濃度測定手段と、制御構成成分を各制御構成成分別にエッチング液タンクに供給する構成成分供給部と、濃度測定手段の測定結果に基づいて制御構成成分が供給されるように構成成分供給部を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布が均一な膜を成膜可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】基板２０とターゲットとの間の位置には膜厚制御用遮蔽部１６が配置されており、膜厚制御用遮蔽部１６に設けられた膜厚制御用透過部１７はターゲット側の幅が狭く、ターゲットとは反対側の幅が広くなっている。ターゲットから遠い程、スパッタ粒子の密度は小さくなるので、基板２０のターゲットから遠い部分は密度の低いスパッタ粒子に長時間晒され、基板２０のターゲットから近い部分は密度の高いスパッタ粒子に短時間晒されることになり、結局、成膜面上には膜厚分布が均一な膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】対象物を均一な厚さにエッチングして製品の収率を向上させることができるエッチング装置及びこの装置を利用して対象物をエッチングする方法を提供すること。
【解決手段】エッチング装置は対象物の厚さを薄くエッチングする過程において対象物に加えられる圧力を最小化し、エッチング溶液を対象物の全領域に均一の圧力でエッチング溶液を提供する。これによって、エッチング過程において、対象物の破損を防止し、対象物の厚さを均一にエッチングすることができるため、対象物の厚さを最小化することができる。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成でターゲットに対する基板の姿勢を調整することが可能な成膜装置用の基板搬送系を提供する。
【解決手段】基板搬送系５０は、ターゲット１１から放出された粒子の飛行領域を横切るように、ターゲット１１に対して相対的に基板１５を移動させるものであり、基板１５が搭載されるトレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃと、トレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃにおけるターゲット１１に近い第１位置ＰＴ１とターゲット１１から遠い第２位置ＰＴ２とを支持し、かつ第１位置ＰＴ１と第２位置ＰＴ２とを通る軸線を横切る方向（移動中心軸５１方向）にトレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃを搬送する搬送機構５４と、トレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃの第１位置ＰＴ１及び／又は第２位置ＰＴ２に配設され、搬送機構５４に対するトレイ５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃの高さを規定する高さ規定部材５５Ａ，５５Ｂ，５５Ｃとを有する。 （もっと読む）

【課題】配向方向の異なる複数の配向領域を備える配向膜を容易に形成できるマスク及び液晶表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】照射光を透過する開口１６ａを有し、開口１６ａに重なり、照射光を一の偏光方向を有する偏光光に偏光する偏光部１９を備える。 （もっと読む）

【課題】 薄膜デバイス転写のためにガラス基板をフッ酸溶液に浸漬させてエッチングする従来技術では、高速且つ面内均一にガラスをエッチングすることができなかった。従来のエッチングレートでは、ガラス基板をエッチングするために２時間以上を要し、量産技術としてはスループットが非常に遅いという課題があった。
【解決手段】 ガラス基板１４にシャワー状のフッ酸溶液１６を吐出することによりエッチングが可能なエッチング装置１００、及びそれを用いたエッチングプロセスを提供する。シャワー１５の噴霧角度、シャワーノズル１３と基板１４との間の間隔、基板１４の揺動振幅長などを適切に設計することにより、シャワー１５を基板１４面内に均一に供給可能とする。基板１４表面への微粒子１７（フッ酸に対する不溶物）の付着を効果的に抑制でき、非常に高速且つ面内均一なエッチングを実現できる。 （もっと読む）

【課題】１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺のダメージや汚染が小さなパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正方法では、レーザ光が欠陥部１３ａに照射されない状態で低粘着フィルム４１にレーザ光を照射して孔４０ａの開いたマスク４０を形成し、マスク４０を基板１４に密着させ、マスク４０を基板１４に押圧した後、孔４０ａを介して欠陥部１３ａに修正液２０を塗布する。したがって、レーザ光によって欠陥部１３ａ周辺がダメージを受けるのを防止することができ、修正液２０がマスク４０と基板１４の隙間に侵入するのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の欠陥として存在する突起を研磨によって正確に除去することが可能な基板のリペア装置及びその方法を提供する。
【解決手段】キャリッジ１００は、基板２に突出している突起４に対してＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸方向に沿って運動し得るように基板上に設置される。研磨テープ供給装置１２０は、キャリッジに装着されており、表面に研磨材層が塗布されている研磨テープを突起の上方に移送する。接触式変位センサ１３０は、研磨テープ供給装置によって移送される研磨テープ１１０の上方に位置するようにキャリッジに装着されており、研磨テープの裏面を押圧して突起に研磨材層を接触させるプレッサー１３２を備え、プレッサーの変位を検出する。変位制御器１５０は、プレッサーの押圧によって突起に与えられる圧力が制御されるようにプレッサーの変位を制御する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被ラビング処理基板の大型化にも係わらず製造設備設置のための面積が少なくて省スペース化が図られると共に、被ラビング処理基板１枚当りのラビング処理時間を短縮し、且つ高精度で均一なラビング処理を施すことが可能なラビング装置およびラビング方法を提供するものである。
【解決手段】ラビング装置をアライメント部１とラビング部２で構成し、アライメント部１において被ラビング処理基板１５を所定の方向でラビングされる向きに設定した後にラビング部２へ浮上搬送し、ラビング部２で所定の方向および速度で回転する前記ラビングロール１１を該ラビングロールの長手方向に略直角の方向に移動させながら被ラビング処理基板１５に形成された配向膜にラビング処理を行なうようにした。 （もっと読む）

【課題】簡易に液晶の配向状態を制御することが可能であると共に、耐湿性に優れた液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、対向配置された一対の基板１０，２０間に液晶５０が挟持された液晶装置の製造方法であって、少なくとも一方の基板１０（２０）の液晶５０側に無機配向膜１６（２２）を形成する無機配向膜形成工程と、無機配向膜１６（２２）の表面に対して液晶が略垂直又は略水平に配向する配向規制力を無機配向膜の表面に付与するシランカップリング剤２６ａ，２６ｂを用いて、無機配向膜１６（２２）の表面を処理するシランカップリング処理工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】
製造ライン内でラビング工程へのフィードバックもしくはラビング以後の工程へのフィードフォワードのために、ラビング直後の配向膜表面を非破壊かつ短時間で０．１°以上の高精度にラビング角度を測定することである。
【解決手段】
光源ユニット、測定光学系、撮像手段及び画像評価手段から構成され、光源からの光は照射光学系を通過し、偏光子を通過し、ラビングされた測定対象物を通過し、検光子を通過し、結像光学系を通過し、撮像手段へ入射し、かつ測定対象物の表面が撮像手段に結像するように光学系が構成されており、撮像手段にて得られた画像信号は画像評価手段へ伝送され、この画像内における強い周期性を有する信号を検出することで、測定対象物のラビング角度を測定する。 （もっと読む）

【課題】生産性の低下を抑制し、所望の品質が得られる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】無機配向膜を備えた液晶装置は、基板上に無機配向膜を形成する工程と、基板上に帯電する静電気量を測定する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】蒸発源と基板との間の距離を大きくすることなく、基板面内における蒸着物質の蒸着角度の均一化を図る。
【解決手段】本発明では、スリット２２ａを有するスリット板２２の移動制御と、基板支持台１７の回転角度制御による蒸着物質の入射角制御とを同時に行うことによって、基板Ｗ面内における蒸着角度の均一化を図る。すなわち、スリット板２２が基板Ｗ上の被蒸着領域を画定し、この画定された被蒸着領域に対する蒸着物質の入射角を基板Ｗの回転角度で制御することによって、基板Ｗ面内において蒸着物質の入射角の一様化を図り、蒸着角度の均一化を図る。好適には、基板Ｗ表面に対する蒸着物質の入射角の制御を、スリット板２２の移動位置に対応して行う。基板Ｗの回転角度とスリット板２２の位置とを互いに関連させることによって、蒸着角度の均一化を効率よく行うことができる。 （もっと読む）

【課題】マザー基板から液晶パネルを複数形成する製造方法において、液晶パネルとなる
各個体のセルギャップを均一に形成することができる液晶パネルの製造方法及び液晶パネ
ルの製造装置を提供する。
【解決手段】第１のマザー基板３１の外周囲に、全シール材１３を囲むようにして各シー
ル材１３の高さと同じ高さを有した隔壁Ｗを設けた。そして、第１のマザー基板３１と第
２のマザー基板３２とを貼り合わせた状態で、隔壁Ｗの内側を減圧するようにした。この
結果、各セル形成空間Ｓａ内の気圧を、各セル形成空間Ｓａの外周囲の空間Ｓｂ内の気圧
に比べて高くなることから、各液晶パネルに渡ってセルギャップ長を均一にすることがで
きる。 （もっと読む）

【課題】基板上において各スペーサが電極上に偏在してしまうのを防止し、スペーサ散布領域において各スペーサを全体的に均一に分散させる。
【解決手段】電極６が形成された透明基板２上にスペーサ３を散布するチャンバ４と、チャンバ４の内部からスペーサ３が散布された透明基板２を搬出する基板搬送装置１４とを有し、基板搬送装置１４は、チャンバ４の内部においてスペーサ３が散布された透明基板２の下面を支持して、透明基板２をチャンバ４の外部に搬出する搬送部１０を備え、搬送部１０のうちチャンバ４の内部に挿入される部分を、全て絶縁材料により形成する。 （もっと読む）

【課題】ＦＦＳ方式の液晶装置において、透過率の低下を招くドメイン領域を減少させる
ことが可能な画素構造を提供する。
【解決手段】ＦＦＳ方式を有する液晶装置において、素子基板は、２行２列に配置された
複数のサブ画素により構成された単位画素を含み、サブ画素たる画素電極は略矩形に形成
され、第３絶縁膜を介して共通電極との間でフリンジフィールドを発生させる複数のスリ
ットを有し、各スリットの長辺の延在方向はサブ画素の並びである行方向に且つゲート線
の延在方向に対して所定の角度だけ傾いた方向に規定されている。このような画素構造に
より、スリットの設定数を減らすことができる。よって、液晶の駆動時に各スリットの長
辺方向の両端部のうちいずれか一方の端部付近にはドメイン領域が生じるが、スリットの
設定数を減らしているのでドメイン領域を減らすことができ、透過率が低下するのを防止
できる。 （もっと読む）

【課題】 表示品質の良好な液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 電極を備え、８８．５°〜８９．５°のプレティルト角を備える第１及び第２基板と、両基板間に挟持され、電圧無印加時には両基板にほぼ垂直に配向し、電圧印加時には、１６０°以上２４０°以下のねじれ角でねじれ構造を形成する液晶分子材料を含む、厚さｄの液晶層であって、カイラルピッチｐのカイラル材を含み、ｄ／ｐが０．２〜０．７４である液晶層と、第１基板の液晶層とは反対側の面に向き合うように配置され、透過軸の方向が第１方向である第１偏光板と、第２基板の液晶層とは反対側の面に向き合うように配置され、かつ、第１及び第２基板の法線方向から見たとき、透過軸の方向が、第１方向と８５°〜９５°の角度をなす第２方向である第２偏光板と、第１基板と第１偏光板との間、第２基板と第２偏光板との間の少なくとも一方に、第１及び第２偏光板と面内方向が相互に略平行となるように配置された光学異方性板とを有する液晶表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】マザー基板から液晶パネルを複数取りする製造方法であって、液晶パネルとなる
各個体のセルギャップを均一に形成することができる液晶パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】第２のマザー基板３２を支持固定する可動定盤４３に、第１のマザー基板３
１上に形成された各シール材１３に対して対向する位置に配置された押圧凸部４８を備え
たプレート部材４７を設けた。そして、可動定盤４３を下動させて、第１のマザー基板３
１と第２のマザー基板３２と各シール材１３を介して押圧して貼り合わせるようにした。 （もっと読む）

【課題】液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させたパターン形成方法、液滴吐出装置、電気光学装置、配向膜形成方法、配向膜形成装置及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】各ノズルＮからの液滴Ｆｂの吐出方向Ａを、対向基板１５の法線に対して傾斜させるとともに、対向基板１５の法線方向から見て、対向基板１５の搬送方向（Ｘ矢印方向）が吐出方向Ａと交差するようにした。そして、着弾する液滴Ｆｂの形状を、搬送方向に対して傾斜した長径を有する楕円形状にして、各液滴Ｆｂの長径ＲＬを、液滴Ｆｂの吐出間隔（搬送吐出ピッチＷｘ）を規定する方向に対して傾斜させるようにした。 （もっと読む）