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Fターム[2H088FA23]の内容

液晶−応用、原理 (75,011) | 構造に特徴を有しない液晶セルの製造方法 (13,968) | その他の補助工程 (2,505) | 他の除去工程(画素欠陥の除去を除く) (225)

Fターム[2H088FA23]に分類される特許

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【課題】最近の半導体製造では、装置の更なる薄型化によるコンパクト化とともに、配線パターンの更なる細密化、立体化が進み、プレートの昇降量についても制御可能なプレートチャック装置構造の要求が高まっていた。
【解決手段】傾斜通路が形成されたスロープ部を可動する可動体と、該スロープ部の傾斜面上に当接するとともに、上記可動体の駆動により傾斜面上を摺動または転動して鉛直方向に昇降し、プレートを持ち上げるピン部を有した昇降部と、該昇降部の鉛直方向の上昇に抗した弾性力を与え、かつ、上記昇降部の水平方向の可動を規制する規制手段とからなることを特徴とするピン昇降機とこれを用いたプレートチャック装置とする。 (もっと読む)


【課題】段差部などに生じた印刷レジストパターンの欠落を防止し空隙を埋め、配線の断線やパターンの細りなどを抑制することにある。
【解決手段】基板上に配線や電極を形成したTFTアレイを形成するにあたり、その上から、印刷装置を使用して有機レジスト或いは金属粒子などを分散したレジストを印刷レジストパターン106として形成する。ついで、レジストパターン印刷後に、有機用溶剤雰囲気中に曝すか、或いは熱などの処理によってパターンを軟化させる。これにより、レジストパターン106が馴染み、レジストパターンと下地層間の空隙107やレジストパターンの段切れを修復することができる。 (もっと読む)


【課題】 基板上の位置による処理液の吐出距離の差が小さい液吐出機構、及びその液吐出機構を備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板Wに処理液を吐出する液吐出機構2に、処理液を吐出するシャワーノズル12と、シャワーノズル12と直接又は間接的に接続され、シャワーノズル12を揺動するために予め定められた軸を中心に回動可能なシャワーパイプ11と、シャワーパイプ11の揺動を、処理液の吐出の中心方向が基板Wにほぼ垂直になる回動位置と、この回動位置から、シャワーノズル12と基板Wの間の距離が一旦短くなる回動方向へ予め定められた角度だけ回転した回動位置との間で行うように制御するモータ41及びリンク機構42とを備え、処理液の吐出の中心方向を示す線と前記軸とが同一面に含まれないようにシャワーノズル12を備えた。 (もっと読む)


【課題】 気体のような圧力流体の一方向流れにより吸入力を発生させ基板表面の液体異物等を容易に除去することができ、特に、基板全体の表面に対し均一な吸入力が働くようにして、液体異物の除去のための吸入効率のみならず、基板の処理品質を一層向上させることができる吸入ユニットアセンブリーを提供する。
【解決手段】 気体のような圧力流体の流れ雰囲気によって発生する周囲の圧力差を利用して異物を除去することができる吸入ユニットアセンブリーであって、圧力気体発生手段と、前記圧力気体発生手段と連通する供給流路を有し、片側に排出空間部を備える気体供給ユニットと、前記圧力気体発生手段から発生する圧力気体が前記供給流路から排出空間部へ流れるよう誘導するガイド流路を有するガイドユニットと、前記ガイド流路と連通して前記圧力気体の流れにより負圧が形成される吸入流路を有する流入ユニットとを備える。 (もっと読む)


【課題】スペーサーの高密度領域を確実に修正する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板11と、アクティブマトリクス基板に対向配置された対向基板12と、両基板11及び12の間に挟持された液晶層16と、両基板11及び12を所定間隔に保持するために液晶層16に設けられた複数のスペーサー14とを備える液晶パネル10の修正方法であって、スペーサー14が液晶層16において局部的に集まった高密度領域を検出する検出工程と、検出された高密度領域のスペーサー14を分散させることにより、その高密度領域を修正する修正工程とを備え、修正工程では、両基板11及び12に振動を与えながら、高密度領域に対応する対向基板12の外側の修正領域を減圧にすると同時に、その修正領域の周りの非修正領域を加圧する。 (もっと読む)


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