【課題】焼成処理を行うことなく低温でガラス基板を修復する。
【解決手段】ガラス基板の修復方法は、表示領域５内に凹部６０が形成されたガラス基板１０を修復するための方法であり、凹部６０に、架橋されたエポキシ樹脂または架橋された（メタ）アクリル樹脂の原料となる複数種類の原料物質を光開始剤とともに充填し、光照射および熱処理によって充填した原料物質を共重合させる。その結果、複数種類の原料物質が共重合してなる透明樹脂６５によって、ガラス基板１０の表面の凹部６０が修復される。よって、焼成処理を行うことなく低温でガラス基板１０を修復することができる。また、透明樹脂６５は複数種類の原料物質がランダムに共重合した網状構造となっているため、光学異方性が抑制され、液晶表示パネルにおいて意図しない輝点などが発生するのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】気泡が混入したまま残ってしまうことを抑制することが可能な貼付装置を提供する。
【解決手段】この貼付装置１は、液晶表示パネルステージ３および偏光板ステージ４と、押圧ローラー５との少なくとも一方を、押圧ローラー５が偏光板２００の貼付開始側の先端部から離間した位置から偏光板２００の貼付開始側の先端部に近づく方向に相対的に移動させることによって、偏光板２００の貼付開始側の先端部の手前側から偏光板２００の貼付開始側の先端部に押圧ローラー５を接触させて押圧を開始するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】例えば、ノーマリーブラック方式を表示方式として採用する液晶装置について、不具合が生じた保持容量を正確に破壊し、不良保持容量を含む画素部によって表示品位が低下することを抑制する。
【解決手段】不良保持容量（１１９Ａ）を含む不良画素部（７０Ａ）は、走査線１１２Ａ及びデータ線１１４Ａの夫々に電気的に接続されており、不良保持容量（１１９Ａ）を破壊する際に、走査線（１１２Ａ）を介して不良画素部（７０Ａ）に供給された選択信号（ＳＥ）によって非導通状態から導通状態に切り替えられるＴＴＦ（３０Ａ）を介してデータ線（１１４Ａ）及び不良保持容量（１１９Ａ）が相互に電気的に接続された後、データ線（１１４Ａ）を介して不良保持容量（１１９Ａ）に電圧Ｖを印加される。 （もっと読む）

【課題】太陽電池等の表面に施される希少金属や有機物等を回収する。
【解決手段】透光基板の表面に膜が施された太陽電池等の板材からこの膜を回収する膜回収装置及び膜回収方法である。前記透光基板の表面の膜に照射するレーザ光を発生させ、当該レーザ光を制御して前記透光基板の裏面側から当該レーザ光を前記膜に照射し、前記透光基板にほとんど影響を与えずに当該膜を瞬時に加熱して局所的に膨張収縮させ、前記透光基板と前記膜の境界面をずらして互いの接着を破壊して剥離する。 （もっと読む）

【課題】大型の基板を精度良く回転して位置決めする。
【解決手段】チャック１０を回転するθステージ８を、内輪４２ａと外輪４２ｂとの間に配置した複数のころ４２ｃが回転して、内輪４２ａと外輪４２ｂとが相対的に回転するころ軸受４２と、ころ軸受４２の外側に環状に設置されたレール４３ａに沿って移動ブロック４３ｂが移動するガイド４３とで構成し、θステージ８によりチャック１０を回転して基板１の位置決めを行う。ころ軸受４２は、θステージ８の回転精度を保つ役目を果し、ガイド４３は、チャック１０及び基板１の重量による縦方向の荷重の大部分を支える役目を果す。大型の基板１が精度良く回転されて位置決めされ、露光精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】ロールユニットの引き出しを容易に行うことが可能であると共に、ロールユニットの差し込みの際の衝撃を軽減可能なクリーンローラ装置を提供すること。
【解決手段】ワーク２の表面に付着した塵埃を除去するクリーンローラ装置１であり、ワーク２に付着している塵埃を吸着する粘着ロール４，５と、粘着ロール４，５に付着した塵埃を転写する粘着テープロール６，７を保持するテープ保持部と、粘着ロール４，５を回転駆動させる駆動モータ２９と、駆動モータ２９に連結される駆動側磁気部材３７と、粘着ロール４，５に連結され駆動側磁気部材３７と所定の間隔をあけて対向配置される従動側磁気部材３８，３９とを有し、駆動モータ２９の回転駆動を粘着ロール４，５へ非接触状態で伝達する伝達機構３０と、駆動側磁気部材３７と従動側磁気部材３８，３９との間で作用する磁力に対して反対向きに押し込み力を与える衝撃吸収機構３３と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】汚染物質などの再付着を防止するとともに、洗浄処理効果を高めることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】所定の間隔をあけて立設されて対向する一対の第１、第２の立設壁の隙間に、被処理基板を１枚ごと立設させて収容するとともに処理液を供給して、該被処理基板の表面処理を行う処理槽を備え、第１、第２の立設壁２ｂ、３は、対向する少なくともいずれか一方の内壁面に第１の流体制御手段を設けて、この第１の流体制御手段は、この流体制御手段を設けた内壁面側と被処理基板Ｗの基板面側との間で処理液の流れを変化させるディンプルａ_１〜ａ_ｎで形成されている。 （もっと読む）

【課題】異なる複数サイズの基板への光学機能膜を貼着するに当って、光学機能膜を吸着保持する部材の吸着孔の開閉機構の構成を簡略化でき、基板に貼り付ける際に、空気の巻き込みを防止する。
【解決手段】左右に設けたホルダドラム１０，１０に複数の吸着孔１１ａからなる先頭吸着孔群１１Ｈと、小判後端側吸着孔群１１Ｓ，中判後端側吸着孔群１１Ｍ，大判後端側吸着孔群１１Ｌが形成され、積層フィルム体４Ｓ，４Ｍ，４Ｌの偏光フィルム２Ｓ，２Ｍ，２Ｌのいずれかの先端部を先頭吸着孔群１１Ｈに、後端側の部位を吸着孔群１１Ｓ，１１Ｍ，１１Ｌに吸着させて、パネル基板１Ｓ，１Ｍまたは１Ｌをホルダドラム１０，１０間に挟持させて、これらホルダドラム１０を回転させることにより偏光フィルムをパネル基板側に貼着させる。 （もっと読む）

【課題】適切なタイミングで自己検出及び自己修復を行う表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る液晶テレビジョン４００の表示部９０は、表示パネル８０と、表示パネル８０を駆動するソースドライバ１０であって、表示パネル８０との電気的な接続を切り離した状態で当該ソースドライバ１０の不良を検出し、修復する比較判定回路５０および切替回路６０を有するソースドライバ１０とを備えている。比較判定回路５０および切替回路６０は、チャンネルの切り替えや番組からＣＭへ移行するタイミングで、ソースドライバの不良を検出する処理を実行することを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

ディスプレイの面（例えば前面）に接着接合された基板（例えばプレートまたはフィルム）を有する接合ディスプレイ（例えば接合ＬＣＤ）を再生する方法。この方法は、必要な場合（例えば欠陥が生じた場合）に、基板を、接合ディスプレイから効率的にかつ清浄に取り外すことを可能にする。これによって、結果として得られる剥離されたディスプレイ（例えば剥離されたＬＣＤ）を製造中の装置の構成要素として引き続いて再接合できるように、損傷のない剥離されたディスプレイが得られる。
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【課題】液晶用基板上の導電性金属酸化物の除去を効率良く行う。
【解決手段】ガラス基板１３上の導電性金属酸化物膜１７及びその他の層１４〜１６を除去してガラス基板１３を回収すると共に、除去した残渣から加熱及び比重差により導電性金属酸化物１７からの還元金属を回収する技術である。ガラス基板１３との相対移動方向に、導電性金属酸化物膜１７に対向して正電極１１と負電極１２を順に配置する。負電極１２を導電性金属酸化物膜１７の近傍に又は接触するように位置させる。正電極１１及び負電極１２と、導電性金属酸化物膜１７間に電解液２０を介在させ、正電極１１と負電極１２に電圧を印加する。正電極１１は、導電性金属酸化物膜１７に対向する端面を湾曲状に形成したものを使用する。
【効果】導電性金属酸化物の除去効率が向上して希少金属の回収率が良くなる結果、液晶用基板の再生も容易に行える。 （もっと読む）

【課題】基材に残留する微小導電性金属酸化物を除去する。
【解決手段】それぞれの対向面に絶縁膜１３ａａ，１３ｂａを形成した正負電極１３ａ，１３ｂを、基材１２との相対移動方向に順に配置した平板状電極体１３の外周部を絶縁体１３ｃで覆う。正負電極１３ａ，１３ｂと、両絶縁膜１３ａａ，１３ｂａの、それぞれの基材１２と対向する端面の面積Ｓ1、Ｓ2、Ｓ3の比を、Ｓ1／Ｓ2＝０．８〜１００、Ｓ2／Ｓ3＝０．０１〜１．１５とする。前記平板状電極体１３の端面を、基材１２に対向すべく，複数個隣接配置する。この平板状電極体１３と基材１２間に電解液１４を介在させた状態で、正負電極１３ａ，１３ｂに電圧を印加しつつ、平板状電極体１３と基材１２とを相対移動させ、基材１２の表面に残留する微小な導電性金属酸化物１２ａを還元反応により除去する。
【効果】微小導電性金属酸化物を、基材の全面に亘って効果的に除去できる。 （もっと読む）

【課題】真空注入方式の液晶装置の製造方法において、液晶パネルに傷をつけたり、液晶パネルの強度を低下させることなく、封止材のはみ出し部分を除去することが可能な液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】一対の基板間に液晶層５０を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、一対の基板のうちの一方の基板１０の周縁部に液晶層５０を構成する液晶５０ａの注入口５４を有する平面視枠状のシール材５１を形成する工程と、一対の基板をシール材５１を介して対向させて貼り合わせる工程と、シール材５１に囲まれた内部に注入口５４から液晶５０ａを注入し、注入口５４を樹脂からなる封止材５５により封止する工程と、液晶５０ａの封止された一対の基板を洗浄する工程と、を備え、液晶５０ａの封止された一対の基板を洗浄する工程において、水系界面活性剤または準水系界面活性剤を洗浄液に用いて、処理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させ、装置コストや工数比を低減させる。
【解決手段】繰り返しパターンが形成された基板を検査し、前記繰り返しパターン内の欠陥の位置情報および前記欠陥の特徴情報を抽出する欠陥検出部と、複数の欠陥修正手法が登録されたデータベースを備える。また、前記基板の欠陥を指定された欠陥修正手法により修正する欠陥修正部を備える。さらに、前記欠陥検出部で検出された欠陥に対応する欠陥修正手法を、前記基板のレイヤ構造に基づいて前記データベースから読み出し、当該欠陥修正手法を利用して前記欠陥の修正を実行する前記欠陥修正部を制御する制御部と、を備えることを特徴する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用カラーフィルタの、異物等を含んで着色層の膜厚が部分的に厚くなった際、異物部分だけを除去した小面積をインクで修正し、異物付着で凸部となった周辺部位の平坦化を行い、膜厚のバラツキを小さくして良品とするカラーフィルタ基板の欠陥修正方法、および該欠陥修正方法で修正されたカラーフィルタを提供することで、カラーフィルタ基板の製造工程における欠陥修正負荷を削減し、歩留まりを改善する。
【解決手段】レジスト材料で表面に少なくとも着色画素がパターンニングされた、複数の工程で形成されるカラーフィルタ基板上にレーザー光を照射して、前記基板上の欠陥を修正するカラーフィルタ基板の欠陥修正方法において、前記着色画素を形成する着色層の膜厚が厚くなった不良部分に、アパーチャのサイズを変更して照射領域を変えながらレーザー光を繰り返し照射する。 （もっと読む）

【課題】
透明導電膜付基板について、ＩＴＯ部分のみを後に回収する場合、簡便な手法によって行う。
【解決手段】
基板（１）と、第１の透明導電膜（２）と、前記第１の透明導電膜に対して、前記基板が配置された側とは反対側に配置された第２の透明導電膜（３）とを有し、前記第１の透明導電膜は、Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｉ，Ｖ，Ｎｉ、もしくはＳｉの酸化物を含有し、前記第２の透明導電膜は、酸化インジウムを主成分とし、前記第１の透明導電膜のエッチングレートは前記第２の透明導電膜のエッチングレートより大きく、前記第１の透明導電膜の膜厚は１０ｎｍ以上であり、前記第１の透明導電膜は、Ｂ，Ａｌ、もしくはＧａを含有することを特徴とする透明導電膜付基板。 （もっと読む）

【課題】基板を品質よく処理することができる基板処理装置、ガス溶解液供給方法、および、基板処理方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル２１と、二酸化炭素が溶解された炭酸ガス溶解水を二流体ノズルに供給する溶解液供給管２２と、炭酸ガス溶解水の溶存ガスと同じ二酸化炭素をキャリアガスとして二流体ノズル２１に供給するキャリアガス供給管２３と、を備えている。二流体ノズル２１は、炭酸ガス溶解水の液滴をキャリアガス（二酸化炭素）とともに基板Ｗに噴射する。噴射された炭酸ガス溶解水は溶解濃度が比較的に高い状態で基板Ｗに着液する。よって、基板を品質よく処理することができる。 （もっと読む）

【課題】酸素濃度を低減した処理液で基板を処理できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗを保持するスピンチャック３と、スピンチャック３に保持された基板Ｗに対向する基板対向面３４を有し、基板対向面３４の周囲からスピンチャック３に向かって突出した周壁部３２が形成された遮断板６と、スピンチャック３に保持された基板Ｗに処理液を供給する第１上側処理液供給管３５とを備えている。第１上側処理液供給管３５には、第２上側処理液供給管３８を介して第１配管内調合ユニット５１から薬液が供給される。この薬液は、薬液原液と、不活性ガス溶存水生成ユニット５０によって純水中の酸素が脱気され、当該純水中に不活性ガスが添加されて生成された不活性ガス溶存水とが第１混合部５９内で混合されることにより調合されたものである。 （もっと読む）

【課題】比較的少量の処理液で基板全体をより均一かつ適正に処理する。
【解決手段】処理液供給装置は、傾斜姿勢で搬送される基板Ｓに対してエッチング液を供給するノズル部材２０を有する。ノズル部材２０は、液収容部２２と、基板Ｓの幅方向に延びかつ基板Ｓとの間に一定隙間を隔てて対向する対向面２０ａと、この対向面２０ａに沿って並ぶ複数の位置にそれぞれ設けられる液吐出口２４と、液収容部２２に収容されるエッチング液を各液吐出口２４にそれぞれ案内する通路２６とを備え、かつ、各液吐出口２４から基板上に吐出される処理液が対向面２０ａに沿って連なりその表面張力により対向面２０ａと基板Ｓとの間に前記幅方向に連続する液膜を形成するように前記対向面２０ａと基板Ｓとの間隔および各液吐出口２４の間隔が設定されている。 （もっと読む）

【課題】ノズルの移動に係るオーバーヘッドタイムを短くするとともに、基板間でのこの時間にばらつきが生じることを防止できる技術を提供する。
【解決手段】現像処理ユニット１においては、ノズル２１を共用する複数個の現像処理セット１０のそれぞれにおいて１枚の基板Ｗに対する現像処理が行われる。制御部９１は、ノズル２１がある基板Ｗ１に対する現像液の吐出供給処理を終えると（ＡＲ２）、当該ノズル２１を次に処理すべき基板Ｗ２について特定された待機位置ＰＷ２まで先行移動させて当該位置で待機させておく（ＡＲ３）。基板Ｗ２が現像処理ユニット１内に搬入されると、制御部９１は、待機位置ＰＷ２に位置しているノズル２１を吐出開始位置ＰＳ２まで移動させ（ＡＲ４）、スリット２０１から現像液を吐出させながら基板Ｗ２上を走査させる（ＡＲ５）。 （もっと読む）