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Fターム[2H088FA23]の内容

液晶−応用、原理 (75,011) | 構造に特徴を有しない液晶セルの製造方法 (13,968) | その他の補助工程 (2,505) | 他の除去工程(画素欠陥の除去を除く) (225)

Fターム[2H088FA23]に分類される特許

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【課題】 注入孔の周りに段差がある液晶素子を封孔材で封孔したところ長期信頼性で不具合が生じた。
【解決手段】注入孔に第1の封孔材18を塗布する工程と、第1の封孔材18を覆うように第2の封孔材19を塗布する工程を有することにより、封孔材とシール材界面の密着力が弱い部分と、封孔材を注入孔へ流し込む際に生じる封孔材の不足部分を第2の封孔材19で補強した。 (もっと読む)


【課題】 注入孔の周りに段差がある液晶素子を封孔材で封孔したところ長期信頼性で不具合が生じた。
【解決手段】注入孔に第1の封孔材18を塗布し、さらに第1の封孔材18を覆うように第2の封孔材19を塗布したことにより、封孔材とシール材の密着力が弱い部分と、封孔材を注入孔へ流し込む際に生じる封孔材の不足部分を第2の封孔材19で補強した。 (もっと読む)


【課題】ムラのない観察画像を得ることが可能な微細パターン修正装置を提供する。
【解決手段】この微細パターン修正装置では、ガラス定盤9を、各々が水平方向に移動可能に設けられた2枚の副ガラス定盤10,11に分割する。観察位置Pの下に副ガラス定盤11のリフタピン孔22がある場合は、副ガラス定盤11を移動させてそのリフタピン孔22を観察位置Pから離間させる。したがって、リフタピン孔22などに起因する観察画像のムラを無くすことができる。 (もっと読む)


【課題】複雑な機構を用いることなく液が基板の表面に到達することを阻止した状態で基板の裏面、または基板の裏面およびエッジ部を液処理することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】液処理装置100は、ウエハWを水平に保持し、ウエハWとともに回転可能なウエハ保持部2と、ウエハ保持部2をウエハWとともに回転させる回転機構3と、ウエハ保持部2に保持されたウエハWの裏面に液を供給する裏面側液供給ノズル6と、ウエハ保持部2に保持されたウエハWの周囲を囲繞するように設けられた排液カップ51と、ウエハ保持部2に保持されたウエハの外側に、裏面側液供給ノズル6からウエハ裏面に供給された液がウエハWの表面側に回り込むことを阻止するように環状に設けられ、ウエハWから振り切られた液を排液カップ51に導く仕切り部材35とを具備する。 (もっと読む)


【課題】ワークに付着している異物を粘着テープを用いて的確かつ効率よく除去する。
【解決手段】ワークである基板wに付着している異物を狙って局部的に粘着テープTを貼り付け、該粘着テープTを剥離することにより異物を粘着テープTに移し取って基板wから除去する。好ましくは、粘着テープTを非粘着面から押圧部材26で押圧しながら基板表面に沿って押圧部材26を相対移動させるとともに、押圧部材26の相対移動に連動して粘着テープTを粘着テープ供給手段から繰り出しながら基板wに貼り付け、かつ、粘着テープTを剥離して回収する。 (もっと読む)


【課題】基板に吐出される処理液の流量を正確に計測することができ、これにより、基板に適切な処理を施すことのできる基板処理装置、および処理液流量計測方法を提供すること。
【解決手段】処理液供給路への第1薬液の流通が開始されたときの流量計の出力する計測値がサンプリングされ(ステップT9)、この計測値に基づいて、第1薬液の計測値の時間変化を表す計測パターンが形成される(ステップT12)。その計測パターンの波形をDIWパターンの波形にパターンマッチングさせる(ステップT13)。パターンマッチングされた後の計測パターンと、DIWパターンとに基づいて、複数の計測値にそれぞれ対応する第1薬液の補正係数が演算される(ステップT14)。パターンマッチング後の互いに波形のずれがない計測パターンおよびDIWパターンに基づいて補正係数の演算が行われる。 (もっと読む)


【課題】基板に対して良好に洗浄処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】薬液ユニット10は、基板Wの薬液処理を可能とするユニットである。洗浄ユニット60は、薬液ユニット10により薬液が供給された基板Wにマイクロバブル水を供給して、マイクロバブル水による洗浄処理を可能とするユニットである。洗浄ユニット60は、主として、複数の上側ノズル61と、複数の下側ノズル62と、液ナイフ66と、貯留槽20と、マイクロバブル発生部21と、を備えている。これにより、薬液処理後の基板Wにマイクロバブル水を供給することができる。そのため、薬液処理において基板に付着した薬液をマイクロバブル水により迅速に置換することができ、洗浄処理に使用される処理液の量を低減させることができる。 (もっと読む)


【課題】回収溝に回収される処理液への他の種類の処理液の混入を防止することができる基板処理装置、高さ方向における小型化を図ることができる基板処理装置、大幅なコストアップを招くことなく、回収される処理液の種類の増加に対応できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】内構成部材19は、スピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられ、第1案内部25、廃棄溝26、内側回収溝27および外側回収溝52を一体的に有している。中構成部材20は、内構成部材19の外側においてスピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられ、第2案内部48を有している。外構成部材21は、中構成部材20の第2案内部48の外側においてスピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられている。そして、内構成部材19、中構成部材20および外構成部材21は、互いに独立して昇降可能にされている。 (もっと読む)


【課題】溶剤の結露に起因する欠陥の発生を防止して歩留まりを向上させることを可能とするカラーフィルタ製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】減圧加熱装置8は、減圧部9によりチャンバ41内の空気を吸引して減圧し、加熱部10により基板3の着色層45を加熱する。着色層45から水分や溶剤が気化して気化成分51が生じる。気化成分51は、分離膜42を透過するので、下室44から上室43へ流入する(図5(a))。上室43に流入した気化成分51は、放熱等による温度低下により、結露52となって上室43の内面に付着する(図5(b))。複数の基板3の減圧加熱処理を継続すると、結露52の付着量が大きくなり、液滴53となって落下する。液滴53は、分離膜42を透過しないので、分離膜42の上に滞留する(図5(c))。 (もっと読む)


【課題】 酸化膜にダメージを与えることなく、砒素がドープされたレジストを除去可能であり、酸化剤を含有しないレジスト除去用組成物を提供する。
【解決手段】 基板工程において砒素がドープされたレジストを除去する際にエチレンジアミンを含む組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】 液晶パネルから保護シートを剥離する際に、偏光板表面に処理を施すことなく、温度や湿度などの剥離環境や剥離速度などの剥離条件に影響されない安定した表面電位を保つことができる保護シート剥離装置およびその剥離方法を提供する。
【解決手段】 剥離部4が移動しながら液晶パネル2から保護シート8を剥離し、ミストを生成し、液晶パネル2の保護シート8が貼り付けられている面に向けてミストを吹き出し、液晶パネル2の保護シート8が貼り付けられている面の周辺にあるミストを吸引する。液晶パネル2の保護シート8が貼り付けられている面の周辺の湿度を検出し、検出した湿度に基づいてミスト吹出量とミスト吸引量と前記剥離部4の移動速度とを制御するようにする。 (もっと読む)


【課題】基板からレジストを良好に除去することができ、かつ、そのレジストの除去に用いた処理液の再利用を図ることができる、基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ミキシングバルブ8には、過硫酸生成槽12において濃度4mol/lの低濃度硫酸を電気分解して生成される過硫酸と、温度120℃、濃度96wt%の高温高濃度硫酸とが供給される。ミキシングバルブ8に過硫酸および高温高濃度硫酸が供給されると、これらが混合され、高温高濃度硫酸が過硫酸で希釈されることによる希釈熱が生じ、この希釈熱および高温高濃度硫酸が有する熱により、その過硫酸および高温高濃度硫酸の混合液は、高温高濃度硫酸の液温以上の高温に急速に昇温する。高温に昇温した混合液は、その後直ちにミキシングバルブ8からノズル3に送られ、ノズル3からウエハWの表面に向けて吐出される。 (もっと読む)


【課題】基板に帯電防止処理を行う装置において、継続して使用しても静電気の帯電防止効率を低下させず、パーティクルを発生させない。
【解決手段】帯電防止装置24には、ガラス基板Gの裏面に紫外線を照射する照射部120が設けられている。ガス供給部110とガス排出部111は照射部120を挟んで配置されている。ガス供給部110へ酸素含有ガスを供給するガス供給経路Mと、ガス排出部111からガスを排出するガス排出経路Nとの間には、戻し経路Rが接続されている。ガス排出経路Nを流れるガスは、その一部が戻し経路Rを流れて、ガス供給経路Mに戻される。ガス排出経路Nに排出されるガスのオゾン濃度は、オゾンモニター124によって測定され、その結果に基づいて、制御部125は、戻し経路Rに設けられたファン121の回転数を制御する。 (もっと読む)


【課題】液晶セル内のイオン性不純物の量を減少させることが可能で、焼きつき現象の発現を抑止でき、ひいてはより高品位な画質を得ることができる液晶表示素子および投射型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】配向膜が所定間隙で対向するようにシール材15で貼り合わせた一対の基板11,12間に液晶層16が挟持された液晶表示素子10であって、液晶層16の材料は、測定温度70℃における誘電率異方性Δεの範囲が−4.5から0未満である。 (もっと読む)


【課題】 液晶パネルから保護フィルムを剥離する際に、偏光板表面に処理を施すことなく、温度や湿度などの剥離環境や剥離条件に影響されない安定した表面電位を保ち、さらに剥離される保護フィルムと干渉することなく偏光板の表面電位を検出することができる保護フィルム剥離装置およびその剥離方法を提供する。
【解決手段】 偏光板41の表面電位を検出する表面電位計11と、保護フィルムを偏光板から剥離する回転ローラー12と、表面電位計11と固定され表面電位計11を移動させるための第1のリニアガイドステージ21と、回転ローラー12と固定され回転ローラー12を移動させるための第2のリニアガイドステージ22と、第1および第2のリニアガイドステージの移動速度を表面電位計11が検出した表面電位に基づいて制御する移動命令部31とを具備し、表面電位計11を、保護フィルムFが剥離される側の面に対して反対側に配置する。 (もっと読む)


【課題】処理液の上部に保護液層を形成することにより、処理液の損耗を防止することができるとともに、処理液及び基板の汚染を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】噴出管7から処理液を処理槽1に供給させつつ回収槽17から処理液を排出させるとともに、保護液供給部19から純水を供給させつつ処理液排出孔15及び回収槽17から純水を排出させて、処理液の上面に純水による保護液層PLを形成させる。保護液層PLにより処理液の上面が塞がれた状態となるので、リフタ33による基板Wの搬入出の際にオートカバー27を開けても、処理液の蒸発が抑制できる。したがって、処理液の損耗を防止できるとともに、オートカバー27への付着を防止でき処理液及び基板Wの汚染を防止できる。 (もっと読む)


【課題】投射像を投射する場合の放熱部分と、照明用として外部へ光を放射する場合の放熱部分とを共有化した照明装置およびランタンを提供する。
【解決手段】照明用光源41と、照明用光源41からの光を利用して投射像を投射するプロジェクタモジュール14Aと、照明用光源41の光を照明用として外部へ放射する照明部20と、プロジェクタモジュール14Aに照明用光源41の光を導くとともに、照明用の光を遮光するモータ33およびモジュール駆動部36とを有する。 (もっと読む)


【課題】投射型表示装置に関し、光漏れや騒音が少なく、且つ内部の発熱部材を適切に冷却することができるようにすることを目的とする。
【解決手段】ハウジング12と、ライトバルブ20と、ライトバルブで形成された画像光を拡大投射するための投射レンズ36と、ハウジング内に配置された少なくとも1つの発熱部材14、38、40と、ライトバルブに冷却空気が当たるようにハウジングの内部に冷却空気を取り入れるための少なくとも1つの第1のファン42と、少なくとも1つの発熱部材に直接に冷却空気が当たるようにハウジング内に配置された少なくとも1つの第2のファン43、44、45と、ハウジングから外部へ冷却空気を排気するための第3のファン46とを備えた構成とする。 (もっと読む)


【課題】異物除去の効率を維持しながら、表示パネルに付着したイオン性不純物を迅速かつ確実に除去する。
【解決手段】液晶表示パネル1に水を付与する水付与工程と、繊維からなる芯部7aと、芯部7aの周面を被覆し吸水機能を有する被覆部7bとを有し、自重の100倍以上の水を吸収可能な高吸水性繊維7を棒状部材8の先端部分に取り付けて構成した拭き取り棒9によって液晶表示パネル1を擦り、液晶表示パネル8に付着した異物6および水を拭き取る拭き取り工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】製造効率を良好にして歩留まりを向上させ、且つ、薄型の表示パネルにおいても、基板端面強度を良好とすることができる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示装置10の製造方法は、第1表示素子区画を有するTFT基板42を準備するステップと、第2表示素子区画を有するCF基板41を準備するステップと、準備したTFT基板42及びCF基板41を貼り合わせて大判の貼り合わせ基板43を形成するステップと、大判の貼り合わせ基板43を構成するTFT基板42及びCF基板41の少なくとも一方の外表面において、各表示素子区画に対応する領域にエッチング保護膜61を形成するステップと、エッチング保護膜61を形成した大判の貼り合わせ基板43にエッチングを行うことにより、大判の貼り合わせ基板43の平面視における各表示素子区画の外側部分を除去するステップと、を備える。 (もっと読む)


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