【課題】寸法安定性に優れたディスプレイ用フィルム基板の製造方法を提供する。
【解決手段】バリア層を設ける前の段階において、プラスチックフィルムに張力を加えることなくガラス転移温度より低い温度であって、前記ディスプレイ用フィルム基板上にカラーフィルタまたは駆動素子等のディスプレイ部材を形成する工程の温度以上の所定の温度で加熱処理して、歪みを解消し、その後の工程での寸法安定性を維持可能とした。そして、プラスチックフィルムの両面にバリア層を設けるようにして、さらに寸法安定性を増すとともに、ガス透過の防止をした。 （もっと読む）

【課題】画素間領域に設けた絶縁膜によって画素電極に起因する凹凸を緩和する場合でも、画素電極の厚さを適正に制御することができる電気光学装置の製造方法、かかる方法により製造された電気光学装置、当該電気光学装置を備えた投射型表示装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置の素子基板に画素電極９ａを形成する際、画素間領域１０ｆに沿って延在する格子状の凸部４７ｆを備えた第１絶縁膜４７を形成した後、第１絶縁膜４７にコンタクトホール４７ａを形成し、その後、導電膜９および第２絶縁膜４９を順次積層する。次に、研磨工程では、凸部４７ｆが露出するまで研磨し、第２絶縁膜４９および導電膜９を凸部４７ｆ（画素間領域１０ｆ）により分割する。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理、ポリイミド配向膜及び磁場配向法に起因する様々な問題を防止し、既存の装置を有効活用して、低コストで液晶の配向制御性に優れた液晶表示装置を製造し得る方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの基板が凹凸構造を有する２つの基板上にポリマーブラシを形成する工程と、前記ポリマーブラシを形成した２つの基板間に液晶を注入して液晶セルを作製する工程と、前記液晶セルを、前記ポリマーブラシと前記液晶とが相溶した部分のＴｇよりも高く且つ前記液晶のＮＩ点よりも低い温度に加熱して保持する工程と、前記液晶セルを、前記ポリマーブラシと前記液晶とが相溶した部分のＴｇよりも低い温度に冷却する工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】液晶層における液晶分子の初期配向状態が安定した略垂直配向型の液晶装置、液晶装置の製造方法、該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１５０は、一対の基板間に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子を含む液晶層５０と、一対の基板のそれぞれに設けられ、液晶分子ＬＣにプレチルトを与えて垂直配向させる配向膜１８，２４と、反応性メソゲンを有する液晶モノマー１９ａ，２５ａの光重合物からなり、配向膜１８，２４と液晶層５０との間に形成された配向制御膜１９，２５とを備え、画素電極１５および共通電極２３は、第１電極材料からなる導電膜１５ａ，２３ａと、第１電極材料よりも仕事関数が小さい第２電極材料を含む導電膜１５ｃ，２３ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い無機配向膜を低コストで形成する。
【解決手段】プラズマ生成領域を挟むように対向配置された２つのターゲット５を備えるスパッタ粒子放出部３と、基板１０を水平方向に搬送する搬送手段６ａを収容する成膜室２と、を備えるスパッタ装置１を用いて、搬送される基板１０にスパッタ粒子２７を入射させて、１０基板に接する下層配向膜１３２と液晶分子３７に接し液晶分子３７の配向を制御する上層配向膜１３１を含む無機配向膜３１を形成する方法であって、スパッタ粒子２７の基板１０に対する入射角の範囲を入射角範囲と定義した場合において、下層配向膜１３２を形成する工程である第１の工程における入射角範囲である第１の入射角範囲が、上層配向膜１３１を形成する工程である第２の工程における入射角範囲である第２の入射角範囲に比べて広いことを特徴とする無機配向膜３１の形成方法。 （もっと読む）

【課題】ドメイン特性が良好で、プレチルト角を小さくできる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１００の液晶配向制御膜は、共に光透過性の絶縁性金属化合物からなり表面に凹凸を有する下地層２０と、この凹凸の表面に非連続に形成される表面層３０と、で構成され、表面層３０が、下地層２０よりも薄く、且つ下地層２０とは異なる物質からなる。そして、表面層３０による下地層２０の表面被覆率を、基板１０の表面１０ａに対して垂直方向と液晶のチルト方向を含む平面内で基板１０の垂直方向に対し非対称とする。このことにより、液晶の配向制御範囲の拡大、配向制御の規制力を高めることが可能であり、特に、動画ドメインの発生を抑制しつつプレチルト角を小さくできること効果がある。 （もっと読む）

【課題】配向膜自体の持つ位相差によってコントラストが低下することを抑制することが可能な液晶装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】配向膜が形成された一対の基板間に液晶５０ａを挟持する液晶装置１００であって、一対の基板の少なくとも一方の基板１０に形成された配向膜１６は、第１の膜１６１と、第１の膜１６１に積層して配置された第２の膜１６２と、を備え、第１の膜１６１の第１遅相軸と第２の膜１６２の第２遅相軸とは交差しており、第１の膜１６１と第２の膜１６２との積層によって発現される位相差は、概ね０になっている。 （もっと読む）

【課題】所望の配向方向からのずれが小さな位相差素子およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】位相差素子３０は、配向膜３１の表面に位相差層３２が形成されたものである。配向膜３１は、基板４０の表面に無配向性薄膜５０が形成された構造となっている。無配向性薄膜５０は基板４０表面に形成された複数の微細溝４２Ａ，４２Ｂの表面に倣って形成されている。無配向性薄膜５０の表面に位置する多数の分子は、配向性を有しておらず、ランダムな方向を向いており、下地である基板４０の表面（特に微細溝４２Ａ，４２Ｂの表面）の分子配向の、位相差層３２への影響を緩和している。 （もっと読む）

【課題】液晶の配向性や低消費電力性を損なうことなく、透過率の高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置において、少なくとも一方の配向膜は有機化合物を含み、配向膜の一方の面は液晶層と接しており、配向膜の他方の面は下地層と接しており、配向膜の屈折率は、配向膜の膜厚方向に、液晶層と配向膜との界面から、下地層と配向膜との界面にかけて単調増加し、液晶層の最小屈折率ｎ_ＬＣと、液晶層と配向膜との界面における、配向膜の屈折率ｎ_Ｆ２と、配向膜と下地層との界面における、配向膜の屈折率ｎ_Ｆ１と、下地層の屈折率ｎ_Ｓ２と、は下記式（Ｉ）の関係を有する。
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【課題】樹脂基板あるいは樹脂層上に無機膜を形成する場合において、前記無機膜にクラックあるいはしわの発生を回避させ、これによりＴＦＴ回路層を信頼性よく形成できる画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂基板あるいは樹脂層の上面にＴＦＴ回路層が形成されている画像表示装置の製造方法にあって、
前記樹脂基板あるいは前記樹脂層の前記ＴＦＴ回路層が形成される面に無機膜を形成する工程を備え、
前記無機膜は、室温から前記樹脂基板あるいは樹脂層のガラス転移点（Ｔｇ）以下の温度で形成し、
前記ＴＦＴ回路層は、前記樹脂基板のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で形成する。 （もっと読む）

【課題】ターゲット交換などのメンテナンス作業を効率化できるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板ホルダー６を有し基板ホルダー６が搬送可能に設けられた成膜室２と、成膜室２に連通し筐体１０内に一対のターゲット１１，１２が対向して配置されたスパッタリング粒子放出部３と、を備える対向ターゲット方式のスパッタリング装置１であって、第２ターゲット１２が配置された筐体１０の一面の一部が第２ターゲット１２を含んで取り外し可能に形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板の斜め方向からスパッタリング粒子が供給される反応性のスパッタリング装置において、良好な成膜レートを確保できるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板ホルダー６を有し基板ホルダー６が搬送可能に設けられた成膜室２と、成膜室２に連通しターゲット１０が配置されるスパッタリング室３と、を備え、スパッタリング室３から成膜室２に放出されたスパッタリング粒子と反応ガスとの反応により基板Ｗ上に反応生成膜を形成させるスパッタリング装置であって、ターゲット１０が基板ホルダー６の搬送経路に対して斜めに配置され、ターゲット１０の外周より大きな穴部を有する箱体２０がスパッタリング室３に設けられ、箱体２０の第１開口部２１を通してターゲット１０の表面が箱体２０の内面を向き、ターゲット１０が向かい合う箱体２０の面の一部にスパッタリング粒子が通過する第２開口部２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】シランカップリング剤の加水分解に必要な水分が不足することを防止して、未反応の官能基が被膜の表面に残存することを防止できる表面処理方法および表面処理装置を提供する。
【解決手段】大気圧よりも低い圧力下で処理剤を気化させ、処理剤の雰囲気に被処理基板を晒すことで被処理基板上に処理剤の被膜Ｃ１を形成する表面処理工程を有し、表面処理工程の後に、被処理基板を冷却する冷却工程と、被処理基板の表面に水分を供給する水分供給工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、広い視野角、十分なコントラスト比、装置を稼動するためのしきい（電圧）の低下、および印加電場に対する迅速な応答を示す偏光調整型電気光学装置のための液晶ディスプレイ用ナノロッド配合物を提供することである。
【解決手段】 本発明の液晶ディスプレイ用ナノロッド配合物は、
（Ａ）（ホストとしての）ネマチック液晶と、
（Ｂ）（ドーパントとしての）ドメイン状構造を有する流動性の有機界面活性剤でコーティングされた硫化亜鉛若しくは酸化亜鉛ナノロッドと、
を含んで成り、前記ドメイン領域内の各々のナノロッドは平行な状態に並んでいる。
前記構成成分（Ｂ）の含有量は、好ましくは前記構成成分（Ａ）１ｍｌにつき０．１ｍｇ〜０．４ｍｇである。 （もっと読む）

【課題】ディスクリネーション等の表示不良を防止して良好なコントラスト特性を有し、且つコスト削減を可能とする液晶装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】一対の基板と、一対の基板に挟持され初期配向状態が垂直配向を呈する液晶層３０と、一対の基板のうち一方の基板１０の液晶層３０側に形成された第１の配向膜１２と、一対の基板のうち他方の基板２０の液晶層３０側に形成された第２の配向膜２２と、を備え、第１の配向膜１２は、斜方蒸着にて形成され液晶層に接する上層膜１２ｂと、上層膜１２ｂが積層される下層膜１２ａと、を有し、配向膜のみかけ体積に対する配向膜の実体積の比を膜密度として、上層膜１２ｂは、下層膜１２ａよりも低い膜密度であると共に、第２の配向膜２２と下層膜１２ａとは、同様の膜密度であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、配向膜の被覆率を改善することで、高品質な画像を表示可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）と、基板上に形成されており、基板の面に対して所定の角度で切り立った側壁（２１５ａ，２１５ｂ）を有する掘下部（２１５）が設けられた絶縁膜（２１０）と、絶縁膜の上層側に形成されており、基板上で平面的に見て、側壁と少なくとも部分的に重なるように設けられることで傾斜された端部を有する複数の画素電極（９ａ）と、複数の画素電極上に形成された配向膜（１６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】装置設計や部材配置の煩雑さを回避することができ、量産性に優れたスパッタリング装置及び膜形成方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを収容可能に設けられ、前記基板Ｗを成膜する成膜室２と、対向配置されスパッタ粒子５Ｐを発生可能な一対のターゲットを有し、前記一対のターゲットから生じる前記スパッタ粒子を前記基板側へ向けて放出するスパッタ粒子放出部３と、前記基板Ｗと前記スパッタ粒子放出部３との間に設けられ、前記スパッタ粒子を選択的に通過させるスリット開口Ｓを有するスリット部材と、前記基板Ｗが前記スリット開口Ｓ上を通過するように前記成膜室内の前記基板Ｗを所定方向に搬送する搬送機構と、前記スリット開口Ｓ上において、前記基板Ｗを移動させる基板移動モードと前記基板Ｗの移動を停止させる基板停止モードとを交互に繰り返すように前記搬送装置に前記基板Ｗを搬送させる制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】良好な液晶装置を効率よく製造可能な製造装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶装置の製造装置は、対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の基板と液晶等との間に無機配向膜が形成された液晶装置の製造装置である。成膜室と、成膜室内にて一方の基板に配向膜材料をスパッタ法で成膜して無機配向膜を形成するスパッタ装置と、を備えている。スパッタ装置は、成膜室に通じる開口を有しターゲットを収容する収容室３１と、収容室内３１に含まれる電子を捕捉する電子捕捉装置３６ａと、を有している。電子捕捉装置３６ａは、収容室内３１に部分的に露出した導電部材３６２ａと、導電部材３６２ａを変位させることにより導電部材３６２ａの収容室内３１に露出する露出部を変化させる変位装置３６０ａと、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】層間膜を備えたＦＦＳモードの液晶表示パネルにおいて、低温環境下で衝撃試験
を行っても気泡が発生し難い液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】本発明の液晶表示パネル１０Ａは、液晶３５を挟持して対向配置されたアレ
イ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦを有し、アレイ基板ＡＲは、樹脂材料からなる層間
膜１８の表面に形成された下電極１９と、下電極１９の表面に電極間絶縁膜２０を介して
形成された複数のスリット状開口２４を有する上電極２２とを備え、カラーフィルタ基板
ＣＦに形成された柱状スペーサ３０の先端部とアレイ基板ＡＲとの接触部では、下電極１
９と電極間絶縁膜２０に開口３１ａ、３１ｂが形成され、前記開口３１ａ、３１ｂ内の層
間膜１８の表面には上電極２２が直接形成され、柱状スペーサ３０は前記開口３１ａ、３
１ｂ内で上電極２２と接触するように配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画素領域と画素領域間とで配向規制力を異ならせた配向膜を備えた液晶装置を良好に製造する。
【解決手段】一対の基板間に液晶層が挟持され、一方の基板には金属または金属酸化物が形成材料の複数の画素電極１１が形成され、複数の画素電極１１間の領域を覆う第１配向膜１４と、複数の画素電極１１の各々を覆う第２配向膜１５と、を備える液晶装置の製造方法であって、画素電極１１を覆って第１材料膜１４ａを形成する工程と、第１材料膜１４ａ上に画素電極１１が設けられていない領域を覆うレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンをマスクとして第１材料膜１４ａをエッチングし画素電極１１を露出させる工程と、画素電極１１上に気相蒸着法を用い第２材料膜１５ａを形成する工程と、を備え、第１材料膜１４ａの形成材料は有機高分子化合物であり、第２材料膜１５ａの形成材料はアルキル基を有するシラン化合物を含む。 （もっと読む）