【課題】表示領域の周辺部分近傍に見られる表示ムラを無くし、優れた表示品位の液晶表示装置を得る。
【解決手段】各々にスイッチング素子を有する複数の画素１３がマトリクス状に形成された表示領域３と表示領域３の外側であってスイッチング素子に信号を供給する引き出し配線６が形成された引き出し配線領域４とを有するアレイ基板２と、アレイ基板２上に、表示領域３と引き出し配線領域４の境界からアレイ基板２端部に向けて、相互に平行に延在する複数の畝状の凸部１０と、表示領域３を覆う配向膜９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、液晶表示素子を提供する。
【解決手段】染料等を含む着色パターン６と、エポキシ基を有する化合物を含む感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜８と、アルカリ可溶性樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサ９と、下式（ＣＡ）のテトラカルボン酸二無水物成分を用いて得られるポリアミック酸もしくはポリイミドを含む液晶配向剤から形成される配向膜１２とを用いてカラーフィルタ１０を製造し、それを用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、これを用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内のいずれかを含む着色パターン６と、シロキサンポリマーを含む第１の感放射線性樹脂組成物から得られる保護膜８と、アルカリ可溶性樹脂並びに下式（１）または下式（２）の化合物の少なくともいずれかを含む第２の感放射線性樹脂組成物から得られるスペーサ９とを用いてカラーフィルタ１０を製造する。カラーフィルタ１０を用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】表示品質を向上させることが可能な液晶装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】シール材４０を介して貼り合わされた素子基板１０及び対向基板と、素子基板１０及び対向基板のうち少なくとも一方の基板上に形成されたシランカップリング剤による表面処理が施された無機配向膜１８と、を備え、平面的にシール材４０と画素領域との間に、シランカップリング剤による表面処理が施されていない未処理領域７１を有する。 （もっと読む）

【課題】凹凸のない平面状の３次元表示装置用パターン位相差フィルムを、高精度で容易かつ大量に製造するための、３次元表示用パターン配向膜用原版の製造方法を提供する。
【解決手段】導電性材料からなる第１層の表面に、非導電性材料からなる第２層を平行な帯状のパターンとして形成する第２層形成工程と、第２層の表面及び第１露出部からなる表面を前記略一定方向に研磨して第１露出部に第１凹凸構造領域を形成する第１研磨工程と、第１露出部の第１凹凸構造領域上に、導電性材料からなる第３層を電解めっきによって形成する第３層形成工程と、第３層を残して第２層を選択的にエッチングして除去して第２露出部を形成する第１エッチング工程と、第３層の表面及び第２露出部からなる表面を異なる方向に研磨して第２凹凸構造領域を形成する第２研磨工程と、第３層を除去して第１凹凸構造領域を露出させる第２エッチング工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高品質な３次元表示用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を、容易かつ大量に作製する３次元表示用パターン配向膜用原版の製造方法を提供する。
【解決手段】金属材料からなる下地層１を準備する工程、下地層の表面に平行な帯状のレジスト２を形成する工程、ドライメッキ処理を施すことにより絶縁性を有する無機材料層３’を形成した後、レジストと無機材料層の積層体を剥離し、平行な帯状のパターンを有する第１層３を形成する工程と、第１層の表面に微小なライン状凹凸構造を略一定方向に形成して第１凹凸構造３１を形成する工程と、露出した下地層にウェットメッキ処理により、第１層の厚み以上の金属材料からなる第２層４を形成する工程と、第２層の表面に第１凹凸構造の形成方向と異なる形成方向の微小なライン状凹凸構造を形成する第２凹凸構造４１形成工程とを有する３次元表示用パターン配向膜用原版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、３次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる３次元表示用パターン配向層用原版を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第１パターン部および上記微細凹凸形状が上記第１パターン部と同一方向に形成された第２パターン部を表面に備える基材を有し、上記第１パターン部および上記第２パターン部の厚みが異なることを特徴とする３次元表示用パターン配向層用原版を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高品質な３次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる３次元表示用パターン配向膜用原版を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、表面に微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された金属基材と、上記金属基材上に平行な帯状に形成され、表面に微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された無機材料からなる凸部と、を有し、上記微小なライン状凹凸構造の形成方向が、上記金属基材および凸部の表面で９０°異なることを特徴とする３次元表示用パターン配向膜用原版を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】
アルミニウム配線の上側に有機保護膜を配置した場合でも、当該配線の耐腐食性に優れた画像表示装置を提供すること。
【解決手段】
基板（ＳＵＢ）上に画素部と外部接続端子部が設けられ、該画素部と該外部接続端子部とをアルミニウム配線（ＬＮ）で接続する画像表示装置において、該外部接続端子部のコンタクト孔（ＣＨ）及び画素部の一部を除いて、該アルミニウム配線を直接被覆する有機保護膜（ＯＰＡＳ）と、該外部接続端子部を含み該画素部までの該アルミニウム配線を覆うように、該有機保護膜の上側に設けられたＩＴＯ膜（ＩＴＯ）とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 反射電極の間を通過する入射光の光量低減が要望されている。
【解決手段】 半導体基板に、複数のスイッチング素子が形成されている。半導体基板の上に、スイッチング素子に対応して配置され、対応するスイッチング素子に接続された反射電極が形成されている。反射電極の上面及び端面を覆い、反射電極の間の領域において、反射電極の底面と同じか、該底面よりも低い位置に上面が配置されているカバー絶縁膜が形成されている。反射電極の間のカバー絶縁膜の上に、遮光膜が形成されている。遮光膜の上面が、反射電極の上面よりも高い位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】透明基板上に、少なくとも、ブラックマトリックスと、着色画素層と、透明導電膜と、該透明導電膜上にポジ型のフォトレジストからなるレジストパターンと、該透明導電膜自体には所定の開口部と、が形成されているカラーフィルタ基板の簡素で合理的な製造方法を提供すること。
【解決手段】透明導電膜２ｂ上に、ポジ型フォトレジスト３を所定の膜厚で塗布する工程と、ポジ型フォトレジスト３を露光・現像して所定の開口部を形成し露出した透明導電膜をエッチングにより除去して透明導電膜２ｂに配向制御用の開口部２ｃを形成する工程と、残置しているポジ型フォトレジストを再び露光・現像して所定のレジストパターン９を形成する工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】パターン加工した透明電極と下地との表面の段差に起因するラビングムラを抑制し、表示ムラのない液晶表示装置を実現するカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】透明基板１上のブラックマトリックス２の開口部に赤、緑、青の各画素が形成され、各画素上に透明導電膜５と絶縁膜６が形成された液晶表示装置用カラーフィルタ基板において、透明導電膜はパターン形成され、該透明導電膜が除去された部分には絶縁膜が形成されており、かつ透明導電膜と絶縁膜における表面の段差が５０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】現像処理を行うことなくパターン形成ができ、また、ラビング処理等による問題も改善され、液晶配向膜等に最適なパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、ポリイミド膜によるレリーフパターンを形成するに際し、３５０℃以上の耐熱性を保持した上で、現像処理を施すことなく、添加する光酸発生剤または光塩基発生剤の選択により、露光部が未露光部に対して断面視で凹になるレリーフパターンや露光部が未露光部に対して断面視で凸となるレリーフパターンを形成することができる。また、本発明で得られたパターン（ポリイミド膜）は、レリーフパターンとされた状態で分子配向しているので、液晶を配向させるためのラビング処理を施すことなく、液晶配向膜等として最適なレリーフパターンを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】安価かつ簡易的な方法で大量に製造することが可能であり、実用性に優れたパターン位相差フィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】透明フィルム基材と、上記透明フィルム基材上に形成された配向層と、上記配向層の表面上に形成され、屈折率異方性を有する棒状化合物を含有する位相差層とを有するパターン位相差フィルムであって、上記配向層が、上記棒状化合物を一方向に配列させることができるように微細凹凸形状が形成されている第１配向領域と、上記棒状化合物を上記第１配向領域における配列方向と直交する方向に配列させることができるように微細凹凸形状が形成されている第２配向領域とが表面にパターン状に配置されており、かつ、上記第１配向領域または上記第２配向領域の少なくとも一方の表面に形成された微細凹凸形状がストライプ状のライン状凹凸構造であることを特徴とする、パターン位相差フィルムを提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】優れた液晶配向能を有する液晶配向膜を備えることで液晶の配向均一性が高いコレステリック液晶ディスプレイ、及びこのコレステリック液晶ディスプレイの製造方法、並びにこのような液晶配向膜を形成するために用いられる液晶配向剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、対向する一対の基板、この各基板と垂直方向に分割された基板間の複数の領域にそれぞれ配置されるコレステリック液晶、及び上記各基板とコレステリック液晶との間にそれぞれ積層される液晶配向膜を備えるコレステリック液晶ディスプレイであって、少なくとも一方側の上記液晶配向膜が感放射線性液晶配向剤によって形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所望の配向方向からのずれが小さな位相差素子およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】位相差素子３０は、配向膜３１の表面に位相差層３２が形成されたものである。配向膜３１は、基板４０の表面に無配向性薄膜５０が形成された構造となっている。無配向性薄膜５０は基板４０表面に形成された複数の微細溝４２Ａ，４２Ｂの表面に倣って形成されている。無配向性薄膜５０の表面に位置する多数の分子は、配向性を有しておらず、ランダムな方向を向いており、下地である基板４０の表面（特に微細溝４２Ａ，４２Ｂの表面）の分子配向の、位相差層３２への影響を緩和している。 （もっと読む）

【課題】所望の配向方向からのずれが小さな位相差素子およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】位相差素子３０は、配向膜３１の表面に位相差層３２が形成されたものである。配向膜３１は、基板４０の表面に無配向性薄膜５０が形成された構造となっている。無配向性薄膜５０は基板４０表面に形成された複数の微細溝４２Ａ，４２Ｂの表面に倣って形成されている。無配向性薄膜５０の表面に位置する多数の分子は、配向性を有しておらず、ランダムな方向を向いており、下地である基板４０の表面（特に微細溝４２Ａ，４２Ｂの表面）の分子配向の、位相差層３２への影響を緩和している。 （もっと読む）

【課題】残像などを改善して、信頼性が向上した液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、第１基板、前記第１基板と対向する第２基板、前記第１基板及び前記第２基板のうちの少なくとも一つの上に位置する電界生成電極、前記電界生成電極上に位置する配向膜、及び前記第１基板と前記第２基板との間に介されており、液晶及び配向重合体を有する液晶層を含み、前記配向膜は開始剤を含む配向物質を初期に含み、前記配向重合体は前記液晶及び配向補助剤を初期に含んで形成される。 （もっと読む）

【課題】良好な電圧応答特性を保持しつつ、透過率を向上させることが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１では、画素電極１２が、液晶層１５の側から順に、第１サブ電極１２Ａ、誘電体層１３および第２サブ電極１２Ｂを有する。第１サブ電極１２Ａおよび第２サブ電極１２Ｂへ供給する電位Ｖａ，Ｖｂを適宜設定することで、液晶層１５のうちのスリット直上の領域Ａへの印加電圧と、スリットのない領域Ｂへの印加電圧との大小関係を目的に応じて自在に制御可能となる。映像表示時には、液晶層１５全体で電界歪みを軽減するような駆動を行い、スリット位置に起因した局部的な透過率低下を抑制する。製造プロセス（プレチルト付与工程）では、プレチルト付与に有利な電界歪み（横電界）を発生させる。 （もっと読む）

【課題】高感度でパターンを得られる感光性樹脂組成物及びそれを用いた表示装置等を提供すること。
【解決手段】 樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、溶剤（Ｄ）及び式（１）で表される化合物を含み、樹脂（Ａ）が、炭素数２〜４の環状エーテルを有する単量体と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種とを重合してなる共重合体である感光性樹脂組成物。
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