【課題】 有機樹脂膜を有するTFTアレイ基板の製造工程において、ブラシ洗浄の際に異物が有機平坦化膜表面にキズを生じさせることがある。このようにキズが生じた有機平坦化膜上に、画素電極となる透明電極膜を成膜した場合、キズ上の透明電極膜も断線してしまい、画素電極に信号が伝わらず表示不良を引き起こすことがある。
【解決手段】 有機平坦化膜を塗布する工程と、中間調露光を用いて有機平坦化膜に凹凸を形成する工程と、凹凸が形成された有機平坦化膜表面をロールブラシを用いて洗浄する工程と、洗浄工程後に、有機平坦化膜上に画素電極を構成する透明導電膜を成膜する工程とを備えた薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】製造性を損なうことなく電圧印加による電気光学物質の劣化を抑制可能とした電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電気光学物質層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板と、第１基板と第２基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素が配列された画素領域と、画素領域とシール材との間に電極が備えられたイオントラップ部と、第１基板及び第２基板の電気光学物質層側の表面に形成された配向膜と、を有する電気光学装置であって、イオントラップ部は、電気光学物質層に直流電圧を印加する第１トラップ電極と第２トラップ電極とを有しており、第１トラップ電極と配向膜との間、及び第２トラップ電極と配向膜との間の少なくとも一方に、電気光学物質層中のイオン性不純物を吸着保持するトラップ部絶縁膜が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜の配向規制力を損なうことなく、表面絶縁膜の凹部の底部を絶縁膜で覆うことのできる液晶装置の製造方法、および液晶装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００を製造するにあたって、無機配向膜形成工程において斜方蒸着により無機配向膜１６、２６を形成した後、表面絶縁膜形成工程では、無機配向膜１６、２６の表面側に、飽和溶液からの析出を利用した液相析出法により、表面絶縁膜１７、２７を形成する。かかる液相析出法によれば、無機配向膜１６、２６の凸部１６ａ、２６ａの表面、および凸部１６ａ、２６ａの間に発生している凹部１６ｂ、２６ｂの底部に略一定の膜厚で表面絶縁膜１７、２７が形成される。このため、表面絶縁膜１７、２７を形成した後も、無機配向膜１６、２６の凹凸形状が残るため、配向規制力を損なうことがない。また、凹部１６ｂ、２６ｂの底部で画素電極９ａや共通電極２１が露出することもない。 （もっと読む）

【課題】寸法安定性に優れたディスプレイ用フィルム基板の製造方法を提供する。
【解決手段】バリア層を設ける前の段階において、プラスチックフィルムに張力を加えることなくガラス転移温度より低い温度であって、前記ディスプレイ用フィルム基板上にカラーフィルタまたは駆動素子等のディスプレイ部材を形成する工程の温度以上の所定の温度で加熱処理して、歪みを解消し、その後の工程での寸法安定性を維持可能とした。そして、プラスチックフィルムの両面にバリア層を設けるようにして、さらに寸法安定性を増すとともに、ガス透過の防止をした。 （もっと読む）

【課題】画素間領域に設けた絶縁膜によって画素電極に起因する凹凸を緩和する場合でも、画素電極の厚さを適正に制御することができる電気光学装置の製造方法、かかる方法により製造された電気光学装置、当該電気光学装置を備えた投射型表示装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置の素子基板に画素電極９ａを形成する際、画素間領域１０ｆに沿って延在する格子状の凸部４７ｆを備えた第１絶縁膜４７を形成した後、第１絶縁膜４７にコンタクトホール４７ａを形成し、その後、導電膜９および第２絶縁膜４９を順次積層する。次に、研磨工程では、凸部４７ｆが露出するまで研磨し、第２絶縁膜４９および導電膜９を凸部４７ｆ（画素間領域１０ｆ）により分割する。 （もっと読む）

【課題】 水分に対する高いガスバリア性を有するにもかかわらず、プラスチックフィルムが吸湿した含有水分の除去が容易であり、表示素子の表示性能の低下などの問題が生じにくい、表示素子などへの用途に適した透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 基材プラスチックフィルムの一方の面にガスバリア機能層を有し、他方の面に透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記ガスバリア機能層の水蒸気透過度を０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下とし、前記透明導電層の水蒸気透過度を１．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上としたことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】透過率を向上させる液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】画素電極Ｐｘと共通電極ＣＴとを絶縁層を介して積層し、該画素電極Ｐｘあるいは該共通電極ＣＴのいずれか一方にスリットＳＬを形成し、該画素電極Ｐｘおよび該共通電極ＣＴによって発生させた電界によって液晶分子を配向させる液晶表示装置１００において、前記絶縁層は、前記スリットＳＬの長手方向の端部１３ａ，１３ｂ近傍から該端部１３ａ，１３ｂに向かって厚みを増して形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】極めて高いガスバリア性能と高い耐久性を達成できるガスバリア層を有するガスバリアフィルム、該ガスバリアフィルムを用いた有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、少なくとも１層のポリシラザンを含有するガスバリア層を有し、かつ、該ガスバリア層は、それぞれ、１００〜２００ｎｍの波長成分を含む真空紫外線を照射することにより表面側が改質されている（改質部分）ガスバリアフィルムであって、少なくとも最上層に該ガスバリア層を有し、更に、該最上層のガスバリア層の改質部分を、前記真空紫外線によって温度８０℃、積算光量３０００ｍＪ／ｃｍ^２で追加処理を行った際、該改質部分の膜厚変化が０ｎｍ〜１０ｎｍであることを特徴とするガスバリアフィルム及び有機電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】隣り合う画素電極間の横電界の影響を受け難い電気光学装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置１００は、複数の画素電極１５が設けられた第１基板としての素子基板１０と、共通電極２３が設けられた第２基板としての対向基板２０と、両基板に挟持された液晶層５０とを有し、対向基板２０は、素子基板１０の隣り合う画素電極１５間に対向する部分であって、隣り合う画素電極１５の外縁部と平面的に重なる光透過性の凸部２２ａを備え、共通電極２３は、凸部２２ａを覆うように設けられている。 （もっと読む）

【課題】薄型化及び軽量化が可能であり、しかも、信頼性の高い表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された光スイッチング機能層と、を備え、前記第１基板及び前記第２基板の各々は、プラスチック基板と、前記プラスチック基板の前記光スイッチング機能層が配置される内面をカバーする第１ガス遮蔽体と、前記プラスチック基板の外面をカバーするとともに前記第１ガス遮蔽体よりもガスバリア性能が低い第２ガス遮蔽体と、を有することを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、装置内部への水分の浸入を防止する。
【解決手段】電気光学装置は、互いに対向するようにシール材（５２）で貼り合わされた
第１基板（１０）及び第２基板（２０）と、シール材の内側において、第１及び第２基板
間に挟持された電気光学物質（５０）と、第１基板上において、電気光学物質と対向する
ように設けられた第１電極（９ａ）と、第１電極を覆うように形成された第１絶縁膜（２
１０）と、第２基板上において、電気光学物質と対向するように設けられた第２電極（２
１）と、第２電極を覆うように形成された第２絶縁膜（２２０）とを備える。第１絶縁膜
及び第２絶縁膜は、シール材と少なくとも部分的に重ならない領域が存在するように設け
られている。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯスパッタ適性、硬度及び耐熱透明性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、（成分Ｂ）式（１）又は式（２）で表される酸発生剤、及び、（成分Ｃ）増感剤、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アルキル基又は芳香族基を表し、アルキル基の場合、互いに連結し環を形成してもよく、Ｒ⁸及びＲ⁹はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Ｘ^-は共役塩基を表す。
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【課題】ＯＤＦ法により製造された液晶表示素子において、シール材への液晶の差込みを
抑制し、且つ、液晶内に気泡の発生が抑制された液晶表示素子を提供する。
【解決手段】表示領域３３の周囲に表示領域３３とは間隔を隔てて形成された閉ループ状
のシール材３１により貼り合わされた一対の基板１１、２５と、一対の基板１１、２５間
に配置された所定厚さのセルギャップに維持された液晶層３５と、を備える液晶表示素子
１０Ａであって、表示領域３３とシール材３１との間には、表示領域３３のセルギャップ
Ｇ１よりも大きいセルギャップＧ２が形成されたセル厚大領域３０Ａが形成されているこ
とを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画素の開口領域内にディスクリネーションを発生させること無く良好な品質の表示を行う。
【解決手段】第一基板１上に、各画素電極３が互いに隣り合う部分にそれぞれ対応させて、画素電極の形成面よりも第二基板２側に突出する絶縁層を設け、画素電極３を、所定の側の第一縁部３ａを該第一縁部側の絶縁層１６の下に入り込ませ、第一縁部３ａとは反対側の第二縁部３ｂを該第二縁部側の絶縁層１６の上に重ねて形成する。そして、画素電極３及び絶縁層１６を覆って形成された第一配向膜１７を、画素電極３の第一縁部３ａから第二縁部３ｂに向かう方向にラビングする。 （もっと読む）

【課題】横方向電界で液晶分子を回転させる方式を用いた場合、液晶は電極に対して基板から離れた方向に配置される。つまり、基板側に生じる電界は液晶分子の回転に寄与しない。そのため、電界の利用率が低下する。また、電気抵抗が低い結晶型ＩＴＯを用いた場合、ドライエッチングでは残渣が残り、ウェットエッチングでは寸法精度が出せないという課題がある。
【解決手段】電極間に位置する誘電体をエッチングして逆テーパー状に窪ませることで、電界強度が強い電極間に液晶が入る領域を設けた。窪ませた部分の液晶分子も電界により回転するため電界の利用率を向上させることができる。また、逆テーパー状に誘電体が形成されているため、スパッター法等で結晶型ＩＴＯ膜を形成した場合、自己整合的にＩＴＯ膜が分離されるため、ＩＴＯをエッチングすることなく所望のパターンを形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】外部からの静電気に起因する画像の乱れを抑制した液晶装置および電子機器なら
びに液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶装置１は、第１基板としての素子基板１０と第２基板としての対向基板
２０との間に液晶層５０が挟持され、素子基板１０上に画素電極９と共通電極１９とが形
成され、画素電極９と共通電極１９との間に発生する電界によって液晶層５０が駆動され
、対向基板２０の液晶層５０側の面に静電遮蔽層としての静電シールド層４０が形成され
、静電シールド層４０の液晶層５０側に絶縁層を介して配向膜２５が形成されている。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム合金膜と透明電極が直接コンタクトすることを可能とし、バリアメタルの省略を可能にするアルミニウム合金膜を用いた表示デバイスとその製造技術を提供する。
【解決手段】基板上に配置された薄膜トランジスタと、透明電極によって形成された透明導電膜、および、これら薄膜トランジスタと透明導電膜を電気的に接続するアルミニウム合金膜を有し、該アルミニウム合金膜と前記透明導電膜の界面には該アルミニウム合金の酸化皮膜が形成されており、該酸化皮膜の膜厚が１〜１０ｎｍで、該酸化皮膜中の酸素含有量が４４原子％以下である表示デバイスとその製法を開示する。 （もっと読む）

【課題】電極における線状電極部を精度良く残すとともに、開口部における残渣の発生を抑制することが可能な電気光学装置を提供すること。
【解決手段】共通電極における開口部４６（間隙部分）には、共通電極を形成する際に、絶縁層７６よりもＩＴＯ膜の結晶化を抑制させる物質からなる下地層４６が形成されている。つまり、下地層４６が形成された間隙となる部分におけるＩＴＯ膜の結晶粒子は、絶縁層７６上におけるＩＴＯ膜の結晶粒子よりも小さくなっている。よって、透明電極材料としてのＩＴＯ膜をエッチングする際に、間隙となる部分におけるエッチングレートは、絶縁層７６上におけるエッチングレートより高くなるため、下地層４６上のＩＴＯ膜を選択的に除去することができる。従って、電極における線状電極部を精度良く残すとともに、開口部における残渣の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】プラスチック液晶素子に対し同一箇所を多数回押すと圧痕が生じる。この圧痕が生じにくい液晶素子を提供する。
【解決手段】下側プラスチック基板２１１の液晶層２０８側の面にホトリソスペーサ２０９が形成された液晶素子２１において、上側のプラスチック基板２０２には、表示電極２０３を覆いホトリソスペーサ２０９よりも硬い樹脂層２０４が備えられている。樹脂層２０４によりホトリソスペーサ２０９がプラスチック基板２０２にめり込まなくなるため圧痕が解消する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好な配向膜を液体材料の吐出によって形成することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、基板１０と、基板１０上に形成された無機材料層１８と、無機材料層１８上に形成された配向膜２６と、配向膜２６上に配置された液晶１６と、を含む。無機材料層１８には、配向膜２６の外側に溝２４が形成されている。溝２４の、配向膜２６の側の辺の輪郭が、凸凹に形成されている。 （もっと読む）