【課題】 優れた透明性、優れた滑り性が求められる用途として知られている、例えば、タッチパネル等の透明電極用のフィルム部材や、成形用フィルム等の部材に好適に利用することができ、特に取り扱い性が容易であり、熱処理後においても優れた透明性を有する積層フィルムを提供する。
【解決手段】 非耐熱性粒子を含有する塗布液から形成された塗布層をフィルムの少なくとも片面に有することを特徴とする積層フィルムであり、フィルムとしてはポリエステルフィルムが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板のずれを防止し、微小輝点の発生率を低減することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、第１基板２８と第２基板３６とのギャップを保持するスペーサ８０と、第２配向膜２２側に窪み６６を有する下地層４０と、対向する第１配向膜１８の第１面２０及び第２配向膜２２の第２面２４に挟まれた液晶層２６と、を有し、第１配向膜１８は、スペーサ８０の形状に沿って、第１面２０が突出する第１凸部８２を有し、下地層４０の窪み６６の底面は、凹凸状に形成され、第２配向膜２２の第２面２４には、下地層４０の形状に対応して窪み８４が形成され、第２配向膜２２の窪み８４は、第２配向膜２２の第２面２４よりも低い第２凸部７６と、第２凸部７６よりも低い底面を有する凹部７８とによって凹凸状に形成され、第１配向膜１８の第１凸部８２は、第２配向膜２２の窪み８４に入って第２凸部７６に接触している。 （もっと読む）

【課題】 量産性に適した優れた感度、及び、高温下に晒されても液晶配向能が低下しない、すなわち、耐熱性の優れた光配向膜を得る。
【解決手段】 基材上に接触した配向膜を有する基板であって、基材の表面粗さＲａと配向膜を形成する分子長の関係がＲａ≦分子長であり、かつ、配向膜の厚さが８ｎｍ以下であることを特徴とする基板を提供する。本発明の基板を用いることで、特にインセル技術を用いた液晶表示素子の製造において、優れた生産性を発揮できる。 （もっと読む）

【課題】透光性基板に形成した溝の開口部を高い生産性をもって塞ぐことのできる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０には、画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する中空の溝２６０が形成されており、かかる溝２６０の開口部２６５は透光性絶縁膜２７によって塞がれている。このため、中空の溝２６０の側面２６１、２６２は、溝２６０内の媒質（真空）と第２基板２０の媒質との屈折率の差に起因する反射面となる。透光性絶縁膜２７は、シランガスを用いてＣＶＤ法により成膜したシリコン酸化膜であり、溝２６０の奥まで透光性絶縁膜２７が形成されることはない。それ故、溝２６０において反射面として機能する側面２６１、２６２の面積が広い。 （もっと読む）

【課題】表示装置の視認側に配置する液晶シャッタであって、軽量化しかつ耐衝撃性を向上させた液晶シャッタを提供する。さらに、当該液晶シャッタを具備し視認性を向上させた立体表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置ＬＣＤの視認側に配置する液晶シャッタＧであって、対向配置された一対の透明基板と、前記一対の透明基板の内側に設けられる一対の透明電極と、前記一対の透明電極の間に挟持される液晶層とを有し、当該一対の透明基板の少なくとも一方が、セルロースアセテートを含有する透明樹脂基板である。 （もっと読む）

【課題】基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。
【解決手段】エッチング方法は、１断目エッチング処理槽６１において、温度ｔ１を有するエッチング液を用いて、金属膜の表層を除去する工程と、金属膜の表層を除去する工程の後に、２〜４段目エッチング処理槽６２〜６４において、温度ｔ１よりも高い温度ｔ２を有するエッチング液を用いて、金属膜をパターニングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】目盛の視認性を高めることを目的とする。
【解決手段】第１光透過性基板１２には開口部２２内に第１目盛部２４が形成され、第２光透過性基板３２には第２目盛部４４が形成されている。第２光透過性基板３２には、第１金属層３４、半導体層３６及び第２金属層３８が積層され、薄膜トランジスタ５０は、第１金属層３４の一部、半導体層３６の一部及び第２金属層３８の一部を含むように構成され、第２目盛部４４は、第２金属層３８の他の一部から構成され、第２目盛部４４の下に、第２目盛部４４からはみ出すように、半導体層３６の他の一部が形成され、第２目盛部４４及び半導体層３６の下に、第１金属層３４の他の一部が、開口部２２を遮蔽する大きさで形成されている。 （もっと読む）

【課題】パターン加工した透明電極と下地との表面の段差に起因するラビングムラを抑制し、表示ムラのない液晶表示装置を実現するカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】透明基板１上のブラックマトリックス２の開口部に赤、緑、青の各画素が形成され、各画素上に透明導電膜５と絶縁膜６が形成された液晶表示装置用カラーフィルタ基板において、透明導電膜はパターン形成され、該透明導電膜が除去された部分には絶縁膜が形成されており、かつ透明導電膜と絶縁膜における表面の段差が５０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】画面に帯電した静電気を良好に除去することができる表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、第１主表面を含む第１基板４１１と、第１主表面と対向する第２主表面と、第２主表面と反対側に位置する第３主表面とを含み、第１基板４１１と間隔をあけて配置された第２基板４２１と、第１基板４１１および第２基板４２１の間に位置し、液晶分子を含む液晶層４３０と、第１基板４１１に形成された第１電極４１２と、第１電極４１２と協働して、液晶分子の向きを制御可能な第２電極４１３と、第３主表面に向けて正イオンおよび負イオンを選択的に吹き付けるイオン放出モジュールと、第３主表面の電気的極性を検知可能な検知部とを備える。上記イオン放出モジュールは、第３主表面が負極に帯電しているときに第３主表面に向けて正イオンを吹きつけ、第３主表面が正極に帯電しているときに第３主表面に向けて負イオンを放出する。 （もっと読む）

【課題】特に耐湿熱性が良好で、低コストで、ガスバリア性の良いガスバリア性フィルムの製造方法及びガスバリア層の形成方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基材上に、一般式（１）で表されるマレイミド基を有するモノマー化合物と１分子中に２以上の重合開始能部位を有する重合開始剤とを含む組成物で有機層を形成する工程と、その有機層上に無機層を形成する工程と、を有する。
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【課題】特に耐湿熱性が良好で、低コストで、ガスバリア性の良いガスバリア性フィルムの製造方法及びガスバリア層の形成方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基材１１上に、一般式（１）で表されるマレイミド基を有するモノマー化合物と重合開始剤と前記マレイミド基の二量化反応を増感させる増感剤とを含む組成物で有機層２を形成する工程と、その有機層２上に無機層３を形成する工程と、を有する（一般式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基若しくはアリール基を表すか、又は、Ｒ^１及びＲ^２は一つとなって５員環若しくは６員環を形成する炭化水素基を表す。）
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【課題】
優れたガスバリア性と透明導電性を有し、高温高湿度環境下においてもシート抵抗値の変化が少なく、低い値を保ち、導電性に優れる透明導電性フィルム、その製造方法、この透明導電性フィルムからなる電子デバイス用部材、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】
基材層、ガスバリア層及び透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、ガスバリア層が、ケイ素原子、酸素原子及び炭素原子を含む材料から構成されてなり、該ガスバリア層の表層部における、ケイ素原子、酸素原子及び炭素原子の含有量が、ケイ素原子、酸素原子及び炭素原子の合計１００原子％に対し、ケイ素原子：１８．０〜２８．０％、酸素原子：４８．０〜６６．０％、炭素原子：１０．０〜２８．０％であって、かつ、透明導電性フィルムの、４０℃９０％ＲＨ雰囲気下における水蒸気透過率が６．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、波長５５０ｎｍにおける可視光線透過率が９０％以上である透明導電性フィルム；その製造方法；この透明導電性フィルムからなる電子デバイス用部材；及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、ポリオレフィン樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、エポキシ樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、液晶性樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】硬化させて複合基板とし、これに湿熱処理等の信頼性試験を行ったとき、内部応力に起因する光学異方性の悪化が抑制された透明複合基板を提供可能な樹脂組成物、および、かかる樹脂組成物を用いて製造された透明複合基板および表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、硬化させて複合基板としたときに、透明な透明複合基板を製造可能なものであり、エポキシ系樹脂と、ガラスフィラーと、ヒンダードフェノール系酸化防止剤と、を含むものである。また、エポキシ系樹脂には、グリシジル型エポキシ樹脂と脂環式エポキシ樹脂とを併用するのが好ましい。また、ガラスフィラーとしては、ガラス繊維布が好ましく用いられる。さらに、ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、リン系酸化防止剤とともに用いられるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧を低減させ、より高コントラスト化を可能とするブルー相を示す液晶材料を用いた液晶表示装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ブルー相を示す液晶層を含む液晶表示装置において、第１の電極層（画素電極層）上に第１の壁状構造体、同様に第２の電極層（共通電極層）上に第２の壁状構造体を設け、これらを誘電体膜で被覆する構成とする。誘電体膜は、第１の壁状構造体及び第２の壁状構造体及び液晶層に用いられる液晶材料の誘電率より高い誘電率を有する絶縁体であり、液晶層に突出するように設けられる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面平滑性に優れ、薄膜素子の特性劣化を抑制することが可能な薄膜素子用基板が得られる新規な薄膜素子用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材に薬液処理を施す金属基材表面処理工程と、上記金属基材上にポリイミド樹脂組成物を塗布して絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを有し、上記絶縁層の表面粗さＲａが３０ｎｍ以下であることを特徴とする薄膜素子用基板の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】薄型化及び軽量化が可能であり、しかも、信頼性の高い表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された光スイッチング機能層と、を備え、前記第１基板及び前記第２基板の各々は、プラスチック基板と、前記プラスチック基板の前記光スイッチング機能層が配置される内面をカバーする第１ガス遮蔽体と、前記プラスチック基板の外面をカバーするとともに前記第１ガス遮蔽体よりもガスバリア性能が低い第２ガス遮蔽体と、を有することを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】ガラスクロスを複合化させることにより熱膨張係数が低いだけでなく、ガラスクロスの繊維形状を反映した凹凸が表面に生じ難い透明複合シートを得る。
【解決手段】本発明に係る透明複合シート１は、対向する第１，第２の面１ａ，１ｂを有する。本発明に係る透明複合シート１は、透明樹脂硬化物と、該透明樹脂硬化物中に埋め込まれたガラスクロスとを含有する。本発明に係る透明複合シート１では、該シート表面のガラスクロスの経糸もしくは緯糸の周期と一致した表面凹凸の振幅が、第１の面１ａで０．５〜５μｍであり、第２の面１ｂで０．４μｍ以下である。 （もっと読む）