【課題】本発明は、透過型液晶表示装置、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置などの、ＴＦＴ基板側が受光面または発光面となるフレキシブルディスプレイに用いることができるＴＦＴ基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、光透過性および絶縁性を有し、樹脂を含有する平坦化層と、上記平坦化層の一方の面にパターン状に形成され、フレキシブル性を有する金属層と、上記平坦化層の上記金属層側とは反対側の面に形成されたＴＦＴ素子および画素電極とを有し、上記画素電極が形成されている画素電極形成領域の少なくとも一部と、上記金属層が形成されていない金属層非形成領域の少なくとも一部とが重なるように配置されていることを特徴とするＴＦＴ基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面平滑性に優れ、薄膜素子の特性劣化を抑制することが可能な薄膜素子用基板が得られる新規な薄膜素子用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材に薬液処理を施す金属基材表面処理工程と、上記金属基材上にポリイミド樹脂組成物を塗布して絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを有し、上記絶縁層の表面粗さＲａが３０ｎｍ以下であることを特徴とする薄膜素子用基板の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】電子ペーパー等の表示装置に適用した場合に、その消費電力を小さくでき、歩留まりを向上させることができるアクティブマトリクス型駆動基板及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】第１絶縁膜２を表面に有する導電基材１上に設けられた薄膜トランジスタ１０及び保持容量２０と、薄膜トランジスタ１０及び保持容量２０を第２絶縁膜１６，１７を介して覆う画素電極３０を有し、保持容量２０が第１電極２１と誘電体膜２２と薄膜トランジスタ１０のソース・ドレイン電極１４，１５に接続する第２電極２３との積層体であるアクティブマトリクス型駆動基板５０であって、導電基材１と第１電極２１とが第１絶縁膜２の開口部４で接続されているように構成する。第２絶縁膜（１６，１７）が少なくとも層間絶縁膜１７を有し、導電基材１が金属基材であり、第１絶縁膜２が金属基材１の表面粗さを低減する平坦化膜であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】液晶装置を製造する際に、残渣を好適に除去し、ラビングスジの発生を防止する。
【解決手段】液晶装置の製造方法は、複数の基板（１０）が配列された大型基板（１００）上に導電膜（２１０）を形成する導電膜形成工程と、大型基板における複数の基板が配列されない周囲部分に形成された導電膜を除去する導電膜除去工程と、周囲部分に残存する残渣（３００）を除去する残渣除去工程と、導電膜及び周囲部分を覆うように絶縁膜（２２０）を形成する絶縁膜形成工程と、周囲部分に形成された絶縁膜を除去する絶縁膜除去工程と、絶縁膜の上層側に配向膜（１６）を形成する配向膜形成工程と、配向膜にラビング処理を施すラビング工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】金属基板と、この金属基板上に形成された平坦化層を具える可撓性の電子デバイス用基板において、その表面検査及び形成された電極パターンの検査を少ない誤差で良好に行う。
【解決方法】金属基板と、前記金属基板上に形成されるとともに、３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲の光において少なくともその一部の波長に対して吸収性を呈する光吸収層ととを具えるようにして電子デバイス用基板を構成する。 （もっと読む）

【課題】表示素子基板として用いられ得る薄型の可撓性シートへのダメージおよび汚染が少なく、かつ搬送性にも優れた素子作製工程用基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示素子用基板１００は、剛直板１０と、剛直板１０の片側に配置されたハードコート層１１、ハードコート層の剛直板１０が配置されていない側に配置された可撓性シート１２とを備える。このような構成であれば、剛直板が支持体として機能し得、可撓性シートに負荷がかからないので、可撓性シートはダメージを受けずに搬送され得る。 （もっと読む）

【課題】蒸着機をいじることなく、斜方蒸着配向膜を均一な膜厚にできる液晶表示素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極基板と透明電極基板とが液晶を介して互いに対向配置された液晶表示素子であって、 前記画素電極基板と前記透明電極基板とのそれぞれの前記液晶に接する面側に、基板面に対して斜め方向から蒸着形成された第１斜方蒸着配向膜と、基板面に対して垂直方向から蒸着形成された垂直蒸着膜と、前記垂直蒸着膜を介して、前記第１斜方蒸着配向膜形成時と基板の上下を１８０度回転し基板面の法線に対して前記斜め方向から対称な斜め方向から蒸着形成された第２斜方蒸着配向膜とが順に積層形成され、基板全面で蒸着膜の総厚が一定である液晶表示素子とする。 （もっと読む）

【課題】金属基板による寄生静電容量の発生を防止できる表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ストレージ電圧を供給する複数のストレージラインを備えた画素アレイ及びストレージラインに接続される供給ラインが形成された金属基板と、ストレージ電圧を生成し、供給ラインに接続された電圧源と、を備える表示素子を提供する。ここで、金属基板は、電圧源の出力端子、供給ラインまたはストレージラインのいずれかと接続されるようにする。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成されたパターンの倒壊や除去された汚染物質の再付着を防止しつつ基板表面の汚染物質を確実に除去する基板洗浄方法、半導体装置の製造方法及び基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板を回転させながら薬液を基板に供給して基板表面を洗浄する基板洗浄方法であって、基板１２に第１の薬液を供給して基板１２表面を第１の薬液で満たす工程と、第１の薬液で満たした基板１２表面に対して第２の薬液を用いて二流体ジェット洗浄法により基板１２表面を洗浄する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性及びとフレキシビリティ（柔軟性）を具えると共に、ＴＦＴ等の電子デバイスを構成する膜の剥離及びクラックの発生を防止することができる電子デバイス基板用絶縁被覆金属箔及びその製造方法を提案する。
【解決手段】電子デバイス基板用絶縁被覆金属箔には、表面粗さＲａが３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である金属箔と、有機基で修飾された無機ポリマーからなり、前記金属箔の表面を被覆する絶縁膜と、が設けられている。また、有機基で修飾された無機ポリマーの絶縁膜では、Ｓｉに結合している有機基がメチル基又はフェニル基の一方又は両方であり、ヤング率が１０²ＭＰａ以上１０⁴ＭＰａ以下である。また、有機基で修飾された無機ポリマー膜の絶縁膜の厚さが０．８μｍ以上４０μｍ以下である。前記金属箔が、ステンレス箔であり、光沢度Ｇｓ（４５°）が３００以上５００未満で、表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 液晶プロジェクター等に用いる、液晶パネルの保護用透明基板を、光透過性がよく、熱伝導性がよく、かつ作業性の良いものとする。
【解決手段】 高熱伝導性透明立方晶多結晶体基板を用いる。該高熱伝導性透明立方晶多結晶体基板はその表面にコーティング層が形成されたものを用いると良く、さらに、該コーティング層は複層とするのが好ましい。コーティングの材料は、金属弗化物と金属酸化物から選択される２種以上とするのが良く、該コーティングにより、光透過性が向上し、かつ環境安定性も向上する。 （もっと読む）

【課題】イオン密度及びイオン密度の経時的な変動に伴う電気特性に対する長期信頼性の問題が改善された液晶表示素子用の液晶配向剤、それを用いて形成される液晶配向膜、及びそれを具備した液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ポリアミック酸及びその誘導体から選ばれる一又は二以上のポリマーと、アルケニル置換ナジイミド化合物と、特定のヘテロ環化合物とを液晶配向剤に配合し、これを膜状に成形し、焼成して液晶配向膜を作製し、これを有する液晶表示素子を作製する。 （もっと読む）

【課題】高濃度のオゾン水を常温常圧下においてもその濃度をほとんど低下させることなく保管することのできるオゾン水の保管方法を提供する。
【解決手段】貯留容器１０内に所定濃度のオゾン水１を収容し、該オゾン水１の液面に有機膜２を形成することを特徴とするオゾン水の保管方法である。この有機膜２は、ｎ−ドデカンをはじめとする脂肪族炭化水素等から形成される。 （もっと読む）

【課題】ヒケを防ぐことができる光学素子の成形方法及び導光板を提供する。
【解決手段】金型３０及び基板１０のうち少なくともいずれか一方を弾性体で形成する。金型３０と基板１０との間にＵＶ硬化型樹脂２０Ａを充填し、充填されたＵＶ硬化型樹脂２０Ａが硬化した後、金型３０を離すことによって導光板等の光学素子を製造する。 （もっと読む）

【課題】外形に曲線を含む基板を生産性良く製造が可能となる基板の分断方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】基板３４の内部にレーザ光を集光して照射し、改質部を配列して形成する。改質部の中心にはクラック部３８が形成される。孔部４０ａが形成されているダイプレート４０に基板３４を配置し、クラック部３８が孔部４０ａと対応するようにする。基板３４のクラック部３８で囲まれた場所をポンチ４２で押圧して、クラック部３８に剪断力を加える。クラック部３８を起点としてクラックが進行して、クラック部３８に囲まれた廃材部４３が基板３４から分断される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スペーサー部が、表示品質を損なわない領域に高精度で形成され、表示品質に優れスペーサーフィルターを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は本発明は、基材と、上記基材上にパターン状に形成された遮光部と、上記基材の上記遮光部により区画された開口部を覆うように形成された着色層と、上記遮光部および上記着色層を覆うように形成された透明電極層と、上記透明電極層上であり、かつ、上記遮光部が形成された範囲内に形成された枠状の隔壁部と、上記隔壁部の内側に形成され、ビーズおよび樹脂を含有するスペーサー部と、を有することを特徴とするカラーフィルターを提供することにより上記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、荷重に対して変位量が大きく、かつ不可逆変位量の少ない、フレキシブル性の高いスペーサ付表示装置用基板を提供することを目的としている。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、樹脂製基材と、前記樹脂製基材上の所定の位置に形成されたパターンスペーサとを有するスペーサ付表示装置用基板であって、
前記パターンスペーサの垂直方向から前記スペーサ付表示装置用基板に荷重をかけた際の前記スペーサ付表示装置用基板の変位量が、前記パターンスペーサのみに前記荷重をかけた際の変位量より大きく、かつ前記スペーサ付表示装置用基板に前記荷重をかけた際の前記スペーサ付表示装置用基板の不可逆変位量が、前記パターンスペーサのみに前記荷重をかけた際の不可逆変位量より小さいことを特徴とするスペーサ付表示装置基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ及びその製造方法に関し、特に、漏洩電流を減少するための薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】可撓性基板１００と、可撓性基板１００上に形成される拡散防止層１１０と、拡散防止層１１０上に少なくとも二個の絶縁物質が積層して形成されるバッファ層１２０と、バッファ層１２０の一の領域上にチャンネル層１３０aとソース／ドレイン領域１３０ｂを有して形成される半導体層１３０と、半導体層１３０を含むバッファ層１２０上に形成されるゲート絶縁層１４０と、ゲート絶縁層１４０上のチャンネル層１３０aと対応する領域に形成されるゲート電極１５０と、ゲート電極１５０を含むゲート絶縁層１４０上に形成される層間絶縁層１６０と、層間絶縁層１６０にソース／ドレイン領域１３０bの少なくとも一の領域を露出させる所定のコンタクトホール１７０有し、ソース／ドレイン領域１３０ｂに接続されるように形成されるソース／ドレイン電極１８０a、１８０ｂと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、高度な平坦性の要求を満足することができる複合シート、基板およびそれを用いた電子デバイスを提供することにある。
【解決手段】 本発明の複合シートは、緯糸と経糸とで構成されるガラス織布に熱硬化性樹脂を含む樹脂材料を担持してなる複合シートであって、前記ガラス織布の４０ｍｍ×４０ｍｍの領域における光線透過率の分布がほぼ均一であることを特徴とする。また、本発明の基板は、上記に記載の複合シートを備えることを特徴とする。また、本発明の電子デバイスは、上記に記載の基板を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．５５以上で、光線透過率が高く、強度、剛性、靭性、耐熱性、ガスバリア性、熱膨張率、複屈折率などに優れた性能を有する透明複合材料の提供。
【解決手段】金属アルコキシドの部分縮合物と熱硬化性樹脂前駆体とを均一混合し、次いで重合およびゲル化して得られる有機無機分子ハイブリッド硬化物をマトリックス樹脂とし、無機繊維を補強材としてなる複合材料であって、該硬化物および無機繊維の屈折率が１．５５以上且つアッベ数が４０以上であり、該複合材料の光線透過率が８０％以上である、透明複合材料。 （もっと読む）