【課題】ガラス板を侵食させたりして表面状態を悪化させることがなく、不良となったカラーフィルタの積層材料を除去でき、処理費用が安価な、ガラス板の再生方法及び再生装置を提供すること。
【解決手段】不良となったカラーフィルタを、連続的に投入するカラーフィルタ用ガラス板再生工程内に、ポジ型の感光性材料からなる樹脂膜（ポジ型）を、光分解するための紫外線露光工程と、紫外線露光された前記樹脂膜（ポジ型）を、除去するアルカリ洗浄工程を有することを特徴とするカラーフィルタ用ガラス板再生方法。 （もっと読む）

【課題】処理対象基板とランプとの間に空気が流入することが抑制され、従って、処理対象基板に対して高い効率で光を照射することができる光照射装置を提供する。
【解決手段】基板搬送路に沿って搬送される処理対象基板の一面に向けて光を照射するエキシマランプが内蔵されたランプハウスと、前記処理対象基板と前記エキシマランプとの間に不活性ガスを供給するガス供給手段とを備えてなり、前記基板搬送路における前記ランプハウスの上流側に当該ランプハウスに隣接して圧力緩衝空間が形成された光照射装置であって、基板搬送路における圧力緩衝空間の上流側には、処理対象基板における光が照射される一面に沿って流れる空気を排出する空気排出手段が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 表示品位を改善することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 各画素に配置されたスイッチング素子と、複数の画素に亘って形成された共通電極と、前記共通電極の上に配置された絶縁膜であって前記共通電極まで貫通した貫通孔が形成された絶縁膜と、前記スイッチング素子と電気的に接続されるとともに前記絶縁膜の上において各画素に形成され前記共通電極と向かい合う画素電極であって前記貫通孔上にスリットが形成された画素電極と、前記画素電極及び前記貫通孔で前記絶縁膜から露出した前記共通電極を覆う第１配向膜と、を備えた第１基板と、前記第１配向膜と対向する第２配向膜を備えた第２基板と、前記第１基板の前記第１配向膜と前記第２基板の前記第２配向膜との間に保持された液晶層と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】カスケード方式の洗浄装置における菌体の繁殖を簡易な手段で防止することができ、被洗浄物の洗浄効率を向上させることができる洗浄装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１がローラー２で搬送され、ジェット洗浄ノズル３及び最終リンスノズル４で洗浄される。最終リンスノズル４に純水が供給される。最終リンスノズル４からの洗浄排水がタンク７に流入し、ポンプ９からノズル３に供給される。タンク７内の菌体数が増加した場合、タンク７内の水をオゾン水供給装置１２に循環通水し、タンク７内にオゾン水を供給し、殺菌する。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れた透明複合基板および前記透明複合基板を備えた信頼性の高い表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の透明複合基板１は、ガラスクロス（ガラス布帛）２とガラスクロス２に含浸したアッベ数が４５以上である樹脂材料３とを有する複合層４と、複合層４上に設けられたガスバリア層５と、を有し、ガスバリア層５は、ＳｉＯｘＮｙで表され、ｘおよびｙが０．３＜ｘ／（ｘ＋ｙ）≦１の関係を満足するケイ素化合物で構成されている。また、ガスバリア層５を構成するケイ素化合物では、ｘが１≦ｘ≦２の関係を満足し、かつｙが０≦ｙ≦１の関係を満足することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 窯の劣化を起こすことなく、泡品位、均質性及び平坦性に優れた無アルカリガラス基板を得ることが可能なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料を調合し、溶融、成形する珪酸塩ガラスの製造方法であって、メディアン粒径Ｄ_５０が７０〜２００μｍであり、粒径４５μｍ未満の粒子の質量割合が３０％未満、粒径２５０μｍ以上の粒子の質量割合が１０％未満の粒度分布となるように調製したシリカ原料を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンＦが設けられ、該パターンＦは該表面において、異なる支圧応力を具えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高圧応力領域１２と低圧応力領域１３を包含し、低圧応力領域１３によりこれら高圧応力領域１２相互間が隔離設置される。該ガラス基板の高圧応力領域１２はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低圧応力領域１３は加工性を保持し、ガラス基板を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 （もっと読む）

【課題】イオン性不純物トラップ用の電極を設けなくても、イオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶装置１００においては、フレーム反転駆動方式が採用されている。また、第１基板１０側の配向膜１６には、画素電極９ａの端部に平面視で重なる部分に、配向膜１６の膜厚を他の領域より薄くする凹部１６ａが設けられている。凹部１６ａが設けられている部分では、液晶層５０に印加される電界が他の領域と相違しているため、電界が加わった際の液晶分子５０ｂの姿勢が他の領域と相違している。この液晶層５０での流動が阻害されるので、イオン性不純物が移動しにくい。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面に支圧応力層パターンを形成する方法及び該方法で製造されたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板１にマスク２を設けて化学イオン強化処理を実施することにより、ガラス基板１の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンが設けられ、該パターンは該表面において、異なる支圧応力を備えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高支圧応力領域と低支圧応力領域を包含し、低支圧応力領域によりこれら高支圧応力領域相互間が隔離設置される。該ガラス基板１の高支圧応力領域はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低支圧応力領域は加工性を保持し、ガラス基板１を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、配向欠陥を低減することができる垂直配向型液晶表示素子を提供する。
【解決手段】液晶表示素子は、第１電極６と第２電極７とが重なる領域で画素８を形成するドットマトリクス表示の垂直配向型液晶表示素子である。第１電極６の画素８の形成領域には、液晶ダイレクタ方向Ｎと直交する方向に延在する第１スリット６Ｓが形成され、第２電極７の画素８の形成領域には、液晶ダイレクタ方向Ｎと直交する方向に延在し、第１スリット６Ｓよりも液晶ダイレクタ方向Ｎ側に位置する第２スリット７Ｓが形成され、第１スリット６Ｓと第２スリット７Ｓは、画素８の中心（中心点Ｏ）を挟んで互いに位置する。 （もっと読む）

【課題】治具を使用することなくガラス基板に対して化学研磨処理を施すことが可能な枚葉式の化学研磨装置を提供する。
【解決手段】化学研磨装置１０は、搬送部および研磨処理部を少なくとも備える。搬送部は、ガラス基板１００の底面を支持しつつ水平方向に搬送するように構成された複数の搬送ローラ５０を備える。研磨処理部は、第１〜第４の処理チャンバ１６，１８，２０，２２、第１〜３の中継部２８，３０，３２を備える。第１〜第４の処理チャンバ１６，１８，２０，２２は、それぞれがガラス基板に対して同一組成の化学研磨液を噴射するように構成される。第１〜３の中継部２８，３０，３２は、各処理チャンバを連結するように構成される。第１〜第４の処理チャンバ１６，１８，２０，２２のそれぞれは、ガラス基板１００の搬送方向に直交する方向に揺動可能な噴射ノズルを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた樹脂層付きキャリア基板を用いた、生産性に優れた電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】剥離性ガラス基板と電子デバイス用部材とを含む電子デバイスの製造方法であって、易剥離性を示す表面を有する剥離性ガラス基板を得る表面処理工程と、剥離性ガラス基板上に未硬化の硬化性樹脂組成物層を形成する硬化性樹脂組成物層形成工程と、キャリア基板を未硬化の硬化性樹脂組成物層上に積層する積層工程と、未硬化の硬化性樹脂組成物層を硬化し、樹脂層を有する硬化後積層体を得る硬化工程と、硬化後積層体中のキャリア基板の外周縁に沿って、樹脂層および剥離性ガラス基板を切断する切断工程と、剥離性ガラス基板上に電子デバイス用部材を形成し、電子デバイス用部材付き積層体を得る部材形成工程と、電子デバイス用部材付き積層体から電子デバイスを分離して得る分離工程と、を備える電子デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた樹脂層付きキャリア基板を用いた、生産性に優れた電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板と電子デバイス用部材とを含む電子デバイスの製造方法であって、易剥離性を示す表面を有する剥離性補助基板を準備する補助基板準備工程と、剥離性補助基板と、未硬化の硬化性樹脂組成物層と、キャリア基板とをこの順で有する硬化前積層体を形成する第１の積層工程と、硬化前積層体中の未硬化の硬化性樹脂組成物層を硬化する硬化工程と、硬化後積層体から樹脂層付きキャリア基板を分離して得る第１の分離工程と、樹脂層表面上にガラス基板を剥離可能に積層する第２の積層工程と、ガラス基板の表面上に電子デバイス用部材を形成し、電子デバイス用部材付き積層体を得る部材形成工程と、電子デバイス用部材付き積層体から、電子デバイスを分離して得る第２の分離工程と、を備える電子デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに第１の処理液Ｄを供給する第１の処理液供給手段９と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、所定のガス流を吹き付ける気体供給手段２１と、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液Ｓを吐出する第２のリンス手段２３と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段２２と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段により供給された第２の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】液滴が衝突する基板内の衝突位置での膜厚のばらつきを低減することにより、処理の均一性を向上させること。
【解決手段】洗浄ノズル５は、複数の噴射口３１が形成された噴射部６と、吐出口３６が形成された吐出部７とを含む。複数の噴射口３１は、複数の液滴がそれぞれ基板Ｗ内の複数の衝突位置Ｐ１に衝突するように形成されている。吐出口３６は、各衝突位置Ｐ１からの距離Ｄが等しい基板Ｗ内の着液位置Ｐ２に保護液が着液するように形成されている。洗浄ノズル５は、吐出口３６から吐出された保護液の液膜によって覆われている基板Ｗに複数の噴射口３１から噴射された複数の液滴を衝突させる。 （もっと読む）

【課題】表面に異物や汚れが付着しても、それらを容易に除去することができる有機物薄膜付きガラス基板の製造方法および有機物薄膜付きガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板ＧＳの表面に有機物の薄膜を形成する被膜工程を含む。被膜工程において、フタル酸エステルの雰囲気下にガラス基板ＧＳの表面を曝す。これにより、ガラス基板ＧＳの表面におけるフタル酸エステルの平均付着量が１ｃｍ²当たり０．５ｎｇ以上かつ１５ｎｇ以下となるようフタル酸エステルを表面に付着させ、かつ、ガラス基板ＧＳの表面の任意の１ｃｍ²に少なくとも０．１ｎｇのフタル酸エステルを付着させる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、端面強度を向上させ、かつ、端面強度のバラツキを低減すると共に、端面におけるパーティクルの発生を効果的に抑制することができるガラス基板の製造方法およびガラス基盤を提供することである。
【解決手段】本発明に係るガラス基板の製造方法は、ガラス基板の端面を研削し、かつ、研削された端面をエッチング処理する端面処理工程を含む。端面処理工程において、エッチング処理後におけるガラス基板の端面の粗さは、Ｒｓｍ値で１０μｍ以上かつ３５μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、タッチパネルディスプレイのカバーガラスとして利用可能な強度及び視認性を有する抗菌性ガラスを供給することを目的とした。
【解決手段】表層に抗菌物質を有する抗菌性ガラスであって、該抗菌性ガラスは表層において、ガラス表面から深さ３０μｍ以内に銀イオンの拡散層と、ガラス表面から深さ方向に厚み１５μｍ以上の圧縮層とを有し、表面圧縮応力が４８０ＭＰａ以上であり、前記表層において、蛍光Ｘ線分析法によって測定されたカリウムのＸ線強度（Ｋ）と銀のＸ線強度（Ａｇ）との比（Ａｇ／Ｋ）が０．０００５〜０．５であることを特徴とすることを特徴とする抗菌性ガラス。 （もっと読む）

【課題】厚みを増すことなく、表示品位の低下を防止することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、液晶を挟むための上ガラス基板１２及び下ガラス基板１４を有する液晶表示パネル１０と、液晶表示パネル１０に対して下ガラス基板１４側から面状に光を発するバックライト２２と、を有し、上ガラス基板１２及び下ガラス基板１４のそれぞれは、バックライト２２とは反対側を向く上面３４ｕ，３４ｄと、バックライト２２を向く下面３６ｕ，３６ｄと、上面３４ｕ，３４ｄ及び下面３６ｕ，３６ｄを接続する周端面３８ｕ，３８ｄを有し、上ガラス基板１２及び下ガラス基板１４の周端面３８ｕ，３８ｄは、上面３４ｕ，３４ｄよりも下面３６ｕ，３６ｄが外方向に突出することで、斜め上を向くように傾斜する順テーパ端面４０ｕ，４０ｄを含み、順テーパ端面４０ｕ，４０ｄは、粗面である。 （もっと読む）