【課題】光学特性に優れた透明複合基板および前記透明複合基板を備えた信頼性の高い表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の透明複合基板１は、ガラスクロス（ガラス布帛）２とガラスクロス２に含浸したアッベ数が４５以上である樹脂材料３とを有する複合層４と、複合層４上に設けられたガスバリア層５と、を有し、ガスバリア層５は、ＳｉＯｘＮｙで表され、ｘおよびｙが０．３＜ｘ／（ｘ＋ｙ）≦１の関係を満足するケイ素化合物で構成されている。また、ガスバリア層５を構成するケイ素化合物では、ｘが１≦ｘ≦２の関係を満足し、かつｙが０≦ｙ≦１の関係を満足することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面に支圧応力層パターンを形成する方法及び該方法で製造されたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板１にマスク２を設けて化学イオン強化処理を実施することにより、ガラス基板１の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンが設けられ、該パターンは該表面において、異なる支圧応力を備えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高支圧応力領域と低支圧応力領域を包含し、低支圧応力領域によりこれら高支圧応力領域相互間が隔離設置される。該ガラス基板１の高支圧応力領域はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低支圧応力領域は加工性を保持し、ガラス基板１を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 （もっと読む）

【課題】 優れた透明性、優れた滑り性が求められる用途として知られている、例えば、タッチパネル等の透明電極用のフィルム部材や、成形用フィルム等の部材に好適に利用することができ、特に取り扱い性が容易であり、熱処理後においても優れた透明性を有する積層フィルムを提供する。
【解決手段】 非耐熱性粒子を含有する塗布液から形成された塗布層をフィルムの少なくとも片面に有することを特徴とする積層フィルムであり、フィルムとしてはポリエステルフィルムが好ましい。 （もっと読む）

【課題】表面に異物や汚れが付着しても、それらを容易に除去することができる有機物薄膜付きガラス基板の製造方法および有機物薄膜付きガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板ＧＳの表面に有機物の薄膜を形成する被膜工程を含む。被膜工程において、フタル酸エステルの雰囲気下にガラス基板ＧＳの表面を曝す。これにより、ガラス基板ＧＳの表面におけるフタル酸エステルの平均付着量が１ｃｍ²当たり０．５ｎｇ以上かつ１５ｎｇ以下となるようフタル酸エステルを表面に付着させ、かつ、ガラス基板ＧＳの表面の任意の１ｃｍ²に少なくとも０．１ｎｇのフタル酸エステルを付着させる。 （もっと読む）

【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、液晶表示素子を提供する。
【解決手段】染料等を含む着色パターン６と、エポキシ基を有する化合物を含む感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜８と、アルカリ可溶性樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサ９と、下式（ＣＡ）のテトラカルボン酸二無水物成分を用いて得られるポリアミック酸もしくはポリイミドを含む液晶配向剤から形成される配向膜１２とを用いてカラーフィルタ１０を製造し、それを用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】高い水蒸気バリアー性能を有するとともに、耐水性、耐熱性及び透明性及び平滑性に優れた水蒸気バリアーフィルムとその製造方法及びその水蒸気バリアーフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】基材１上に水蒸気バリアー層２と保護層３が積層された水蒸気バリアーフィルム１０（１１）を製造するにあたり、ポリシラザンを含有した第１の塗布液を基材１上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して水蒸気バリアー層２を形成する工程と、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした時に、蒸発速度が４０以下の第一溶媒と、蒸発速度が１００以上の第二溶媒を含み、且つポリシロキサンを含有した第２の塗布液を水蒸気バリアー層２上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して保護層３を形成する工程とを経るようにして、水蒸気バリアーフィルム１０（１１）を作製するようにした。 （もっと読む）

【課題】高い耐久性と良好な水蒸気バリアー性能を有する水蒸気バリアーフィルムの製造方法を実現し、そのような優れた性能を有する水蒸気バリアーフィルムと、その水蒸気バリアーフィルムを用いた水蒸気バリアー性に優れた電子機器を得ること。
【解決手段】基材１上に水蒸気バリアー層４と保護層５が積層された水蒸気バリアーフィルム１０において、その水蒸気バリアーフィルム１０の周縁部の少なくとも一部に、その中央側よりも水蒸気透過率が低い低透過領域Ｒｂを形成することとした。この低透過領域Ｒｂは、周縁部の全体に亘って形成されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れた透明複合基板、および、かかる透明複合基板を備えた表示素子基板を提供することにある。
【解決手段】本発明の透明複合基板は、ガラスクロスと、ガラスクロスに含浸した脂環式エポキシ樹脂を主成分とする樹脂材料と、ガラスクロスの表面に設けられ、ガラスクロスと樹脂材料との間に発生する応力を緩和する応力緩和成分と、を有し、応力緩和成分は、非イオン性官能基を含むものが好ましい。非イオン性官能基は、エポキシ基、（メタ）アクリロイル基、およびビニル基のうちの少なくとも１種であることが好ましく、応力緩和成分は、有機ケイ素化合物であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】透光性基板に形成した溝の開口部を高い生産性をもって塞ぐことのできる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０には、画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する中空の溝２６０が形成されており、かかる溝２６０の開口部２６５は透光性絶縁膜２７によって塞がれている。このため、中空の溝２６０の側面２６１、２６２は、溝２６０内の媒質（真空）と第２基板２０の媒質との屈折率の差に起因する反射面となる。透光性絶縁膜２７は、シランガスを用いてＣＶＤ法により成膜したシリコン酸化膜であり、溝２６０の奥まで透光性絶縁膜２７が形成されることはない。それ故、溝２６０において反射面として機能する側面２６１、２６２の面積が広い。 （もっと読む）

【課題】表示部の外側の外枠部を表示部と段差のない方法で形成した液晶表示パネル部材の作成方法及び液晶表示パネル部材を提供する。
【解決手段】液晶表示パネルに用いられる部材の作成方法において、表示パネルの中央部の表示部の外側に設ける外枠部を作成する方法であって、表示パネル基材１４の裏面に、表示部形状のマスクを介して、隠蔽性を有する蒸着層を単層または複数層形成し、蒸着層の表示部側をレーザー加工してザラツキのない内端を有する外枠部を作成することを特徴とする液晶表示パネル用部材の作成方法。 （もっと読む）

【課題】表示装置の視認側に配置する液晶シャッタであって、軽量化しかつ耐衝撃性を向上させた液晶シャッタを提供する。さらに、当該液晶シャッタを具備し視認性を向上させた立体表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置ＬＣＤの視認側に配置する液晶シャッタＧであって、対向配置された一対の透明基板と、前記一対の透明基板の内側に設けられる一対の透明電極と、前記一対の透明電極の間に挟持される液晶層とを有し、当該一対の透明基板の少なくとも一方が、セルロースアセテートを含有する透明樹脂基板である。 （もっと読む）

【課題】 異物遮蔽性に優れ、低コスト化を図ることのできる基板、基板を備えた表示装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｓは、表面に開口した凹部を有するシート状のコア部材１と、コア部材の表面全体を被覆した有機材料又は無機材料で形成されたバリア層５とを備えている。バリア層５は、コア部材１の凹部内に充填されている。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成によって、ガラス基板表面の傷の大小に関わらずガラス基板表面の傷が表示画像の質に悪影響を与えることを防止することが可能なフラットパネルディスプレイ用ガラス基板および同ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 この発明に係るフラットパネルディスプレイ用ガラス基板１００は、素ガラス１０および透光性ポリマー膜１２を備える。素ガラス１０は、エッチングにより算術平均粗さＲａが例えば０．７ｎｍ〜７０ｎｍになるように粗面化処理された表面を有する。透光性ポリマー膜１２は、素ガラス１０における表面処理された表面に塗布される。この透光性ポリマー膜１２は、その厚みが例えば０．５μｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】可撓性透明基板の上にカラーフィルタのパターンが形成された表示装置用カラーフィルタを、寸法精度良く、大量に製造する方法を提供する。
【解決手段】連続的に繰り出される搬送キャリア上へ枚葉形状の可撓性透明基板を仮固定する工程と、仮固定された可撓性透明基板の表面にカラーパターンを形成する工程と、カラーパターンが形成された可撓性透明基板を加熱処理する工程と、加熱処理された可撓性透明基板と搬送キャリアとを分離する工程とを備える製造方法により表示装置用カラーフィルタを製造した。 （もっと読む）

【課題】寸法安定性に優れたディスプレイ用フィルム基板の製造方法を提供する。
【解決手段】バリア層を設ける前の段階において、プラスチックフィルムに張力を加えることなくガラス転移温度より低い温度であって、前記ディスプレイ用フィルム基板上にカラーフィルタまたは駆動素子等のディスプレイ部材を形成する工程の温度以上の所定の温度で加熱処理して、歪みを解消し、その後の工程での寸法安定性を維持可能とした。そして、プラスチックフィルムの両面にバリア層を設けるようにして、さらに寸法安定性を増すとともに、ガス透過の防止をした。 （もっと読む）

【課題】スピンエッチング等を確実に行うことのできる基板、および当該基板を用いた電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】電気光学装置用基板１０ｓは、第１基板面１０ｔ側に第１面取り面１０ｅ、第１円弧面１０ｆを備え、第２基板面１０ｕ側に、第２面取り面１０ｉ、および第２円弧面１０ｈを有している。第１円弧面１０ｆの曲率半径Ｒaは第２円弧面１０ｈの曲率半径Ｒbより大であり、第１基板面１０ｔと第１面取り面１０ｅとが成す第１面取り角度θaは、第２基板面１０ｕと第２面取り面１０ｉとが成す第２面取り角度θbより大きい。平面視における第１面取り面１０ｅの幅寸法と平面視における第１円弧面１０ｆの幅寸法との和ｄaは、平面視における第２面取り面１０ｉの幅寸法と平面視における第２円弧面１０ｈの幅寸法との和ｄbより大である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透過型液晶表示装置、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置などの、ＴＦＴ基板側が受光面または発光面となるフレキシブルディスプレイに用いることができるＴＦＴ基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、光透過性および絶縁性を有し、樹脂を含有する平坦化層と、上記平坦化層の一方の面にパターン状に形成され、フレキシブル性を有する金属層と、上記平坦化層の上記金属層側とは反対側の面に形成されたＴＦＴ素子および画素電極とを有し、上記画素電極が形成されている画素電極形成領域の少なくとも一部と、上記金属層が形成されていない金属層非形成領域の少なくとも一部とが重なるように配置されていることを特徴とするＴＦＴ基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】 反射電極の間を通過する入射光の光量低減が要望されている。
【解決手段】 半導体基板に、複数のスイッチング素子が形成されている。半導体基板の上に、スイッチング素子に対応して配置され、対応するスイッチング素子に接続された反射電極が形成されている。反射電極の上面及び端面を覆い、反射電極の間の領域において、反射電極の底面と同じか、該底面よりも低い位置に上面が配置されているカバー絶縁膜が形成されている。反射電極の間のカバー絶縁膜の上に、遮光膜が形成されている。遮光膜の上面が、反射電極の上面よりも高い位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】良好なガスバリア性及び耐久性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法、及びガスバリア性フィルムを用いた装置を提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルム１０（１０Ａ）は、基材１と、基材１上に設けられた有機層２と、有機層２上に設けられた無機層３とを有し、シリコンを有する基が共有結合をしているアクリル系樹脂が有機層２に含有され、無機層３と接する有機層２の面に上記シリコンが０．１原子％以上存在する。 （もっと読む）

【課題】 水分に対する高いガスバリア性を有するにもかかわらず、プラスチックフィルムが吸湿した含有水分の除去が容易であり、表示素子の表示性能の低下などの問題が生じにくい、表示素子などへの用途に適した透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 基材プラスチックフィルムの一方の面にガスバリア機能層を有し、他方の面に透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記ガスバリア機能層の水蒸気透過度を０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下とし、前記透明導電層の水蒸気透過度を１．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上としたことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）