【課題】 優れた透明性、優れた滑り性が求められる用途として知られている、例えば、タッチパネル等の透明電極用のフィルム部材や、成形用フィルム等の部材に好適に利用することができ、特に取り扱い性が容易であり、熱処理後においても優れた透明性を有する積層フィルムを提供する。
【解決手段】 非耐熱性粒子を含有する塗布液から形成された塗布層をフィルムの少なくとも片面に有することを特徴とする積層フィルムであり、フィルムとしてはポリエステルフィルムが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高い水蒸気バリアー性能を有するとともに、耐水性、耐熱性及び透明性及び平滑性に優れた水蒸気バリアーフィルムとその製造方法及びその水蒸気バリアーフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】基材１上に水蒸気バリアー層２と保護層３が積層された水蒸気バリアーフィルム１０（１１）を製造するにあたり、ポリシラザンを含有した第１の塗布液を基材１上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して水蒸気バリアー層２を形成する工程と、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした時に、蒸発速度が４０以下の第一溶媒と、蒸発速度が１００以上の第二溶媒を含み、且つポリシロキサンを含有した第２の塗布液を水蒸気バリアー層２上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して保護層３を形成する工程とを経るようにして、水蒸気バリアーフィルム１０（１１）を作製するようにした。 （もっと読む）

【課題】光学異方性が小さい透明複合シートを提供する。
【解決手段】透明複合シートは、硬化性組成物を硬化させた硬化物と、該硬化物中に埋め込まれたガラス繊維とを有する。上記硬化性組成物は、正の屈折率異方性を有する高分子を形成する第１の単量体と、負の屈折率異方性を有する高分子を形成する第２の単量体とを含み、波長５８９ｎｍにおける前記硬化物の屈折率と波長５８９ｎｍにおける前記ガラス繊維の屈折率との差が０．０１以下、ガラス繊維に沿って前記高分子が一軸配向した透明複合シートの、波長５５０ｎｍにおける面内位相差が５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】反射部を構成する溝の構造を改良して、入射した光をより効率よく画素電極に向かわせることのできる電気光学装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０の基板本体２０ｗ（透光性基板）には、隣り合う画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する第１溝２６０が形成されている。また、基板本体２０ｗの一方面２０ｓおよび第１溝２６０の側面２６１、２６２には透光膜２５が形成されており、かかる透光膜２５によって、第１溝２６０と平面視で重なる領域には、第１溝２６０より深くて第１溝２６０より幅が狭い第２溝２６５が形成されている。このため、第２溝２６５の側面２６６、２６７を反射面として利用し、画素間領域１０ｆに向かおうとする光を画素電極９ａに向かわせる。 （もっと読む）

【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことができるとともに、溝の側面が封止用の膜で覆われることを最小限に抑えることのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、溝２６０を中空に封止するにあたって、第１封止膜２７を形成する前、溝２６０内に犠牲膜２４を形成しておき、第１封止膜２７を形成した後、第１封止膜２７の貫通部２７５を介して犠牲膜を除去する。そして、第１封止膜２７上に第２封止膜２８を形成し、第１封止膜２７の貫通部２７５を第２封止膜２８で塞ぐ。このため、第１封止膜２７を溝２６０の開口部２６５を塞ぐように形成することができるとともに、第１封止膜２７が溝２６０の奥まで形成されることを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】表示部の外側の外枠部を表示部と段差のない方法で形成した液晶表示パネル部材の作成方法及び液晶表示パネル部材を提供する。
【解決手段】液晶表示パネルに用いられる部材の作成方法において、表示パネルの中央部の表示部の外側に設ける外枠部を作成する方法であって、表示パネル基材１４の裏面に、表示部形状のマスクを介して、隠蔽性を有する蒸着層を単層または複数層形成し、蒸着層の表示部側をレーザー加工してザラツキのない内端を有する外枠部を作成することを特徴とする液晶表示パネル用部材の作成方法。 （もっと読む）

【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０に溝２６０を形成した後、第２基板２０に封止膜として金属膜２７を形成する。この時点では、金属膜２７において溝２６０の開口部２６５と重なる領域に開口部２７５が形成されているが、金属膜２７を加熱して溶融させると、金属膜２７の開口部２７５が塞がれ、その結果、溝２６０の開口部２６５が金属膜２７によって塞がれ、溝２６０の内部は中空となる。しかる後には、金属膜２７のうち、溝２６０の外部に形成されている部分を除去する一方、溝２６０の内部で開口部２６５を塞ぐ部分を残す。従って、溝２６０の側面２６１、２６２を反射面として利用することができる。 （もっと読む）

【課題】透光性基板に形成した溝の開口部を高い生産性をもって塞ぐことのできる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０には、画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する中空の溝２６０が形成されており、かかる溝２６０の開口部２６５は透光性絶縁膜２７によって塞がれている。このため、中空の溝２６０の側面２６１、２６２は、溝２６０内の媒質（真空）と第２基板２０の媒質との屈折率の差に起因する反射面となる。透光性絶縁膜２７は、シランガスを用いてＣＶＤ法により成膜したシリコン酸化膜であり、溝２６０の奥まで透光性絶縁膜２７が形成されることはない。それ故、溝２６０において反射面として機能する側面２６１、２６２の面積が広い。 （もっと読む）

【課題】洗浄中に板状部材の位置ズレを発生させることなく、板状部材の表裏面に固着したカレット等の異物を確実に除去することができる洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄対象である搬送中の板状部材２の表裏面を挟むように搬送経路の両側にそれぞれ千鳥状に配置された複数の洗浄手段３ａ、３ｂを備え、板状部材２に洗浄液を供給しつつ洗浄手段３ａ、３ｂを回転させて搬送中の板状部材２を洗浄する洗浄装置１であって、複数の洗浄手段３ａ、３ｂは、搬送経路の一方側に配置された１つの洗浄手段３ａと、該洗浄手段３ａと同軸上で相対向するよう搬送経路の他方側に配置された１つの洗浄手段３ｂとからなる組を複数含み、かつ複数の凸部が所定の間隔をおいて連続して配置された洗浄面を有し、同一組を構成する洗浄手段３ａ、３ｂは、洗浄面の回転方向が逆であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】白色の基板であって、高い光反射性と可撓性とを有し、更に耐熱性及び寸法安定性に優れた白色基板、並びに該白色基板を用いた表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る白色基板は、白色の基板であって、透明樹脂の硬化物と、ガラス繊維と、光散乱性フィラーとを含有する。本発明に係る白色基板の波長５５０ｎｍにおける光反射率は７０％以上である。本発明に係る表示装置は、表示素子と、上記白色基板とを備える。 （もっと読む）

【課題】剥離帯電を抑制することができ、白ムラや白曇りが生じ難いフラットパネルディスプレイ用のガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板を製造するとき、半導体素子が形成されるガラス基板の半導体素子形成面と反対側のガラス表面を洗浄し、洗浄された前記ガラス表面にエッチング処理を施す。前記エッチング処理が施された前記ガラス表面のＲａ（原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の算術平均粗さ）が０．３（ｎｍ）以上１．０（ｎｍ）以下であって、Ｒz−Ｒzjis（Ｒzjisは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の１０点平均粗さであり、Ｒzは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の最大高さである）が０．２（ｎｍ）以下になるように前記洗浄処理と前記エッチング処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】 反射電極の間を通過する入射光の光量低減が要望されている。
【解決手段】 半導体基板に、複数のスイッチング素子が形成されている。半導体基板の上に、スイッチング素子に対応して配置され、対応するスイッチング素子に接続された反射電極が形成されている。反射電極の上面及び端面を覆い、反射電極の間の領域において、反射電極の底面と同じか、該底面よりも低い位置に上面が配置されているカバー絶縁膜が形成されている。反射電極の間のカバー絶縁膜の上に、遮光膜が形成されている。遮光膜の上面が、反射電極の上面よりも高い位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】従来よりも光学特性及び外観品質に優れた透明フィルムを提供する。
【解決手段】ガラス繊維の基材に透明樹脂組成物を含浸し硬化して形成される透明フィルムに関する。前記ガラス繊維において、酸化ホウ素（Ｂ_２Ｏ_３）の含有量が１２〜２２質量％、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の含有量が２〜１２質量％、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）の含有量が７〜１７質量％、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）の含有量が４５〜５５質量％、酸化カルシウム（ＣａＯ）の含有量が１０質量％以下、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）の含有量が５質量％以下、酸化バリウム（ＢａＯ）の含有量が１０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】光学特性、耐熱性および機械特性に優れた耐熱透明プラスチック基板の提供。
【解決手段】それぞれ独立して炭素数３〜１２の分岐状アルキル基又は環状アルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位を含むフマル酸ジエステル重合体（Ａ）及び炭素数１〜１２のアルキル基又は環状アルキル基を有するアクリル酸エステル残基単位を含むアクリル酸エステル重合体（Ｂ）を含有するフラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板。 （もっと読む）

【課題】面内全体において均一な物性を有する透明フィルムを提供する。
【解決手段】ガラス繊維の基材に透明樹脂組成物を含浸し硬化して形成される透明フィルムに関する。前記透明フィルムの幅が５００ｍｍ以上であると共に、前記透明フィルムの幅方向における中心部と、前記中心部から前記幅方向に２５０ｍｍ離れた箇所とのリタデーションの差が０．２ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び光学特性のいずれにも優れる光学基材の提供。
【解決手段】エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物との共重合体を含む基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層が積層されたことを特徴とする光学基材；エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物とを共重合させ、得られた基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層を積層することを特徴とする光学基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ以上の場合）、或いはそれぞれ肉厚の１／３除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ未満の場合）の透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ_２含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイ基板は、肉厚０．１ｍｍ以上のディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面平滑性に優れ、薄膜素子の特性劣化を抑制することが可能な薄膜素子用基板が得られる新規な薄膜素子用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材に薬液処理を施す金属基材表面処理工程と、上記金属基材上にポリイミド樹脂組成物を塗布して絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを有し、上記絶縁層の表面粗さＲａが３０ｎｍ以下であることを特徴とする薄膜素子用基板の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）