【課題】 サーモクロミック特性を有する酸化バナジウム層を低温でガラス上に形成する方法を提供する。
【解決手段】 酸化バナジウムのシード層として、酸化ジルコニウム／酸化錫の積層体を用いることで、サーモクロミック特性を有する酸化バナジウムの成膜に適した結晶質層および配向性を有する酸化ジルコニウム／酸化錫シード層を非加熱成膜で形成することを可能にし、そのシード層に酸化バナジウム層を形成したサーモクロミック体を得る。 （もっと読む）

【課題】強い読み出し光が入射しても、表示画像の均一性を維持し、高品位の表示品質を維持することが可能な反射型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】反射型の画素電極４Ａが表面にマトリクス状に複数形成された半導体基板４と、透明な共通電極６Ａが表面に形成された透明基板６とを、画素電極と共通電極とが所定の間隙を有して対向するように配置し、間隙に液晶８を封入してなる液晶表示セル２と、液晶表示セルの透明基板側に設けられた透明な防塵基板３６と、を有する反射型液晶表示装置において、液晶表示セルの少なくとも周囲を囲むようにして熱伝導性のセルハウジング２２を設け、動作時に防塵基板に放射状に遅相軸が生ずるように前記セルハウジングが、防塵基板の周辺部を支持する構成とする。 （もっと読む）

【課題】半導体製造に使われているいわゆるフォトファブリケーション方法を用いても、製造した光学素子を光が透過し、かつチャッキングによる傷も発生しない、光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基板（透明基板１）上に薄膜を形成した後、薄膜上にフォトレジストを塗布した後、フォトマスクを介してフォトレジストの露光・現像を行って、フォトレジストパターンを形成し、薄膜パターンを形成する光学素子の製造方法において、薄膜を形成する前に光透過性基板上に赤外光反射層２を形成する工程と、赤外光反射層２と反対側の光透過性基板に露光光の反射と裏面光透過を防止する遮光反射防止層（遮光反射防止層２）を形成する工程と、からなり、反射防止層の厚さを０．０１〜１μｍとする。 （もっと読む）

外側パネル（５２）、内側パネル（５４）、光透過制御層（５６）および衝撃吸収層（５８）を備えた不透明性調節可能な窓（５０）が提供される。外側パネル（５２）と内側パネル（５４）は、それらの間に空洞（６０）を提供し、前記光透過制御層および衝撃吸収層が該空洞内に配される。該衝撃吸収層は、前記光透過制御層を支持および保護する可撓性シート（６２）である。光透過制御層は、液晶セル（６６）で構成される。該セルの透過率は、可変制御が可能である。 （もっと読む）