【課題】カスケード方式の洗浄装置における菌体の繁殖を簡易な手段で防止することができ、被洗浄物の洗浄効率を向上させることができる洗浄装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１がローラー２で搬送され、ジェット洗浄ノズル３及び最終リンスノズル４で洗浄される。最終リンスノズル４に純水が供給される。最終リンスノズル４からの洗浄排水がタンク７に流入し、ポンプ９からノズル３に供給される。タンク７内の菌体数が増加した場合、タンク７内の水をオゾン水供給装置１２に循環通水し、タンク７内にオゾン水を供給し、殺菌する。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れた透明複合基板、および、かかる透明複合基板を備えた表示素子基板を提供することにある。
【解決手段】本発明の透明複合基板は、ガラスクロスと、ガラスクロスに含浸した脂環式エポキシ樹脂を主成分とする樹脂材料と、ガラスクロスの表面に設けられ、ガラスクロスと樹脂材料との間に発生する応力を緩和する応力緩和成分と、を有し、応力緩和成分は、非イオン性官能基を含むものが好ましい。非イオン性官能基は、エポキシ基、（メタ）アクリロイル基、およびビニル基のうちの少なくとも１種であることが好ましく、応力緩和成分は、有機ケイ素化合物であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ３００℃以上の高温で加熱処理しても十分な透明性を有し、薬液耐性に優れる樹脂組成物を及びそれを用いたポリイミド成形体とその製造方法等を提供する。
【解決手段】 （ａ）一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を有するポリイミド前駆体。前記のポリイミド前駆体を含有する樹脂組成物。前記の樹脂組成物を加熱することで得られるポリイミド成形体。ポリイミド成形体からなるプラスチック基板。ポリイミド成形体からなる保護膜。保護膜を有する電子部品、表示装置。
【化１】


（一般式（Ｉ）中、Ｘはエーテル結合及びビフェニル骨格を有するジアミン残基である。） （もっと読む）

【課題】洗浄中に板状部材の位置ズレを発生させることなく、板状部材の表裏面に固着したカレット等の異物を確実に除去することができる洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄対象である搬送中の板状部材２の表裏面を挟むように搬送経路の両側にそれぞれ千鳥状に配置された複数の洗浄手段３ａ、３ｂを備え、板状部材２に洗浄液を供給しつつ洗浄手段３ａ、３ｂを回転させて搬送中の板状部材２を洗浄する洗浄装置１であって、複数の洗浄手段３ａ、３ｂは、搬送経路の一方側に配置された１つの洗浄手段３ａと、該洗浄手段３ａと同軸上で相対向するよう搬送経路の他方側に配置された１つの洗浄手段３ｂとからなる組を複数含み、かつ複数の凸部が所定の間隔をおいて連続して配置された洗浄面を有し、同一組を構成する洗浄手段３ａ、３ｂは、洗浄面の回転方向が逆であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来よりも光学特性及び外観品質に優れた透明フィルムを提供する。
【解決手段】ガラス繊維の基材に透明樹脂組成物を含浸し硬化して形成される透明フィルムに関する。前記ガラス繊維において、酸化ホウ素（Ｂ_２Ｏ_３）の含有量が１２〜２２質量％、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の含有量が２〜１２質量％、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）の含有量が７〜１７質量％、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）の含有量が４５〜５５質量％、酸化カルシウム（ＣａＯ）の含有量が１０質量％以下、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）の含有量が５質量％以下、酸化バリウム（ＢａＯ）の含有量が１０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去する基板処理方法および基板処理装置において、スループットの低下を招くことなく、しかも優れた面内均一性でパーティクル等を除去する。
【解決手段】基板Ｗの回転中心Ｐ（０）から基板Ｗの外縁側に離れた初期位置Ｐ（Ｒin）の上方に冷却ガス吐出ノズル７を配置し、回転している基板Ｗの初期位置Ｐ（Ｒin）に冷却ガスを供給して、初期位置Ｐ（Ｒin）および回転中心Ｐ（０）を含む初期領域に付着するＤＩＷを凝固させる。そして、初期凝固領域ＦＲ0の形成に続いて、ノズル７から冷却ガスを供給しながら初期位置Ｐ（Ｒin）の上方から基板Ｗの外縁部の上方まで移動させることによって、凝固される範囲を基板Ｗの外縁側に広げて基板表面Ｗｆに付着していた全ＤＩＷ（凝固対象液）を凝固して液膜ＬＦ全体を凍結する。 （もっと読む）

【課題】洗浄液としてのキレート過水液の濃度変化を抑制することが可能であり、その結果、使用するキレート過水液の材料費を低減することが可能な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１Ａは、循環路と、濃度センサ２１と、制御部２６とを備える。循環路は、キレート過水液１００を用いてガラス基板２００の洗浄を行なう洗浄槽１０と、キレート過水液１００を一時的に貯留する貯留槽１６と、これら洗浄槽１０および貯留槽１６を接続する送り管１８および戻し管１５とを含んでいる。濃度センサ２１は、キレート過水液１００の濃度を検出するためのものであり、送り管１８に設けられている。制御部２６は、濃度センサ２１によって検出された濃度情報に基づいて所定量の純水を貯留槽１６に供給することでキレート過水液１００の濃度管理を行なう。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、更には有機溶媒への可溶性及び低線熱膨張性に優れたポリアミドイミド溶液およびポリアミドイミド膜を得ること、さらに、当該ポリアミドイミドを用いて耐熱性や低線熱膨張性の要求の高い製品又は部材を提供することを目的とする。特に、本発明のポリアミドイミド樹脂を、ガラス、金属、金属酸化物及び単結晶シリコン等の無機物表面に形成する用途に適用した製品、及び部材を提供することを目的とする。
【解決手段】特定の構造を有するポリアミドイミドと沸点が４０℃以上１２０℃以下の有機溶媒を含有するポリアミドイミド溶液を用いて製膜したポリアミドイミド膜で上記課題を達成できる。 （もっと読む）

【課題】薄型化及び軽量化が可能であり、しかも、信頼性の高い表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された光スイッチング機能層と、を備え、前記第１基板及び前記第２基板の各々は、プラスチック基板と、前記プラスチック基板の前記光スイッチング機能層が配置される内面をカバーする第１ガス遮蔽体と、前記プラスチック基板の外面をカバーするとともに前記第１ガス遮蔽体よりもガスバリア性能が低い第２ガス遮蔽体と、を有することを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ技術および薄膜光電池の双方における基板ガラスとしての使用に高度に適したガラス。
【解決手段】次の組成（質量％、酸化物基準）：ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５、Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１０．５、Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５、ＭｇＯ ０〜＜３、ＣａＯ ０〜９およびＢａＯ ＞３〜８、但し、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ ８〜１８、ＺｎＯ ０〜＜２を有する、アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラス。 （もっと読む）

【課題】安定して基板上に処理液の液膜を保持させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、基板を水平に保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板の上面周縁部を選択的に疎水化させる疎水化手段と、前記基板保持手段に保持された基板の上面に処理液を供給する処理液供給手段と含む。この基板処理装置による基板の処理では、基板の主面の周縁部を選択的に疎水化させる疎水化工程（Ｓ１０１）と、前記疎水化工程が実行された後に、水平に保持された基板に処理液を供給して、当該基板の主面を覆う処理液の液膜を形成する液膜形成工程（Ｓ１０２）とが実行される。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板の板面をノズル体によって噴射供給される処理液によって処理する際、全面を均一に処理できるようにした基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を所定方向に搬送する搬送ローラ５と、基板の搬送方向と交差する幅方向の両端部に処理液を隙間が生じることのない密の状態で均一に噴射供給する第１のノズル体２３と、基板の第１のノズル体によって処理液が供給された幅方向両端部を除く部分に処理液を基板の搬送方向及び搬送方向と交差する方向に対して隙間が生じる疎の状態で噴射供給する第２のノズル体２４を具備する。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄装置における有機汚染除去力の変動を的確に把握することが可能な技術を提供することである。
【解決手段】 ドライ洗浄装置の有機物除去力を基板の接触角で評価する洗浄力評価方法であって、予め被膜を形成した基板を用意し、前記被膜を所定の洗浄時間でドライ洗浄する洗浄工程と、前記洗浄時間とは異なる洗浄時間で、前記洗浄工程と異なる前記被膜領域をドライ洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程でそれぞれ洗浄された被膜部分の接触角をそれぞれ計測する工程と、前記各洗浄工程に要した時間と前記接触角の計測値とに基づいて、前記基板に対する洗浄力を評価する工程とを備える洗浄力評価方法である。 （もっと読む）

【課題】各種ディスプレイの製造工程において、帯電を引き起こし難いとともに、プレートにはり付き難く、しかも配線膜の断線やＴＦＴの形成不良等が発生し難いガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、第一の表面と第二の表面を有するガラス基板の製造方法において、第一の表面の平均表面粗さＲａを０．２ｎｍ以下とし、第二の表面の平均表面粗さＲａが０．３〜１．５ｎｍになるように、ＨＦを０．０５〜５質量％含有する薬液またはＮＨ_４Ｆを２０質量％以上含有する薬液により、第二の表面を化学処理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の材料層の積層体からなるバリア層を備えるものであって、該バリア層の光反射率の低減を図るとともに、クラック防止、各層の密着性、バリア性の向上を図った表示装置の提供。
【解決手段】複数の積層された材料層からなるバリア層を挟持する第１材料層と第２材料層を備える表示装置であって、
前記第１材料層、前記バリア層の各材料層、および前記第２材料層のそれぞれの光屈折率は、前記第１材料層から前記第２材料層へかけて、高い方から低い方へ、あるいは低い方から高い方へ、順次変化するように構成され、
前記バリア層の各材料層は、高応力膜と低応力膜を交互に積層させて構成されている。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の浮遊処理液の影響を低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】振り切り乾燥処理が終了すると、スピンチャック１０および雰囲気遮断板５０の回転が停止させられて、基板Ｗの回転が停止する。続いて、スピンチャック１０と雰囲気遮断板５０とが近接する状態から、スピンチャック１０および雰囲気遮断板５０との間の距離Ｄが２ｍｍ以上１０ｍｍ以下となるよう、雰囲気遮断板５０が上昇させられる。そして、スピンチャック１０から搬送ロボットの搬送アーム８ａに基板Ｗが受け渡される。これにより、チャンバ内の浮遊薬液を完全にチャンバ外に排気することができない場合であっても、搬送時または搬送待ちの基板Ｗに浮遊薬液が付着することを防止できる。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を損傷させずに確実に洗浄処理することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板が供給される処理槽１と、処理槽の基板の被処理面に、マイナスの電荷が帯電しそのマイナスの電荷にプラスの電荷が静電結合したナノバブルを含む処理液を供給する処理液供給ノズル１６と、処理液供給ノズルから基板に供給された処理液に向かって供給され、その処理液に含まれるナノバブルのマイナスの電荷に静電結合したプラスの電荷を除去しナノバブルの静電気による平衡状態を消失させてナノバブルを破裂させる作動液を供給する作動液供給ノズル２２ａ，２２ｂを具備する。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、また耐候性が良好で変色の発生を低減することができる透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。そして、表面を平滑に形成するための透明な平滑化層２が透明積層板１に形成されていると共に、平滑化層２には紫外光を吸収する機能を有する材料が含有されている。平滑化層２で透明積層板１の凹凸を埋めて平坦にならすことができ、表面の平滑性を高めることができる。また平滑化層２に含有される紫外光を吸収する機能を有する材料によって、紫外光が平滑化層２や透明積層板１に作用することを抑制することができ、変色の発生を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】
ダウンドロー法で直接、低温ｐ−ＳｉＴＦＴ基板用途に使用可能なガラス基板の製造を製造する方法と、この方法により得られるガラス基板を提供する。
【解決手段】
ダウンドロー法にて溶融ガラスをリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断してガラス基板を得る切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、徐冷工程において、（徐冷点＋１００℃）から徐冷点までの平均冷却速度より、徐冷点から（徐冷点−５０℃）までの平均冷却速度を低くしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄型軽量化が可能であり、かつ、製造における光学特性の制御が容易な、液晶セル基板、液晶パネルおよび液晶表示装置を提供する。
【解決手段】樹脂基板上に光学補償層が積層された液晶セル基板であって、前記光学補償層の屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚが、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有し、かつ、光学補償層が、光学補償層形成材料を前記樹脂基板または前記樹脂基板とは別の基材に塗布することにより形成されたものであることを特徴とする。 （もっと読む）