【課題】 窯の劣化を起こすことなく、泡品位、均質性及び平坦性に優れた無アルカリガラス基板を得ることが可能なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料を調合し、溶融、成形する珪酸塩ガラスの製造方法であって、メディアン粒径Ｄ_５０が７０〜２００μｍであり、粒径４５μｍ未満の粒子の質量割合が３０％未満、粒径２５０μｍ以上の粒子の質量割合が１０％未満の粒度分布となるように調製したシリカ原料を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明性及び靭性に優れており、かつ耐熱性が高く、２００℃以上の無機材料層を形成する過程に耐え得る硬化物を与える硬化性組成物、並びに該硬化性組成物を用いた透明複合シートを提供する。
【解決手段】本発明に係る硬化性組成物は、チオール基を２つ以上有するシルセスキオキサンと、炭素―炭素二重結合を２つ以上有する芳香族ビスマレイミド化合物とを含む。本発明に係る透明複合シートは、上記硬化性組成物を硬化させた硬化物と、該硬化物に埋め込まれたガラス繊維とを有する。 （もっと読む）

【課題】容易かつ安価に脱泡清澄が可能であり、かつ情報表示装置、特にアクティブマトリクス型液晶表示装置のガラス基板として好適に用いられるガラス組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 質量％で示して、
ＳｉＯ₂ ７６．５〜８８％，
Ｂ₂Ｏ₃ ６〜１８％，
Ａｌ₂Ｏ₃ ０．５〜４．５％，
Ｌｉ₂Ｏ ０〜０．５％，
Ｎａ₂Ｏ ０〜０．５％，
Ｋ₂Ｏ ２〜１０％，
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２％，
を含み、所定の範囲の塩素を含むことを特徴とするガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ₂Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ₂を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ₂ＯとＮａ₂Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能な携帯型液晶ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを３〜２０重量％含有し、Ｌｉ₂Ｏを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子側基板とカラーフィルタ側基板の熱膨張差に伴う製造途中や使用環境における当該液晶表示装置の不良を防止することが可能な技術を提供することである。
【解決手段】
液晶層を介して対向配置される第１基板及び第２基板を有し、前記第１基板及び第２基板が樹脂基材で形成される液晶表示装置であって、前記第１基板の液晶層側に形成され、マトリクス状に画素が形成される液晶駆動層を当当該第１基板に固定する粘着層と、前記画素に対応する遮光膜及び色フィルタ層と前記第２基板との間に形成され、該第２基板よりも熱膨張係数が小さい薄膜材料からなる下地層とを備えた液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】 １５０℃以下の低温で硬化しても、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性等の耐薬品性、耐水性、ガラスなどの下地基板への密着性、透明性、耐傷性、塗布性、耐光性等に優れる硬化膜を形成できる熱硬化性組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造を有する構成単位と、下記式（２）で表される構造を有する構成単位とを有するポリマーを含有する熱硬化性組成物により上記課題を解決する。


（もっと読む）

【課題】Ｂ₂Ｏ₃を含有せず、ＬＣＤパネル用のガラス板として用いることができるディスプレイパネル用ガラス板の提供。
【解決手段】実質的にＢ₂Ｏ₃を含有せず、酸化物基準の質量％表示で、ガラス母組成として、ＳｉＯ₂：７３．５〜７８．５、ＭｇＯ：１０．６〜１１．８、Ｎａ₂Ｏ：３．０〜１５．０、Ｋ₂Ｏ：１．０〜１２．０、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：６．０〜１５．０からなり、密度が２．４５ｇ／ｃｍ³以下であり、５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が７５×１０^-7／℃以下であり、ガラス転移点が６１０℃以上であり、ブリトルネスが６．５μｍ^-1/2以下であり、粘度をηとするときｌｏｇη＝２．５を満たす温度が１６２０℃以下であるディスプレイパネル用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材との密着性、膜の耐熱性、膜の脱ガス特性、膜強度等に優れるとともにイオン拡散防止性能に優れたイオン拡散防止膜を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（Ｉ）等で示される有機珪素化合物をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＡＡＯＨ）の存在下で加水分解して得られるケイ素化合物を含む塗布液を調製する工程、（ｂ）前記塗布液をガラス基材上に塗布する工程、（ｃ）塗布膜を２５〜３５０℃の温度で乾燥処理する工程、（ｄ）水蒸気の存在下、塗布膜を１０５〜４５０℃の温度条件下で加熱処理する工程（水熱処理工程）、からなるイオン拡散防止膜の製造方法。Ｘ_nＳｉ（ＯＲ）_{4-n・・・・}（Ｉ）（式中、Ｘは水素原子、フッ素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、フッ素置換アルキル基、アリール基もしくはビニル基を表し、Ｒは水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、アリール基もしくはビニル基等を表す。） （もっと読む）

【課題】適度な熱膨張係数、低い溶融温度と高い歪点、高い耐熱性を有するガラス基板、例えばＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の電子ディスプレイ用基板に好適なガラス組成物を提供する。
【解決手段】重量％表示で、ＳｉＯ_２ ５７〜６２、Ａｌ_２Ｏ_３ ４〜７、ＺｒＯ_２ ２〜５、Ｎａ_２Ｏ ２〜６、Ｋ_２Ｏ ４〜９、ＭｇＯ ０〜４、ＣａＯ ４〜９、ＳｒＯ ６〜９、ＢａＯ ６〜１４、ＨｆＯ_２ ０．１〜１．０、であり、かつ、Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量 ９〜１４、ＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとＢａＯの合計量 １７〜２５、であることを特徴とするディスプレイ装置用基板ガラス。３０〜３００℃における平均線膨張係数が８０〜８７（×１０^−７／℃）、歪点が５６０℃〜５８０℃である特徴も持つ。 （もっと読む）

【課題】スイッチング素子の特性の劣化防止及び面押し強度の向上を図ることが可能なアルカリガラス基板を用いたアレイ基板及びそのアレイ基板を用いた液晶装置を提供する。
【解決手段】液晶装置の構成要素であるＴＦＤアレイ基板は、第１のアルカリ強化ガラス基板とＴＦＤ素子を含む。第１のアルカリ強化ガラス基板は、イオン交換法によりガラス基材（引張り応力層）の表面に圧縮応力層が形成されてなる。このため、第１のアルカリ強化ガラス基板の強度向上が図られている。ＴＦＤ素子は、アルカリ成分の汚染に対して強いスイッチング素子であり、圧縮応力層上に形成されている。これにより、ＴＦＤ素子の特性の劣化防止、及びＴＦＤアレイ基板の面押し強度（押圧強度）の向上を図ることができる。よって、このＴＦＤアレイ基板を液晶装置に適用すれば、表示パネル面に押圧力が付与された場合でも液晶表示パネルが割れ難い液晶装置を構成することができる。 （もっと読む）

【課題】所望の液晶配向性を有する配向膜を効率良く成膜する。
【解決手段】本発明の配向膜製造方法は、第一の成膜圧力で底面層をせいまくした後、真空槽５１内部の圧力を第一の成膜圧力よりも高い第二の成膜圧力に上昇させて、底面層の表面に表面層を積層し、底面層と表面層との積層膜で配向膜を構成する。底面層は低圧力で形成されるため、表面層と同じ傾斜角度で成膜した場合であっても屈折率が高い。屈折率が高い程バリア性が高いので、本発明により成膜される配向膜はバリア性と配向性を兼ね備える。 （もっと読む）

【課題】従来に比較して、材料コストの低減が可能な液晶表示パネルおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】アクティブマトリクスアレイ基板とカラーフィルタ基板との間に液晶材が封入されてなる液晶表示パネルにおいて、アクティブマトリクスアレイ基板および／またはカラーフィルタ基板を構成するガラス基板として、アルカリ成分を含むアルカリガラス基板を用いる。アルカリ成分としては、Ｎａ_２Ｏを６〜１５重量％、または、Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏとを合計で６〜１５重量％含むと良い。また、アルカリガラス基板の歪点は、５５０〜６００℃の範囲内にあると良い。 （もっと読む）

【課題】アルカリガラス基板に含まれるアルカリ成分を低減することが可能なガラス基板処理方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ成分を含むアルカリガラス基板を、水に接触させ、アルカリ成分の少なくとも一部を溶出させる。アルカリガラス基板の水との接触は、アルカリガラス基板を水中に浸漬することにより行うことが好ましい。また、上記水の温度は、３０〜１００℃の範囲内にあることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、可撓性表示装置の製造装置及び製造方法に関する。
【解決手段】
本発明の一実施例による可撓性表示装置の製造装置は、支持体本体、前記支持体本体の表面に位置し、複数の溝が形成されていて、可撓性母基板を据置く据置台、前記支持体本体を貫通して前記溝と連通していて、一側端が外部と連通している真空路、そして前記真空路及び外部を連通させるニップル部を含む。 （もっと読む）

【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、高歪点ガラス基板と無アルカリガラス基板があるが、それぞれ問題点があり、広い分野に使用できるガラス基板がない。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５２〜５９、Ａｌ_２Ｏ_３が３〜１２、Ｎａ_２Ｏが２．０〜３．５、Ｋ_２Ｏが０．３〜１．５、Ｒ_２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ）が２．５〜４、Ｎａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．５５〜０．８８、ＭｇＯが３〜５．５、ＣａＯが４〜８、ＳｒＯが５〜１１、ＢａＯが９〜１７、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）が２５〜３２、ＺｒＯ_２が１〜４．５であるディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ及びその製造方法に関し、特に、漏洩電流を減少するための薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】可撓性基板１００と、可撓性基板１００上に形成される拡散防止層１１０と、拡散防止層１１０上に少なくとも二個の絶縁物質が積層して形成されるバッファ層１２０と、バッファ層１２０の一の領域上にチャンネル層１３０aとソース／ドレイン領域１３０ｂを有して形成される半導体層１３０と、半導体層１３０を含むバッファ層１２０上に形成されるゲート絶縁層１４０と、ゲート絶縁層１４０上のチャンネル層１３０aと対応する領域に形成されるゲート電極１５０と、ゲート電極１５０を含むゲート絶縁層１４０上に形成される層間絶縁層１６０と、層間絶縁層１６０にソース／ドレイン領域１３０bの少なくとも一の領域を露出させる所定のコンタクトホール１７０有し、ソース／ドレイン領域１３０ｂに接続されるように形成されるソース／ドレイン電極１８０a、１８０ｂと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】電気的特性が良好で、かつ高信頼性のＴＦＴを作製する。
【解決手段】基板上に、ＳｉＨ_４とＮ_２Ｏを用いて絶縁膜を形成し、絶縁膜上に半導体膜を形成し、半導体膜上に、ＳｉＨ_４とＮ_２Ｏを用いてゲート絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成することにより、電気的特性が良好で、かつ高信頼性のＴＦＴを作製することを可能にする。また、このようなＴＦＴを用いた半導体装置の信頼性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 表示デバイス用樹脂膜として要求される透明性、耐熱性、耐熱透明性、耐溶剤性等の各特性に優れており、これを用いて電圧保持率に優れ、フリッカー、ディスプレイの焼きつき等の問題を引き起こすことがなく、耐熱透明性に優れた表示デバイスを得ることができる、表示デバイス用樹脂組成物及びこの表示デバイス用樹脂組成物からなる樹脂膜を有する積層体を提供する。
【解決手段】 （Ａ）樹脂、（Ｂ）シリカ微粒子及び（Ｃ）溶媒を含有してなり、ナトリウム含有量が３０ｐｐｍ以下であることを特徴とする表示デバイス用樹脂組成物。当該表示デバイス用樹脂組成物からなる樹脂膜を基板上に積層してなる積層体。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ以上の場合）、或いはそれぞれ肉厚の１／３除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ未満の場合）の透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ₄₀₀が、０．５〜５．０％の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ₂含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 （もっと読む）