【課題】アクティブマトリクス基板上の電極と対向基板上のブラックマトリクスとの間に生じる電位に起因する光漏れを抑制する。
【解決手段】スイッチング素子が配置された一方の基板とブラックマトリクスが形成された他方の基板と液晶層とを少なくとも備える液晶表示装置において、ノーマリーブラックの第１の領域とノーマリーホワイトの第２の領域とを有し、第１の領域の一方の基板にはスイッチング素子に接続された第１画素電極と第１共通電極と第１共通電極に第１共通信号を供給する第１共通電極線を有し、第２の領域の一方又は他方の基板には第２共通電極を有し、第２の領域の一方の基板にはスイッチング素子に接続された第２画素電極と第２共通電極に第２共通信号を供給する第２共通電極線を有し、第１の領域に対向するブラックマトリクスと第２の領域に対向するブラックマトリクスが電気的に分離されている。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜の形成方法に依らずに、その表面に凹凸を形成することが可能な透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の製造方法は、酸化物からなる透明導電膜を形成し、透明導電膜を水素含有ガスの還元雰囲気に晒すことで、透明導電膜の表面に凹凸を形成する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半透過半反射型アレイ基板及び半透過半反射型液晶ディスプレーを提供する。
【解決手段】前記アレイ基板は複数の画素ユニットを有する。各画素ユニットは、ベース基板に設けられる反射電極及び透過電極と、前記ベース基板に設けられ、光線が前記ベース基板から前記反射電極と前記透過電極との間に透過することを遮断し、前記反射電極と前記透過電極との間であって前記反射電極及び前記透過電極の下方に設けられる不透明なゲートラインと、ゲート電極が前記ゲートラインに電気的に接続される薄膜トランジスタとを備える。 （もっと読む）

【課題】横電界駆動方式の反射モードを含む液晶表示装置において、コントラスト比を向上できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１０は、反射領域２１を含む。ＴＦＴ基板１４上には、反射領域２１に対応して、断面形状が凹凸を有するように形成された反射板１６が形成される。反射板１６上の絶縁層４１上には、液晶層１３を駆動するための画素電極３５及び共通電極３７が形成される。反射板１６の画素電極３５及び共通電極３７の下に対応する領域における凹凸の傾斜角は、画素電極３５と共通電極３７との間に対応する領域における凹凸の傾斜角よりも小さく設定される。これにより、液晶が動かない電極上を反射し通過する光が、観察者側に出射せず、コントラスト比を向上できる。 （もっと読む）

【課題】半透過型液晶表示装置において、反射電極と透明電極とを構成する場合、２つの
レジストマスクを用いるため、コストが高い。
【解決手段】画素電極となる透明電極と反射電極を積層させる。反射電極上に半透部を有
する露光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジ
ストパターンを形成する。レジストパターンを用いて反射電極と透明電極とを形成する。
以上により、１つのレジストマスクを用いて、反射電極と透明電極を形成することが可能
となる。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、フリッカーを低減し、高品位な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、透明基板（１０ｓ）と、透明基板の第１面側に設けられた複数の透明画素電極（９）と、透明基板と複数の透明画素電極との間に設けられた反射膜（６１、６２）と、透明基板と反射膜との間に、複数の透明画素電極に対応して設けられた複数の画素トランジスター（３０）と、透明基板の第１面とは異なる第２面側に設けられ、第２面の法線方向から見て少なくとも一部が反射膜に重ならないように設けられ、透明基板を透過した光を検出する光検出素子（６００）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ブルージング現象、プーリング現象などを防止して映像の品質を向上させて改善された視野角を確保することのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は第１基板、第１基板の第１面上に配置される第１電極、第１基板に対向する第２基板、第１電極に対向して第２基板の第１面上に配置される第２電極、及び第１基板と第２基板との間に介在して液晶カプセルを含む液晶構造物を備える前記液晶表示装置は、ブルージング現象及びプーリング現象などを防止して向上された画像品質を有することができ、カラーフィルタまたは補償フィルムなしにフルカラー画像を具現することができる。 （もっと読む）

【課題】作製工程を増やすことなく、凹凸形状の画素電極を作製することを目的とする。
【解決手段】凸部は、フォトマスクを用いて作製すると再現性の高いものが得られるため、画素ＴＦＴ１２０３の作製工程にしたがって作製すればよい。画素ＴＦＴ１２０３の作製と同様に積層される半導体層、ゲート絶縁膜および導電膜を積層して凸部を形成する。こうして形成された凸部および同一工程で形成された画素ＴＦＴ、駆動回路に含まれるＴＦＴを覆うように層間絶縁膜を形成する。凹凸を有する層間絶縁膜が形成されたら、その上に画素電極を形成する。画素電極の表面も絶縁膜の凹凸の影響を受け表面が凹凸化する。 （もっと読む）

【課題】入射した外光を反射させて表示を行う液晶表示装置において、反射光の反射効率を向上させ、効率よく白表示を行うことを課題の一とする。より視認性の良好で高画質な液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】凹凸表面を有する画素電極層を用い、効率よく散乱させた反射光で白表示を行うことにより、反射光の反射効率を向上させ、効率よく白表示を行うことができる。また、より視認性の良好で高画質な液晶表示装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アクティブマトリクス基板の作製工程を増やすことなく、反射電極の鏡面反射を防ぐ凸凹を形成する手段を提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 （もっと読む）

【課題】液晶による光の散乱光を利用して表示を行う液晶表示装置において、使用者の目に優しい紙面に近い表示が実現できることを課題の一とする。より視認性の良好で高画質な液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）又は高分子ネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ）を液晶層に用いて、液晶による光の散乱光を利用して白表示（明表示）を行う。画素電極層が形成される画素領域に凹凸の構造体を設け、凸表面には可視光の光を反射する画素電極層（反射層）を設け、凹部には黒色層を設ける。白表示は液晶による光の散乱光を利用して行い、黒表示は、電界により透光性となった液晶層を介して凹部に設けられた黒色層による行う。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の周囲が薄暗い環境であっても、表示された画像が良好に認識できる液晶表示装置を提供することを課題の一とする。また、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とした液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】液晶層を介して入射する光を反射する画素と、透光性を有する画素を対にして複数設け、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示をすればよい。また、光を反射する画素と、透光性を有する画素をそれぞれ独立した信号線駆動回路と接続すればよい。 （もっと読む）

【課題】工程を単純化することのできる半透過型薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】第１及び第２基板を提供し、第１マスク工程で第１基板上にゲートラインを形成し、第２マスク工程で第１基板上のゲート絶縁膜とゲート絶縁膜上の半導体パターンと半導体パターン上の画素領域を定義するようにゲートラインと交差するデータラインとソース電極及びドレイン電極を形成し、第３マスク工程でデータライン上の有機絶縁膜とソース電極及びドレイン電極を形成し有機絶縁膜を貫通する透過ホールを形成し、第４マスク工程で有機絶縁膜を貫通してドレイン電極と接続された画素電極及び透過ホールを形成し、透過ホールの画素電極を露出させる反射電極を画素電極上に形成する液晶表示装置の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、配向規制用構造物を備えた反射型又は半透過型の液晶表示装置に関し、セル厚むらによる表示むらが視認されず、良好な表示品質の得られる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板２、４と、基板２、４間に封止された液晶層６と、基板２に形成され基板４側から入射する光を反射する反射板５０を有する反射領域を備えた画素領域と、反射板５０と同一の形成材料で形成されたソース／ドレイン電極を備え、基板２に形成されたＴＦＴと、ＴＦＴ上に形成された保護膜３１と、ゲートバスライン１２とドレインバスライン１４と保護膜３１とが積層された領域に形成され、基板２、４の双方に接触してセルギャップを維持する柱状スペーサ４４と、基板４の反射領域に柱状スペーサ４４と同一の形成材料で形成され、液晶分子の配向を規制する突起状構造物４３とを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、各々透過領域と反射領域とを含む複数の画素を含む第１基板と、第１基板に対向する第２基板と、第１基板と第２基板との間に形成された液晶層と、を含む。画素の各々は、第１薄膜トランジスタと、第２薄膜トランジスタと、第１画素電圧が充電される透過画素電極と、第２画素電圧が充電される反射画素電極と、第１画素電圧及び第２画素電圧を調節する電圧調節部と、を含む。透過画素電極及び反射画素電極の電圧を調節することによって、単一セルギャップの実現が可能であり、これによって、表示品質が向上する。 （もっと読む）

【課題】表示品位の高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る半透過型液晶表示装置８０は、背面側からの光を表示面側へ透過させる透過領域Ｔからなるサブ画素電極２と、表示面側から入射する光を反射させる反射領域Ｒからなるサブ画素電極２と、サブ画素電極２同士を電気的に接続する連結部５とを備え、透過領域Ｔからなるサブ画素電極２に隣接する反射領域Ｒからなるサブ画素電極Ｒは、これらのサブ画素電極間を連結する連結部５から延在された領域に、くり抜き状の切り欠き部７が形成された反射導電性薄膜４を有する。 （もっと読む）

【課題】簡易な工程で反射電極を形成することが可能な方法を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス素子４を形成した基板１０上に、層間絶縁膜１６および密着層１７を設けたのち、第１触媒層１８のパターンを形成する。続いて、第１無電解めっき処理を施し、第１触媒層１８を基に第１めっき層１９を成長させる。次いで、第２触媒層２０を形成し、この第２触媒層２０および第１めっき層１９を触媒として、第２無電解めっき処理を施す。これにより第２めっき層２１が形成され、表面に凹凸を有する反射電極５が形成される。 （もっと読む）

【課題】共通電極や画素電極と金属の電極端子との間の接続抵抗の増加を抑制する。
【解決手段】製造方法は、パッシベーション層（２１０）、平坦化膜（２１１）及び反射膜（２１２）を形成する工程と、共通電極端子上に形成されたパッシベーション層を除去することで第１コンタクトホール（３１１）を形成する工程と、第１コンタクトホールに透過表示用共通電極（１１−１）を形成する工程と、絶縁層（２１３）を形成する工程と、反射表示用ソース電極端子及び透過表示用ソース電極端子の夫々の上に形成されたパッシベーション層及び絶縁層を除去することで、第２コンタクトホール（３１３）及び第３コンタクトホール（３１２）を形成する工程と、第２コンタクトホールに反射表示用画素電極（９ａ−２）を形成すると共に、第３コンタクトホールに透過表示用画素電極（９ａ−１）を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】歩留まりの低下を防止して、製造工程の簡素化を図ることが可能になるとともに、製造コストの低減を図ることができる表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置１は、アクティブマトリクス基板２とアクティブマトリクス基板２に対向して配置された対向基板３と、アクティブマトリクス基板２及び対向基板３の間に設けられた液晶層４とを備えている。アクティブマトリクス基板２には、絶縁基板６と、絶縁基板６に設けられた透明電極３１と、透明電極３１の表面上に設けられた反射電極３２とが設けられている。そして、透明電極３１の、反射電極３２と接する表面に複数のディンプル３３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】半透過型液晶表示装置において、反射電極と透明電極とを構成する場合、２つの
レジストマスクを用いるため、コストが高い。
【解決手段】画素電極となる透明電極と反射電極を積層させる。反射電極上に半透部を有
する露光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジ
ストパターンを形成する。レジストパターンを用いて反射電極と透明電極とを形成する。
以上により、１つのレジストマスクを用いて、反射電極と透明電極を形成することが可能
となる。 （もっと読む）