【課題】酸化物半導体層を備えたＴＦＴ素子などのアクティブ素子の良否の予測を精度高く行うことができる回路基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板２には、第１の電極４と、第１の電極４とは電気的に分離されている第２の電極６と、第１の電極４および第２の電極６と接するように形成された酸化物半導体層５と、を備えたトラップ準位測定用パターン３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能で、回路面積が小さく、低消費電力で、メモリ部の動作の信頼度が高く、低コストである表示装置を提供する。
【解決手段】容量を有するデータ保持回路３と、複数の画素を有する表示部４とが第１の支持基板１上に形成された表示装置において、画素には、それぞれ画素電極が設けられ、第１の支持基板１と対向する第２の支持基板２が設けられており、第２の支持基板２における第１の支持基板１側の面には、データ保持回路３に対向する領域に、導電体膜８が存在せず、第２の支持基板２における第１の支持基板１と反対側の面には、データ保持回路３に対向する領域に、導電体膜８が存在する。 （もっと読む）

【課題】ウエットエッチングによる加工性に優れた特性を有する新規な金属配線用膜を提供すること。
【解決手段】表示装置またはタッチパネルセンサーの配線用膜であって、合金成分としてＸ群元素（Ｘは、希土類元素、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｆｅ、及びＮｉよりなる群から選択される少なくとも一種の元素）を３〜５０原子％、および／または酸素を０．２〜３．０質量％含有し、残部Ｔｉおよび不可避不純物からなるＴｉ合金層（第１層）と、Ａｌ系膜からなる第２層とを含む積層構造を有することに要旨を有する配線用膜。 （もっと読む）

【課題】端縁に傾斜端面が形成されている電気光学装置用基板を用いた場合でも、電気光学装置用基板の所定領域に感光性樹脂層を確実に形成することのできる電気光学装置の製造方法、および当該方法により製造された電気光学装置を提供すること。
【課題手段】液晶装置において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の所定領域に感光性樹脂層８０を形成する際、遮光膜形成工程において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の端縁に形成された第１傾斜端面１０ｉに遮光膜８５を形成しておく。そして、感光性樹脂層形成工程において電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側にポジタイプの感光性樹脂層８０を塗布し、その後、露光現像工程において感光性樹脂層８０を露光、現像する。露光を行った際、第１傾斜端面１０ｉに向かう光は、遮光膜８５で遮られるので、第１傾斜端面１０ｉから電気光学装置用基板１０ｓの内部に入射することがない。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で放電によるＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路の損傷を防止できる反射型液晶パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】一面に積層領域３１７Ｃが複数配列形成された素子側マザー基板３０１と、この素子側マザー基板３０１の一面に対向配置され、素子側マザー基板３０１の一面に対向する対向面に透明電極が設けられた対向側マザー基板と、を用い、素子側マザー基板３０１は、周縁電極３１７Ｂの外周縁に、隣接する他の周縁電極３１７Ｂとは離間して突出しシール材３４０が設けられ素子基板を切り出す際にシール材３４０とともに切断されて液晶注入口３１７Ｆを形成する拡張部３１７Ｄと、周縁電極３１７Ｂを隣接する他の周縁電極３１７Ｂと電気的に接続させる導通部３１９とを有する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法を使用することなく、ガラス基板に導電膜を設ける表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置用のガラス基板の表面にエッチング液を接触させて、ガラス表面の算術平均粗さＲａを０．７ｎｍ〜７０ｎｍに設定する化学研磨工程と、化学研磨工程後のガラス表面に導電性ポリマーを塗布して、４００〜１２００Ω／ｓｑの導電膜を形成する成膜工程と、を有し、成膜工程後のガラス基板の全光線透過率を、板厚０．５ｍｍのガラス基板において８７％以上とする。 （もっと読む）

【課題】基板とめっき層との密着性に優れた積層体、その製造方法、積層体を備える薄膜トランジスタ、積層体を備えるプリント配線基板を提供する。
【解決手段】
積層体１では、基板２上にシリカ層３および有機層４を介し、めっき層５が形成されている。シリカ層３はポリシラザンを前駆体として形成されているので、基板２との密着性が良好で、上面に無数の微細な凹凸が存在するシリカ層３が形成される。有機層４は、シリカ層３の上面の凹凸によって発現するアンカー効果により、シリカ層３と強固に結合する。また、有機層４の上面には、シリカ層３の上面の無数の微細な凹凸を反映して凹凸が形成されるので、めっき層５と有機層４とは、化学的もしくは電気的な結合に加え、アンカー効果により強固に結合される。よって、シリカ層３および有機層４を介して基板２上に形成されるめっき層５の基板２に対する密着性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、従来の問題点を解決し、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）膜または酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）膜よりなる透明導電膜のウエットエッチング装置内に析出したしゅう酸インジウムを化学的に溶解除去するしゅう酸インジウム溶解剤を提供することである。
【解決手段】
本発明は、エッチング装置系内に析出するしゅう酸インジウムを溶解除去するために用いる溶解剤組成物であって、アルカリ成分と、アミノポリカルボン酸およびその塩から選択される１種または２種以上とを含有する水溶液であることを特徴とする、前記溶解剤組成物、該溶解剤組成物を用いたエッチング装置系内の洗浄方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 印刷精度を向上させる。
【解決手段】 架台１４上に設けたガイドレール１５上に、版テーブル１６と基板テーブル１７を走行可能に設ける。各テーブル１６，１７に、アライメントステージ１６ａ，１７ａをそれぞれ備えて、版１０や基板１１をそれぞれ保持させる。架台１４上の所要個所に版１０と基板１１に共通のアライメントエリア２３を設ける。アライメントエリア２３の精密カメラ２４からの画像の信号を基に、各テーブル１６，１７のアライメントステージ１６ａ，１７ａに補正指令を与えるコントローラを備える。アライメントエリア２３にて、版テーブル１６に保持させた版１０の位置と、基板テーブル１７に保持させ基板１１の位置のアライメントを取ることで、版１０よりブランケットロール９を介して基板１１へ印刷される印刷パターンの印刷位置の再現性を高精度なものとさせる。 （もっと読む）

【課題】例えば、ＩＰＳ駆動方式等の横電界駆動方式を採用する液晶装置等の電気光学装置について、液晶層を挟持する一対の基板の一方の表面を簡便な製造プロセスで平坦化する。
【解決手段】第２電極（９ａ）のうち第１穴部（１６１）に延びる部分であるコンタクト部（１６５）によって囲まれた空間を規定する第３穴部（１６３）と、第２穴部（１６２）との夫々に絶縁材料を埋め込むことによって、第２穴部（１６２）及び第３穴部（１６３）を並行して塞ぐ。これら穴部（１６２）及び（１６３）に、例えば、同時に、或いは相前後して、アクリル樹脂等の絶縁材料を充填し、露光処理等のパターニング処理を施すことによって、第２穴部（１６２）及び第３穴部（１６３）を塞ぎ、絶縁膜（４９）及び第２電極（９ａ）の夫々からなる表面を含むＴＦＴアレイ基板１０上の面を平坦な面に近づける。 （もっと読む）

【課題】レーザマーキングによる容量絶縁膜のクラック発生を防止することのできる液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】
基板上の表示領域内にマトリックス状に配置される画素と、前記表示領域を除く余白領域に形成される書き込み膜と、前記表示領域から前記余白領域に伸延し、前記書き込み膜の上層に形成される透明絶縁膜とを備える液晶表示装置であって、前記透明絶縁膜は、有機化合物からなり、基板表面を平坦化する有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜の上層に形成される無機化合物からなる薄膜であって、前記書き込み膜の上部領域に前記有機絶縁膜に至る開口部が形成される無機絶縁膜と、前記無機絶縁膜の開口部に形成され、当該無機絶縁膜の開口部から露出される前記有機絶縁膜を覆う透明電極層とを少なくとも備える液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】外部へ放出されるノイズ（電磁波）が低減された液晶表示装置を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ２及び画素電極２２と、信号線３と、走査線４と、信号線３を駆動する信号線駆動回路９、及び走査線４を駆動する走査線駆動回路１０が形成されたＴＦＴ基板１と、ＴＦＴ基板１に対向して設けられると共に共通電極６が形成された共通電極基板５と、画素電極２２と共通電極６の間に形成された液晶層７とを含む液晶表示装置であって、信号線駆動回路９及び走査線駆動回路１０に対向するよう配設され、信号線駆動回路９及び走査線駆動回路１０から放射される電磁波をシールドする接地電極１５を備えたことを特徴とする液晶表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】予め設定したレーザー光の照射領域に対するレーザー光が照射された領域の位置ずれを早期に検出する。
【解決手段】複数の表示用配線１１が設けられた表示領域Ｄと、表示領域Ｄの外部で各表示用配線１１に接続された短絡用配線１９，２０と、短絡用配線１９，２０に対して設けられた位置確認用パターン２３とを備えたアクティブマトリクス形成用基板５０を準備する準備工程Ｓ１と、表示領域Ｄの外部において、各表示用配線１１にレーザー光を照射することにより、各表示用配線１１の互いの電気的な接続を解除する接続解除工程Ｓ７と、位置確認用パターン２３とレーザー光が照射された領域Ｂとの位置関係を確認する位置確認工程Ｓ８とを含むようにした。 （もっと読む）

【課題】 本発明はＩＰＳ方式等の液晶表示装置において、表示品質を劣化させる静電気などの影響を確実に抑えることができる構成を提供するものである。
【解決手段】 Ｆｅイオン及びＮｉイオンなどの金属イオンを高濃度でガラス基板表面に照射することにより、ガラス基板表面に導電パスが形成され、本来絶縁であるガラス基板表面に導電性が生じる。本発明では、このガラス基板２が観測者側にくるように液晶表示装置を構成することとした。そして、静電気をグラウンド１１に落とすための金属などの導電性の部材１２を組み込み、表面で発生した静電気の影響を抑制する。 （もっと読む）

【課題】 比較的低エネルギのレーザビームであっても、ワンショットレーザ照射によるＬＭＴ法を用いたレーザリペア法により、確実な欠陥修復を行うことを可能としたレーザリペア用転写板を提供すること。
【解決手段】 基体となるガラス板と、ガラス板のリペア対象物側の面に被着される転写材薄膜とを有し、転写材薄膜は、転写対象物の側に位置して、主として欠陥箇所の導通に寄与しかつ導電性の高い材質からなる第１の層と、ガラス板の側に位置して、主としてレーザ光の吸収発熱に寄与しかつ第１の層よりも融点、および／または、沸点の低い材質からなる第２の層とからなり、さらに第２の層についても導電性の高い材質よりなる。 （もっと読む）

【課題】フッ酸（ＨＦ）と硝酸（ＨＮＯ₃）との混酸を用いたエッチング方法では、この混酸を供給し続けている個所のエッチングレートが低下する傾向が見られ、基板の表面または裏面のポリシリコン膜を、均一に除去することは困難である。
【解決手段】フッ酸と硝酸とを混合した薬液である混酸、およびフッ化アンモニウムとフッ化水素酸とを混合した薬液であるバッファードフッ化水素酸の少なくとも２種類の薬剤をそれぞれの種類ごとに供給するので、マザー基板１１０の一方の面１１０ｆに形成されたポリシリコン膜１８０ｆ、および他方の面１１０ｒに形成されたポリシリコン膜１８０ｒが残ることなく、マザー基板１１０の一方の面１１０ｆのポリシリコン膜１８０ｆ、および他方の面１１０ｒのポリシリコン膜１８０ｒを除去することができる。 （もっと読む）

【課題】液晶層内に存在するイオン性不純物を吸着膜に吸着させるだけでなく、吸着されたイオン性不純物の光や熱による拡散や液晶の分解を回避する。
【解決手段】液晶表示素子５０は、照明系１０２を有する画像投射装置１００に用いられる。該液晶表示素子は、一対の基板５１，５６間に配置された液晶層５５と、該一対の基板のうち光入射側基板５１から離れて配置され、照明系から液晶層の画像表示領域１１に向かう照明光ＩＬが通過する開口部２０ａを有するとともに画像表示領域よりも外側の領域に向かう照明光ＩＬ′を遮る遮光部材２０と、該一対の基板のうち少なくとも一方の基板と液晶層との間に配置され、液晶層内に存在するイオン性不純物を吸着する吸着膜１２とを有する。吸着膜は、画像表示領域よりも外側であって、かつ開口部の内周縁よりも外側の領域に配置されている。 （もっと読む）

【課題】透明電極の形成において異物が付着した場合であっても、良好な表示品質を可能にする電気光学装置の製造方法等を提供することである。
【解決手段】電気光学装置に設けられた透明電極を複数回の透明導電膜成膜工程ＳＴ１０，ＳＴ２０によって形成し、複数回の透明導電膜成膜工程ＳＴ１０，ＳＴ２０の各工程間の１以上において洗浄工程ＳＴ１５を実施する。 （もっと読む）

【課題】素子の配列の正確度が向上した液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁マザー基板を提供し、波長が３５５ｎｍ未満であり、絶縁マザー基板が１０％以上の吸光率を有するようなレーザ光を照射して、絶縁マザー基板の内部にアラインマークを形成し、形成したアラインマークを基準に絶縁マザー基板上に多数の素子を形成し、絶縁マザー基板をカットして複数の絶縁単位基板を形成することを含む液晶表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】溶液の広がりや飛散若しくは誤滴下等による寄生容量やリークパスの発生を防止することのできる有機デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機デバイスの製造方法は、基板１０上に導電性有機材料を含む溶液を配置する工程と、前記溶液を乾燥することにより導電性有機膜１５を形成する工程と、不所望な領域に配置された前記導電性有機膜１５ａ，１５ｂ，１８に光Ｌを照射し、前記導電性有機膜１５ａ，１５ｂ，１８の導電性を低下させる工程とを備える。 （もっと読む）