【課題】画素電極に光反射防止構造が採用され、明るい表示が可能な液晶装置、液晶装置の製造方法、該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置は、第１基板としての素子基板１０と、第２基板としての対向基板２０と、素子基板１０と対向基板２０とにより挟持された液晶層５０と、画素電極層１５と、画素電極層１５に対応したトランジスター３０と、トランジスター３０と画素電極層１５との間に設けられ、コンタクトホールＣＮＴ２が形成された層間絶縁膜１２とを備え、画素電極層１５は、第２層間絶縁膜１２側から順に形成された、導電性の第１透光性層１５ａと、第１透光性層１５ａよりも屈折率が小さい絶縁性の第２透光性層１５ｂと、第２透光性層１５ｂよりも屈折率が大きく導電性の第３透光性層１５ｃとを含み、コンタクトホールＣＮＴ２内において第１透光性層１５ａと第３透光性層１５ｃとが電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】基板のずれを防止し、微小輝点の発生率を低減することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、第１基板２８と第２基板３６とのギャップを保持するスペーサ８０と、第２配向膜２２側に窪み６６を有する下地層４０と、対向する第１配向膜１８の第１面２０及び第２配向膜２２の第２面２４に挟まれた液晶層２６と、を有し、第１配向膜１８は、スペーサ８０の形状に沿って、第１面２０が突出する第１凸部８２を有し、下地層４０の窪み６６の底面は、凹凸状に形成され、第２配向膜２２の第２面２４には、下地層４０の形状に対応して窪み８４が形成され、第２配向膜２２の窪み８４は、第２配向膜２２の第２面２４よりも低い第２凸部７６と、第２凸部７６よりも低い底面を有する凹部７８とによって凹凸状に形成され、第１配向膜１８の第１凸部８２は、第２配向膜２２の窪み８４に入って第２凸部７６に接触している。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ装置の製造において、予期しない色光の漏れを防ぎ、彩度を向上するディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】ディスプレイ装置は、基板とカラーフィルタ層３１０とを備える。複数のサブピクセル電極１２１，１２２，１２３を基板の上に形成する。カラーフィルタ層を基板の上に設定する。カラーフィルタ層はサブピクセル電極層に対応する複数のカラー領域３１１，３１２，３１３を画定する。ここで、カラー領域の各々は、互いに隣接するサブピクセル電極の２つに部分的に重畳し、カラー領域の各々の形状は、対応するサブピクセル電極のフリンジ領域の分布範囲に一致する。これにより予期しない色光の漏れを防ぐことができ、彩度が向上する。 （もっと読む）

【課題】 表示パネル形成に際してのラビング時の静電気対策を主の目的としたカラーフィルタ形成基板の裏面の透明導電層のダメージの不具合を解決でき、且つ、表示用パネルに用いられた際に、横電界の乱れを抑制して、確実に液晶の配向の乱れを抑制できる横電界方式のＬＣＤ表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を提供する。
【解決手段】 透明基板側から、ブラックマトリクス層、各色のカラーフィルタ用の着色層、オーバーコート層、柱状物の順として、且つ、前記透明基板と前記オーバーコート層との間に、全面に、透明導電層を配しており、前記透明導電層は、少なくとも前記カラーフィルタ用の各色の着色層形成領域の一部を開口する開口部を有している。 （もっと読む）

【課題】垂直配向モード液晶表示装置のコントラスト比を向上させた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】
液晶表示装置を提供する。本発明の一実施形態による液晶表示装置は、第１基板と、前記第１基板上に位置するカラーフィルタと、前記第１基板と対応する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板の間に介される液晶層と、前記第１基板上に付着した第１補償フィルムと、前記第１補償フィルムの外側面に位置する第１偏光板と、前記第２基板上に位置する第２補償フィルムと、前記第２補償フィルムの外側面に位置する第２偏光板とを含み、前記第１補償フィルムは、−１０ｎｍ以上１０ｎｍ以下の範囲の面内の位相差値（Ｒｏ）と、−１０ｎｍ以上１０ｎｍ以下の範囲の厚さ方向の位相差値（Ｒｔｈ）を含み、前記第２補償フィルムは二軸性フィルムである。 （もっと読む）

【課題】現像液の濃度差による斜線状ムラを減少することができるＴＦＴ−ＬＣＤ画素電極層構造およびその形成方法、ならびにその形成用のマスクを提供する。
【解決手段】ＴＦＴ−ＬＣＤ画素電極層構造であって、液晶パネルの表示領域に対応する画素電極パターンと、液晶パネルの非表示領域に対応する周辺領域パターンと、非表示領域における周辺領域パターンを設けていない領域に対応する周辺充填パターンとを備える。本発明は、液晶ディスプレーの形成に適用される。さらに、画素電極層の形成方法および形成用マスクも提供された。 （もっと読む）

【課題】端縁に傾斜端面が形成されている電気光学装置用基板を用いた場合でも、電気光学装置用基板の所定領域に感光性樹脂層を確実に形成することのできる電気光学装置の製造方法、および当該方法により製造された電気光学装置を提供すること。
【課題手段】液晶装置において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の所定領域に感光性樹脂層８０を形成する際、遮光膜形成工程において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の端縁に形成された第１傾斜端面１０ｉに遮光膜８５を形成しておく。そして、感光性樹脂層形成工程において電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側にポジタイプの感光性樹脂層８０を塗布し、その後、露光現像工程において感光性樹脂層８０を露光、現像する。露光を行った際、第１傾斜端面１０ｉに向かう光は、遮光膜８５で遮られるので、第１傾斜端面１０ｉから電気光学装置用基板１０ｓの内部に入射することがない。 （もっと読む）

【課題】汎用性の基体を使用し、透明性、導電性、膜強度に優れると共に、高温、高湿度環境下においても透明性、導電性、膜強度の劣化が少ない透明電極用の分散液の調製方法、透明導電膜、透明導電膜の形成方法及び透明導電膜の形成方法で形成された透明導電膜を用いた透明電極を有する有機ＥＬ素子の提供。
【解決手段】少なくとも導電性ポリマーと、前記一般式（Ｉ）、（II）で表わされる構造単位を有するポリマー（Ｋ）を含む分散液の調製方法であって、少なくとも前記導電性ポリマーと前記ポリマー（Ｋ）を含有する分散液を脱溶媒処理することを特徴とする分散液の調製方法。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、表示画像の高品化を図る。
【解決方法】電気光学装置は、基板（１０）と、画素領域（４０ｂ）において表面に凹部を有するように段差部（１２´）が形成された下地膜（１２）と、下地膜の凸部上に形成された導電層（１５）と、段差部の表面を覆うように導電層と同一の工程及び材料から形成された反射層（１６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とした液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】１つの画素において、液晶層を介して入射する光を反射して表示を行う領域（反射領域）と、バックライトからの光を透過して表示を行う領域（透過領域）とを設け、照明光源として、外光を用いる反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とする。また、１つの画素にはそれぞれ別の画素電極層に接続された２つのトランジスタが設けられ、２つのトランジスタを別々に動作させることによって、反射領域の表示と、透過領域の表示とを独立して制御することができる。 （もっと読む）

【課題】 走査ラインの延伸方向に対して垂直な方向成分に画素電極の位置ズレが発生した場合であっても画質が低下することを防止できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 所定方向に隣接する第一画素Ｐ（ｉ，１）と第二画素Ｐ（ｉ，２）が１本のデータラインＳ（ｉ）を共用し、第一画素Ｐ（ｉ，１）が第一走査ラインＧ（１）に接続され、第二画素Ｐ（ｉ，２）が第二走査ラインＧ（２）に接続され、第一画素Ｐ（ｉ，１）に第二画素Ｐ（ｉ，２）とは異なるタイミングで表示信号電圧Ｖｄを書き込むとともに、表示信号電圧Ｖｄが所定の階調レベルに対して２つの異なる電圧レベルを有する液晶表示装置であって、当該画素へ表示信号電圧Ｖｄを書き込む際に、第一画素Ｐ（ｉ，１）と第二画素Ｐ（ｉ，２）との間で、前記２つの電圧レベルの中心電圧Ｖｄｃとの電圧差Ｖｃ１、Ｖｃ２が異なるように、共通電極Ｇｎにコモン信号Ｖｃｏｍを供給する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一定の力でマスクと基板の間に力を加えてパターン精度の高い真空成膜を可能にすることを目的としている。
【解決手段】基板１２とマスク１０を重ねて配置する。基板１２を、錘２６の重さによってマスク１０の方向に押圧して撓ませる。基板１２の撓んだ部分によって、マスク１０を押圧して撓ませる。撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。 （もっと読む）

光学複屈折を電気制御可能な、均一に配列された液晶材料を使用して、ノーマリーブラック型のマルチモードＬＣＤに関する技術が提供される。ＢＬＵとその近くの偏光層との間に光リサイクリング／再指向フィルムを加えて、ＬＣＤユニット構造の反射部から同じ構造の透過部にバックライトを再利用して、ＢＬＵの光出力効率を高め得る。透過部および反射部の電極は、種々の動作モードにおいて別個に駆動し得る。利点には、高い透過率、高い反射率、広観察角、光リサイクリング効率の向上、および低い製造費が含まれる。
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【課題】残像を消去することのできる液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】液晶表示パネルの第１基板の画素上にメイン薄膜トランジスタ９０とサブ薄膜トランジスタ９１が配置される。メイン薄膜トランジスタ９０は、当列走査線に接続される第１ゲート９０ａと、当列データ線に接続される第１ソース９０ｂを有する。サブ薄膜トランジスタ９１は、前列走査線に接続される第２ゲート９１ａと、次列データ線に接続される第２ソース９１ｂを有する。これにより、画素に蓄積した電荷が次列データ線から放出を促進されて効果的に残像を消去することができる。また、液晶表示時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】 高精度な駆動回路又は薄膜トランジスタを可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置（１００）を提供する。
【解決手段】 表示素子の製造装置は、表示素子（５０）を可撓性の基板（ＦＢ）に形成する。この製造装置は可撓性の基板（ＦＢ）を第１方向に搬送する搬送部（４５、４６）と、第１方向と交差する第２方向に回転して可撓性の基板（ＦＢ）に表示素子（５０）用の隔壁を形成する第１の隔壁形成ローラ部（１０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 シート基板が部分的に伸縮している場合でも高精度に表示素子を製造するため、高精度に位置検出できる表示素子用の製造装置を提供する。
【解決手段】 製造装置（１００）は、所定幅の可撓性の長尺基板（ＦＢ）に表示素子（５１）を製造する製造装置である。この製造装置（１００）は、長尺基板（ＦＢ）を送り方向（Ｘ方向）に送り出す基板送り出し部（ＦＲ）と、長尺基板の幅方向の第１領域に対して加工する第１加工部（ＥＸ１）と、長尺基板の幅方向で第１領域と異なる第２領域に対して加工する第２加工部（ＥＸ３）と、長尺基板の幅方向に互いに離間して形成された第１マーク（ＡＭ１）、第２マーク（ＡＭ２）及び第３マーク（ＡＭ３）を検出するマーク検出部と、を備える。そして第１マークと第２マークとに基づいて第１加工部の位置調整を行い、第２マークと第３マークとに基づいて第２加工部の位置調整を行う。 （もっと読む）

【課題】 修正の領域、材料、あるいは種類等における適用範囲を大幅に拡大できる表示装置の修正方法およびその装置の提供。
【解決手段】 基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、
前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。 （もっと読む）

【課題】 画素構成が微細化されたアクティブマトリクス基板であっても、基板に形成された配線や表示用スイッチング素子などの電気特性の検査を、基板単体の状態でも効率的に行うことができるアクティブマトリクス基板を得ること。
【解決手段】 表示領域８に、行方向および列方向のマトリクス状に配列された複数の画素電極５と、画素電極５の配列の行方向に伸延する複数の走査線２と、画素電極５の配列の列方向に伸延する複数のデータ線３と、走査線２とデータ線３とに印加された信号に基づいて、画素電極５に所定の電位を与える複数の表示用スイッチング素子４とを備え、走査線２およびデータ線３の少なくともいずれか一方は、複数本が検査用スイッチング素子１９を介して一つの検査用パッド１１、１４に接続されていて、検査用スイッチング素子１９のオン／オフを制御する、光が照射されることにより動作する光電素子１７を有している。 （もっと読む）

【課題】ＰＶＡ液晶モードにおいて、オーバードライブ駆動を行なうと生じる揺戻し現象を起因とする動画応答特性の低下を改善する。
【解決手段】画素セルは、高階調側の表示を担当する高階調側のサブ画素と低階調側の表示を担当する低階調側のサブ画素に分割され、各サブ画素を独立に駆動する個別の薄膜トランジスタを具備した多分割ドメイン制御技術を採用して視野角改善を図る。高階調側のサブ画素に対するオーバードライブ駆動特性と低階調側のサブ画素に対するオーバードライブ駆動特性とを独立に設定するルックアップテーブルを設ける。高階調側のサブ画素に対するオーバードライブ駆動特性と低階調側のサブ画素に対するオーバードライブ駆動特性の少なくとも一方を過剰気味のオーバードライブ量に設定することで、揺戻し現象を起因とする動画応答特性の低下を改善する。 （もっと読む）

【課題】従来の製造プロセスからの大きな変更を抑えつつ、薄型化および軽量化を図った液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】大判ガラス基板33上に従来の製造プロセスによってストッパ層41、および、複数の画素を形成する。大判ガラス基板33に対して対向用大判非ガラス基板38を貼り合わせて中間パネル45を形成する。大判ガラス基板33およびストッパ層41を除去する。大判ガラス基板33よりも薄膜状のアレイ用大判非ガラス基板を、接着層を介して対向用大判非ガラス基板38側と貼り合わせる。画素(薄膜トランジスタ層35)をアレイ用大判非ガラス基板28に転写するに際して、中間パネル45までを従来の製造プロセスで組み立てることができる。大幅な製造プロセスの工程変更や間接部材数の増加を抑えつつ、液晶表示パネル11の薄型化および軽量化を図ることができる。 （もっと読む）