【課題】静電破壊が起こりにくく、しかも、静電破壊が起こったときにショートが起こりにくい静電保護回路を有する電気光学装置およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】電気光学装置は、絶縁基板上に、複数の画素を有する画素領域と、画素領域の周縁に形成されたフレーム領域とを備えている。フレーム領域は、画素を駆動する駆動回路と、制御信号線と、共通電位と同一電位の共通電位電極と、駆動回路を保護する静電保護回路とを有している。静電保護回路は、制御信号線と共通電位電極との間に互いに直列に接続されるとともに、薄膜トランジスタで構成された複数のダイオードを有している。本技術の表示装置は、上記の電気光学装置を表示パネルとして備えている。 （もっと読む）

【課題】２Ｄ映像と３Ｄ映像を選択的に実現する。
【解決手段】複数のピクセルを含み２Ｄ映像と３Ｄ映像を選択的に表示する表示パネルと、表示パネルからの光を分割するパターンドリターダを備え、ピクセルそれぞれは、第１ＴＦＴを通じデータラインに接続された第１画素電極と、上部共通ラインに接続され第１画素電極に対向する第１共通電極を含んだメイン表示部と、第２ＴＦＴを通じてデータラインに接続され放電制御ＴＦＴを通じて上部共通ラインに接続される第２画素電極と、上部共通ラインに接続され第２画素電極に対向する第２共通電極を含んだ補助表示部と、第１ＴＦＴと第２ＴＦＴに共通でスキャンパルスを印加するゲートライン、放電制御ＴＦＴに放電制御電圧を印加する放電制御ラインを含み、メイン表示部と補助表示部の間に配置された配線部を備え、上部共通ラインに共通電圧を印加する下部共通ラインはメイン表示と補助表示部の外郭部に形成される。 （もっと読む）

【課題】除去版のパターンサイズが小さい場合であっても、パターンの高解像性を維持することができる反転印刷方法およびそれに使われる除去版、その製造方法を提供する。
【解決手段】版材の厚さ方向の一方に位置する表面に凸部１５と凹部１２とからなるパターンを形成した除去版６を用意する。ブランケット３上に塗布されたインキ材料に除去版６を押し当てることにより凸部１５の頂面１６に対応するインキ材料をブランケット３から除去することでブランケット３上に残存するインキ材料からなる凹部１２に対応する形状のパターンインキを形成する。パターンインキを基材４に転写することによって基材４上に凹部１２に対応する形状のパターンを形成する。除去版６は、凸部１５の頂面１６で凹部１２の外周に位置する部分に凹部１２の輪郭に沿って延在する溝状の凹型補正線１３が連続してあるいは断続して形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板のずれを防止し、微小輝点の発生率を低減することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、第１基板２８と第２基板３６とのギャップを保持するスペーサ８０と、第２配向膜２２側に窪み６６を有する下地層４０と、対向する第１配向膜１８の第１面２０及び第２配向膜２２の第２面２４に挟まれた液晶層２６と、を有し、第１配向膜１８は、スペーサ８０の形状に沿って、第１面２０が突出する第１凸部８２を有し、下地層４０の窪み６６の底面は、凹凸状に形成され、第２配向膜２２の第２面２４には、下地層４０の形状に対応して窪み８４が形成され、第２配向膜２２の窪み８４は、第２配向膜２２の第２面２４よりも低い第２凸部７６と、第２凸部７６よりも低い底面を有する凹部７８とによって凹凸状に形成され、第１配向膜１８の第１凸部８２は、第２配向膜２２の窪み８４に入って第２凸部７６に接触している。 （もっと読む）

【課題】隣接する画素の間に設ける絶縁膜は、バンク、隔壁、障壁、土手などとも呼ばれ
、薄膜トランジスタのソース配線や、薄膜トランジスタのドレイン配線や、電源供給線の
上方に設けられる。特に、異なる層に設けられたこれらの配線の交差部は、他の箇所に比
べて大きな段差が形成される。隣接する画素の間に設ける絶縁膜を塗布法で形成した場合
においても、この段差の影響を受けて、部分的に薄くなる箇所が形成され、その箇所の耐
圧が低下されるという問題がある。
【解決手段】段差が大きい凸部近傍、特に配線交差部周辺にダミー部材を配置し、その上
に形成される絶縁膜の凹凸形状を緩和する。また、上方配線の端部と下方配線の端部とが
一致しないように、上方配線と下方配線の位置をずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。
【解決手段】エッチング方法は、１断目エッチング処理槽６１において、温度ｔ１を有するエッチング液を用いて、金属膜の表層を除去する工程と、金属膜の表層を除去する工程の後に、２〜４段目エッチング処理槽６２〜６４において、温度ｔ１よりも高い温度ｔ２を有するエッチング液を用いて、金属膜をパターニングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板全体でのエッチングレートの面内均一性を向上させるエッチング装置を提供する。
【解決手段】エッチング装置は、基板の主表面を被覆する被覆層にエッチング液を供給して被覆層を加工する装置である。エッチング装置は、被覆層に相対的に少量のエッチング液を供給する第一給液部２１１と、第一給液部２１１よりも後段側に配置され、被覆層に相対的に多量のエッチング液を供給する第二給液部２２１とを備える。第一給液部２１１は、被覆層の表層部分を除去可能な量のエッチング液を被覆層に供給する。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ−ＬＣＤ用剥離液組成物添加剤であるメルカプト基が含まれたアゾール系化合物を腐食防止剤として用いて、水の含有量変化時にもＣｕ及びＡｌの腐食防止及びフォトレジスト剥離能力を一定に維持する水系フォトレジスト剥離剤を提供する。
【解決手段】（ａ）１級アルカノールアミン１〜２０重量％；（ｂ）アルコール１０〜６０重量％；（ｃ）水０．１〜５０重量％；（ｄ）極性有機溶剤５〜５０重量％；及び（ｅ）腐食防止剤０．０１〜３重量％；を含むＬＣＤ製造用フォトレジスト剥離液組成物。 （もっと読む）

【課題】端縁に傾斜端面が形成されている電気光学装置用基板を用いた場合でも、電気光学装置用基板の所定領域に感光性樹脂層を確実に形成することのできる電気光学装置の製造方法、および当該方法により製造された電気光学装置を提供すること。
【課題手段】液晶装置において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の所定領域に感光性樹脂層８０を形成する際、遮光膜形成工程において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の端縁に形成された第１傾斜端面１０ｉに遮光膜８５を形成しておく。そして、感光性樹脂層形成工程において電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側にポジタイプの感光性樹脂層８０を塗布し、その後、露光現像工程において感光性樹脂層８０を露光、現像する。露光を行った際、第１傾斜端面１０ｉに向かう光は、遮光膜８５で遮られるので、第１傾斜端面１０ｉから電気光学装置用基板１０ｓの内部に入射することがない。 （もっと読む）

【課題】アレイ基板上に着色層を有するＣＯＡ型液晶表示装置において、着色層上に形成するＩＴＯ画素電極のエッチングに際して、発生し易いＩＴＯのエッチング残渣を抑制する。
【解決手段】着色層２４を有する表示領域２５の周縁領域に着色層２４の延長上に遮光層２７を形成し、着色層２４及び遮光層２７を覆う保護膜２８を形成する。このとき、遮光層２７の周縁端部を覆う保護膜２８の断面形状は、遮光層の端部から延在し、さらに周縁部に向かうテーパ形状とする。これにより、保護膜２８上に形成する画素電極３０は保護膜２８の急峻性に起因するレジストのエッチング残渣及びＩＴＯのエッチング残渣の発生を抑制することとなる。 （もっと読む）

【課題】波状ノイズの発生を抑制することの出来る、高画質を具現する横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板は、４マスク工程によって製作されデータ配線の両側に半導体層が露出する構造において、半導体層の下部に光を遮断する第１遮断パターンを構成して、データ配線の上部に、これと接触しながら半導体層による影響を遮断する第２遮断パターンを構成する。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、高品質な画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、画素領域（１０ａ）に、データ線（６ａ）と、データ線と交差する走査線（１１）と、画素領域の周囲に位置する周辺領域に、データ線に電気的に接続されたスイッチング素子（７７）と、スイッチング素子に制御信号を供給する制御信号配線（１７０）と、スイッチング素子に画像信号を供給する画像信号配線（１５０）と、制御信号配線と画像信号配線との間に、定電位が供給される定電位配線（２００）とを備える。 （もっと読む）

【課題】端子配線間ピッチが小さい場合であっても、検査用薄膜トランジスタの面積及びＳＤ電極と接続配線とを接続するコンタクトホールのための面積を確保することが可能な表示装置を提供することである。
【解決手段】
走査線と映像信号線とに端子配線を介して信号を供給する複数の端子からなる端子群と、第１の方向に配列される複数の検査用薄膜トランジスタ群を、第２の方向に順次配列した複数の検査用薄膜トランジスタからなる点灯検査回路と、検査用薄膜トランジスタの第１のＳＤ電極から同一の層で伸延される配線及びコンタクトホールを介して接続される異なる層に配置される配線により形成される検査配線とを備え、前記端子群に近い側の検査用薄膜トランジスタのＳＤ電極とコンタクトホールとの間隔よりも、前記端子群に遠い側の間隔が大きい表示装置である。 （もっと読む）

【課題】第２箇所における配線の欠けを検出せずに、第１箇所における配線の欠けを検出することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置１００は、共通電位配線８の欠けを検出しようとする検査対象箇所では、検出配線９は、ＴＦＴ基板１の端辺１ａ近傍に配置され、検査対象箇所以外の箇所では、検出配線９は、ＴＦＴ基板１の端辺１ａ近傍よりも内側に配置されている。 （もっと読む）

【課題】配線レイアウトを複雑にすることなく、また製品コストの増加を招くことなく、端子の腐食、断線を防止する。
【解決手段】実装構造体では、基板１に形成された第１端子６２は相互に間隔をおいて配置された複数の端子部分（６２ａ、６２ｂ）を有する。そして、第１端子６２の端子部分のうち少なくとも１つの内側に位置する端子部分６２ａは、基板７に形成された第２端子９２と電気的に接続されている。また、基板１において、第１端子６２の両側の少なくとも一方には所定の電位が与えられる他の端子６２が隣接して形成されており、基板１の第１端子６２には、他の端子６２に与えられる電位より高い電位が与えられ、他の端子６２が第１端子６２の一方の側のみに形成されている。 （もっと読む）

【課題】開口率を高め、改善された視認性と透過率を実現することができる表示パネルを提供する。
【解決手段】表示パネル及びこれを有する液晶表示装置において、表示パネルは、ゲート線、ゲート線と交差するデータ線、ゲート線及びデータ線と接続される第１トランジスタ、ゲート線及びデータ線と接続される第２トランジスタ、ゲート線と離間して配置される維持電極線、維持電極線及び第２トランジスタと接続される第３トランジスタ、第１トランジスタと接続される第１画素電極、並びに第２トランジスタ及び第３トランジスタと接続される第２画素電極を含む。 （もっと読む）

【課題】基板の変形等が生じても、基板間のギャップを精度よく保持しつつ、柱状スペーサのずれを信頼性よく防止し、青輝点あるいは微少輝点の発生を回避した液晶表示装置の提供。
【解決手段】液晶を挟持して対向配置される第１基板と第２基板を備え、
前記第１基板の前記液晶側の面に、少なくとも薄膜トランジスタを被って形成される有機保護膜と前記液晶と接触して形成される配向膜とを含む積層体が形成され、
前記第２基板の前記液晶側の面に、高さの大きな第１柱状スペーサと高さの小さい第２柱状スペーサが形成され、
前記積層体は前記有機保護膜を貫通して形成される孔が形成され、
前記第１柱状スペーサは、その頂部が前記積層体の前記孔の内部に位置づけられて形成され、
前記第２柱状スペーサは、その頂部が前記積層体に孔が形成されていない箇所に形成され、
前記第１柱状スペーサと前記第２柱状スペーサのそれぞれの頂部は、前記前記第１基板と第２基板の無加重状態で、前記積層体に接触して形成されている。 （もっと読む）

【課題】レイテンシィ等の改善のためにタッチ検出速度を向上させる。
【解決手段】駆動制御部９は、複数の駆動電極４３＿１〜ｋｍを一方向に走査して駆動する表示走査駆動を行うとともに（書き込み画素ラインＷＰＬのスキャン）、当該表示走査駆動によってＮ表示画面の表示を行う期間内に、複数の駆動電極の全部または一部を連続して走査し駆動する検出走査駆動を、複数回、Ｍ表示画面分（Ｎ,ＭはＮ＜Ｍを満たす任意の自然数）行う（駆動電極ＤＥのスキャン）。複数のセンサ線は、一方向と異なる他方向に分離して配置され、被検出物が接触または近接に応答して電気的変化が生じる。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させることによって、同一の基材上に互いに方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、同一方向の線毎に、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって描画するに際し、より高速な描画を行うこと。
【解決手段】基材上に方向と幅の異なる複数の線が混在するパターンを、それぞれ基材に対して液滴吐出ヘッドを同一方向に相対的に移動させながら液滴を吐出することによって、同一方向に沿う線毎に描画する方法であって、複数の線のうち、幅の最も狭い線とは方向が異なり且つ幅が広い線を、該幅の最も狭い線を描画する際に吐出する液滴のドット径よりも大きなドット径の液滴を吐出することによって描画する。 （もっと読む）

【課題】光電流による影響が小さく、オンオフ比が高い薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ボトムゲートボトムコンタクト型（コプラナ型）の薄膜トランジスタにおいて、チャネル形成領域をゲート電極と重畳させ、チャネル形成領域と、配線層と接触する第２の不純物半導体層と、の間に第１の不純物半導体層を設け、好ましくはチャネル形成領域となる半導体層と第１の不純物半導体層はゲート電極と重畳する領域で接し、第１の不純物半導体層と第２の不純物半導体層はゲート電極と重畳しない領域で接する。 （もっと読む）