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Fターム[2H092KB01]の内容

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Fターム[2H092KB01]に分類される特許

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【課題】薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタは、第1方向に形成された少なくとも1本のゲートラインを含むゲート11と、ゲート上に形成されたゲート絶縁層12と、ゲート絶縁層12上に形成された少なくとも1つのソース13及びドレイン14と、を含み、ソース13及びドレイン14のうち少なくともいずれか一つは、延長部分13b、14bを含み、延長部分13b、14bは、少なくとも1本のゲートラインと平行するように、第1方向に形成される。ゲート11は、ライン状に均一厚を有し、その側面と上面との間に曲面を含み、1本または2本以上のゲートラインを含む形態となる。 (もっと読む)


【課題】誤動作の発生を防止させる表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、第1基板、第2基板、第1基板及び第2基板間に配置された液晶層、第1スペーサ、及び第2スペーサを含む。第1基板は映像を表示する表示領域及び駆動回路が具備される周辺領域を含む。第1スペーサは第1基板及び第2基板間の間隔を維持して周辺領域に配置され、第2スペーサは表示領域に配置される。駆動回路は第1信号ライン、第1信号ラインと絶縁された第2信号ライン、第1保護膜及びブリッジ電極を含む。第1保護膜は第1信号ライン及び第2信号ラインの一部を露出させる第1コンタクトホールを有する。周辺領域はコンタクト領域に隣接してコンタクト領域及び非コンタクト領域に対応して配置され、第1スペーサは非コンタクト領域に配置される。 (もっと読む)


【課題】高解像度の映像を表現できるCOG方式の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明は、LOGせん断でのインピーダンス整合とタイミングコントローラー出力端でのインピーダンス整合を利用して、硝子基板上の伝送線路の抵抗値と無関係にソースドライバーIC入力端の反射波を最小化させることにより、軽量化と薄型化を維持しながらも周波数特性を向上させて、高解像度及び高品質の映像表現が可能であるようにさせたチップオングラス(COG)方式の液晶表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】 印刷精度を向上させる。
【解決手段】 架台14上に設けたガイドレール15上に、版テーブル16と基板テーブル17を走行可能に設ける。各テーブル16,17に、アライメントステージ16a,17aをそれぞれ備えて、版10や基板11をそれぞれ保持させる。架台14上の所要個所に版10と基板11に共通のアライメントエリア23を設ける。アライメントエリア23の精密カメラ24からの画像の信号を基に、各テーブル16,17のアライメントステージ16a,17aに補正指令を与えるコントローラを備える。アライメントエリア23にて、版テーブル16に保持させた版10の位置と、基板テーブル17に保持させ基板11の位置のアライメントを取ることで、版10よりブランケットロール9を介して基板11へ印刷される印刷パターンの印刷位置の再現性を高精度なものとさせる。 (もっと読む)


【課題】従来よりも簡単な回路構成で走査回路と複数の走査線との間の配線数を低減する。
【解決手段】1番目のトランジスタの第1電極は、第1群のゲート配線のいずれかのゲート配線に接続され、j(1≦j≦N−1)番目のトランジスタの制御電極は、第(j+1)群のゲート配線のいずれかのゲート配線に接続され、走査線駆動回路は、k1個の第1群のゲート配線に対して、各グループ内の走査線を1水平走査期間毎に選択する第1選択走査電圧を出力し、 k2個の第2群のゲート配線に対して、k2個のグループを1単位とする2段目のグループの中の一つグループ内の走査線を、k1水平走査期間毎に選択する第2選択走査電圧を出力し、k(m+1)(2≦m≦N−1)個の第(m+1)群のゲート配線に対して、km個の第m段目のグループを1単位とする(m+1)段目のグループの中の一つグループ内の走査線を、(km×・・・×k1)水平走査期間毎に選択する第m選択走査電圧を出力する。 (もっと読む)


【課題】外部接続用の電極に接続される信号線の配置領域の面積を小さくしてより一層の低コスト化を図る液晶駆動装置等を提供する。
【解決手段】互いに交差する第1及び第2の電極を有する液晶表示装置を駆動する液晶駆動装置は、基板と、前記基板に形成され、前記第1及び第2の電極に出力する第1及び第2の駆動信号を生成する駆動信号生成部と、前記基板の縁部に沿って設けられたI/Oセル領域に隣接して配置され、前記第1及び第2の駆動信号を前記第1及び第2の電極に出力する第1及び第2のI/Oセルと、前記駆動信号生成部によって生成された前記第1及び第2の駆動信号がそれぞれ伝送される第1及び第2の信号線とを含み、前記第1及び第2のI/Oセルが同一の構成を有し、前記第1及び第2の信号線が、前記第1及び第2のI/Oセルの出力トランジスタのアクティブ領域上に配置される。 (もっと読む)


【課題】液晶駆動用の配線のみならず光検出部に接続された配線の中間機能検査をも容易に行うことが可能な光検出部を有する液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶表示装置1は、走査線GW及び信号線SWとICチップDrが搭載されるチップ搭載領域CAとが設けられたアレイ基板ARと、カラーフィルタ層23が設けられたカラーフィルタ基板CFと、光センサ30〜30を有する光検出部LD1と、光検出部LD1の配線に連結したセンサ引回し配線L1〜L3に接続された検出回路と、照光手段と、照光手段の明るさを制御する制御手段と、を備え、複数のセンサ引回し線L1〜L3のそれぞれに一端が接続され他端がチップ搭載領域CA内まで延設された複数のセンサ検査用配線31〜33が形成されると共にセンサ検査用配線31〜33の他端にはセンサ検査用端子34〜36がそれぞれ形成されている。 (もっと読む)


【課題】
下地との優れた密着性を有し、銅やシリコンの拡散を防止し低抵抗銅配線を備えた液晶画像表示装置を提供する。
【解決手段】
アモルファスシリコン等を形成した基板上に、窒化物の生成自由エネルギが負の金属を添加した銅−金属合金ターゲットを用いて窒素+アルゴン雰囲気で金属元素と窒素とを含有する銅を主成分とする合金層を形成する。次にアルゴンのみで銅と金属の合金膜を成膜することで拡散バリアを有する金属元素を含有する銅を主成分とする合金膜と、金属元素と窒素とを含有する銅を主成分とする合金膜との積層配線を形成する。 (もっと読む)


【課題】溶液の広がりや飛散若しくは誤滴下等による寄生容量やリークパスの発生を防止することのできる有機デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機デバイスの製造方法は、基板10上に導電性有機材料を含む溶液を配置する工程と、前記溶液を乾燥することにより導電性有機膜15を形成する工程と、不所望な領域に配置された前記導電性有機膜15a,15b,18に光Lを照射し、前記導電性有機膜15a,15b,18の導電性を低下させる工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】製造コストが安価な表示媒体および表示システムを提供すること。
【解決手段】光導電体18は、データ電極20および画素電極22よりも透光基板12側に配設されているので、データ電極20および画素電極22を透明材料で構成しなくても、透光基板12側からの光は、光導電体18に照射される。したがって、データ電極20および画素電極22の材料選択の自由度が高く、これらのデータ電極20および画素電極22を、安価な材料で構成することができるので、表示媒体10の製造コストが安価となるという効果がある。 (もっと読む)


【課題】配線抵抗の増加やスイッチング素子の駆動能力の低下を伴うことなく、走査配線と信号配線との交差部に形成される容量を低減することが可能なアクティブマトリクス基板およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】本発明によるアクティブマトリクス基板は、基板10と、基板10上に形成された信号配線11と、信号配線11に交差する走査配線13と、走査配線13に印加される信号に応答して動作するボトムゲート型の薄膜トランジスタ14と、薄膜トランジスタ14を介して信号配線11に電気的に接続され得る画素電極15とを備えている。信号配線11は、第1の層間絶縁膜12を介して走査配線13の下層に形成されており、第1の層間絶縁膜12に形成されたコンタクトホール12’を介して薄膜トランジスタ14のソース電極14Sに電気的に接続されている。第1の層間絶縁膜12は、ゲート絶縁膜16よりも厚く、且つ、ゲート絶縁膜16よりも比誘電率が低い。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイパネル完成後の点灯検査で検出された短絡欠陥を修正する場合に、配線の切断が困難であった。
【解決手段】本発明に係るTFT基板は、走査線(1-1,1-2,1-3)、信号線(2-1,2-2)、グランド電極線(3-1,3-2)及び電源供給線(4-1,4-2)が形成されるとともに、グランド電極線(3-1,3-2)及び電源供給線(4-1,4-2)は、それぞれアルミニウムによって形成された主要配線部と、主要配線部の配線パターンの一部にモリブデンによって形成された修正用配線部(1a〜1g,2a〜2g,3a〜3g,4a〜4g)とを有する。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置の配線および電極を形成するための銅合金薄膜並びにその薄膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ag:0.02〜2原子%を含有し、さらにV、Cr、Mn、Fe、Co、NiおよびZnのうちの1種または2種以上を合計で0.01〜2.5原子%を含み、残部がCuおよび不可避不純物からなる組成を有する銅合金薄膜からなる熱欠陥発生のない液晶表示装置用配線および電極、並びにこれらを形成するためのAg:0.1〜10原子%を含有し、さらにV、Cr、Mn、Fe、Co、NiおよびZnのうちの1種または2種以上を合計で0.02〜5原子%を含み、残部がCuおよび不可避不純物からなる組成を有するスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】フレキシブル基板のベゼルケースから引き出されている引出部分を確実に固定して、フレキシブル基板の曲げ応力が端子部との接続部分に加えられないようにする。
【解決手段】外枠としての金属製のベゼルケース50内に、端子部にフレキシブル基板20の一端が接続されている表示パネルが収納されており、フレキシブル基板20がベゼルケース50の端子部と対向する側枠52の開口部53から引き出されている表示装置において、ベゼルケース50の上記開口部53の縁に外側に張り出す舌片55を設け、フレキシブル基板20のベゼルケース50からの引出部分24を所定の固定手段(例えば係止爪56)により舌片55に固定する。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置の配線および電極を形成するための熱欠陥発生がなくかつ密着性に優れた銅合金薄膜並びにその薄膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】希土類元素のうちの1種または2種以上を合計で0.1〜3原子%を含み、さらにAg:0.1〜5原子%を含有し、残部がCuおよび不可避不純物からなる組成を有する銅合金からなる。 (もっと読む)


【課題】透過率の低下なく、高輝度の表示品質で低コストの液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第1基板SUB1上に薄膜トランジスタのゲート電極GTを一部に形成して走査信号を印加するゲート配線GLと、ゲート配線を覆って成膜されたゲート絶縁膜GIと、ゲート絶縁膜の上に島状に形成されて薄膜トランジスタの能動層を構成する半導体層nS/Sと、ゲート絶縁膜GIの上かつ半導体層に個別に接続されたソース電極SD1およびドレイン電極SD2と、ドレイン電極SD2に接続された画素電極PXを有し、ゲート配線GLとゲート電極GT、ソース電極SD1およびドレイン電極SD2、画素電極PXを絶縁性膜のバンクG−BNK、SD−BNK、P−BNKで囲まれた領域内にインクジェット塗布した導電性溶液の焼成で形成するものにおいて、これらのバンクのいずれも第2基板SUB2に有する遮光膜BMで隠される領域内にのみ配置し、表示領域には設けない。 (もっと読む)


【課題】表示品質の優れた表示装置を生産性よく製造することができる表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る表示装置の製造方法は、TFT108を備える基板100を有する表示装置に関する方法である。まず、TFT108を備える基板100上にスルーホール11を有する平坦化膜10を成膜する。次に、スルーホール11を介してTFT108のドレイン部と接続され、画素電極の少なくとも一部となる透明導電膜12を成膜する。そして、透明導電膜12を成膜後、TFT108を備える基板100に対してプラズマによる第1の表面処理を行う。さらに、プラズマによる第1の表面処理後、反射膜13を成膜する。 (もっと読む)


【課題】表示パネル上の配線不良を安定して検査することが可能であり、しかも、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 検査部40は、複数の第1配線パターンWP1からなる第1配線パターン群G1と、第1配線パターンWP1のそれぞれとは離間した複数の第2配線パターンWP2からなる第2配線パターン群G2と、検査部40のほぼ全体を覆うように島状に配置され各第1配線パターンWP1と対応する第2配線パターンWP2とをつなぐ配線を施すために複数の配線パターンに共通の開口部APを有する絶縁膜130と、絶縁膜130の開口部APのエッジから10μm以上離間して配置され第1配線パターンWP1と第2配線パターンWP2とを電気的に接続する複数の第3配線パターンWP3からなる第3配線パターン群G3と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フォトリソプロセス耐性に優れたフィルムを提供する。
【解決手段】1)ヘキサメチルジシラザンを0.5g/m2で表面に塗布して60℃で10分加熱した後、あるいは2)エチルセルソルブアセテートを70質量%含むポジ型ノボラック系レジスト樹脂組成物を3.3g/m2で表面に塗布後、あるいは3)テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドを2.4%含む25℃の水溶液に3分間浸漬後、40℃の温水中に1時間浸漬し、120℃で1時間加熱し、あるいは4)N−メチル−2−ピロリドン40%とジメチルスルホキシド60%からなる25℃の混合溶液に5分間浸漬後、40℃の温水中に1時間浸漬し、120℃で1時間加熱し、その後25℃・相対湿度60%の環境下に3日間放置した際の寸法変化が±100ppm以内である、硬化樹脂層を有するフィルム。 (もっと読む)


【課題】 半導体回路とカラーフィルターの位置合わせが容易な構造体、反射型表示装置、半導体回路の製造方法および反射型表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 実質的に透明な板状の基材3としてコーニング社製無アルカリガラス1737(厚さ0.5mm)を用い、その厚さ方向の一方の面にR(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルター層4を形成し、そのうえに透明樹脂からなる保護層を形成した。前記カラーフィルターが基材3の反対側に臨む面に、実質的に透明な薄膜トランジスタと前記薄膜トランジスタに導通される電気的接点を有する実質的に透明な導電材料によって構成される配線とを有する半導体回路を、前記フィルター配列パターンと位置合わせを行って設けた。 (もっと読む)


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