【課題】自己整列可能であり且つコストを節減できる薄膜トランジスタ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】この薄膜トランジスタ基板は、多段差構造を有するように深さの異なる多数個の溝を有する基板と、前記基板の溝内に互いに交差するように形成されて多数個の画素領域を形成させるゲートライン及びデータラインと、前記基板の溝内に形成され、ゲートライン及びデータラインの交差部に形成される薄膜トランジスタと、を含み、前記薄膜トランジスタの活性層は、前記ゲートライン及びゲート電極に沿って形成され、前記データラインを間に挟んで、隣接する画素領域の活性層と分離されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示領域と周辺領域とにおいて層間絶縁膜の表面を連続した平坦面とすることができる液晶装置および該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００の素子基板１０において、層間絶縁膜７２（第１層間絶縁膜）の表面では、表示領域１０ａの表示領域側第１スルーホール７２ａと周辺領域１０ｂの周辺領域側第１スルーホール７２ｂとが同等の密度で開口している。また、層間絶縁膜７３（第２層間絶縁膜）の表面では、表示領域１０ａの表示領域側第２スルーホール７３ａと周辺領域１０ｂの周辺領域側第２スルーホール７３ｂとが同等の密度で開口している。このため、層間絶縁膜７２、７３の表面を研磨する際、表示領域１０ａと周辺領域１０ｂとでは研磨速度が同等であるため、表示領域１０ａと周辺領域１０ｂとの間に段差が発生しない。 （もっと読む）

部材の配置方法は、基板と第１の液体を準備する工程と、部材及び第２の液体を含有する部材含有液を準備する工程と、親水性領域に第１の液体を配置する工程と、前記親水性領域に配置された前記第１の液体に前記部材含有液を接触させる工程と、前記第１の液体および前記第２の液体を除去することによって、前記部材を前記親水性領域に配置する工程と、を具備する。前記親水性領域は、部材配置領域と、前記部材配置領域の周辺に形成された液体捕捉領域とから構成されている。前記液体捕捉領域は、以下の化学式Ｉで表される表面を具備する。

（もっと読む）

【課題】工程を単純化することのできる半透過型薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】第１及び第２基板を提供し、第１マスク工程で第１基板上にゲートラインを形成し、第２マスク工程で第１基板上のゲート絶縁膜とゲート絶縁膜上の半導体パターンと半導体パターン上の画素領域を定義するようにゲートラインと交差するデータラインとソース電極及びドレイン電極を形成し、第３マスク工程でデータライン上の有機絶縁膜とソース電極及びドレイン電極を形成し有機絶縁膜を貫通する透過ホールを形成し、第４マスク工程で有機絶縁膜を貫通してドレイン電極と接続された画素電極及び透過ホールを形成し、透過ホールの画素電極を露出させる反射電極を画素電極上に形成する液晶表示装置の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】静電気により、薄膜トランジスタの電気的な特性が著しく変動して設計範囲を逸脱することを抑止し、半導体装置の製造における歩留まり向上を図ることを課題の一とする。
【解決手段】加熱処理で基板に静電気が帯電することを防ぐ、また、半導体装置の製造工程において基板に帯電した静電気を好適に低減するため、薄膜トランジスタが作製された基板を導電性を有する容器内に収納して加熱処理を行う。また、加熱処理を行う加熱装置は、接地電位と電気的に接続し、且つ、容器、及び基板も接地電位と電気的に接続する。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＴフィルム等の汎用高分子基板を用いることが可能であり、線幅、網目が細かく、ディスプレイ等に用いた場合には、モアレ等が生じない網目状の導電性膜を、簡易かつ安価に製造することができる製造方法、及び、導電性膜を提供する。
【解決手段】金属錯体及び／又は還元剤を含む有機溶媒分散体を基板に塗布して、網目状の導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、塗布された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程と無電解めっきを行う工程とを必須として導電性膜を形成することを特徴とする導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安定した電気的特性を有するトランジスタを用いて安定した動作を行う表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】酸化物半導体層をチャネル形成領域とするトランジスタを適用して表示装置を作製するに際し、少なくとも駆動回路に適用するトランジスタの上に更なるゲート電極を配する。酸化物半導体層をチャネル形成領域とするトランジスタを作製するに際しては、酸化物半導体層に対して脱水化または脱水素化のための加熱処理を行い、上下に接して設けられるゲート絶縁層及び保護絶縁層と酸化物半導体層の界面に存在する水分などの不純物を低減する。 （もっと読む）

【課題】剥離層、基板、又は設置面等の帯電による影響を受けない、回路動作が安定した薄膜装置を提供すること。
【解決手段】本発明の薄膜装置は、基板と、前記基板の上に形成された、導電性を有する電界遮蔽板と、前記電界遮蔽板の上に形成された、薄膜素子を含む能動層と、を備え、前記電界遮蔽板は、前記薄膜素子のいずれか電極の電位又は接地電位に接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】曲率を有する基材に被剥離層を貼りつけた半導体装置の作製方法を提供することを課題とする。特に、曲率を有するディスプレイ、具体的には曲率を有する基材に貼りつけられたＯＬＥＤを有する発光装置の作製方法の提供を課題とする。
【解決手段】元々曲率及び弾性を有する支持体に外力を加え、これを基板上に作成された被剥離層に接着する。この後基板を剥離すると、支持体が復元力によって最初の形状に戻るとともに被剥離層も支持体の形状に沿って湾曲する。最後に、元々曲率を有する転写体を被剥離層に接着すれば、所望の曲率を有した装置が完成する。 （もっと読む）

【課題】例えば、ＩＰＳ駆動方式等の横電界駆動方式を採用する液晶装置等の電気光学装置について、液晶層を挟持する一対の基板の一方の表面を簡便な製造プロセスで平坦化する。
【解決手段】第２電極（９ａ）のうち第１穴部（１６１）に延びる部分であるコンタクト部（１６５）によって囲まれた空間を規定する第３穴部（１６３）と、第２穴部（１６２）との夫々に絶縁材料を埋め込むことによって、第２穴部（１６２）及び第３穴部（１６３）を並行して塞ぐ。これら穴部（１６２）及び（１６３）に、例えば、同時に、或いは相前後して、アクリル樹脂等の絶縁材料を充填し、露光処理等のパターニング処理を施すことによって、第２穴部（１６２）及び第３穴部（１６３）を塞ぎ、絶縁膜（４９）及び第２電極（９ａ）の夫々からなる表面を含むＴＦＴアレイ基板１０上の面を平坦な面に近づける。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、半導体膜と電極との電気的なコンタクトが良好で、性能のバラツキがない半導体薄膜の製造方法、またこれを用いて、既成容量が少なく、高性能で動作が安定した薄膜トランジスタを製造することにある。
【解決手段】半導体前駆体を含有する液体材料を液滴にして基板上に塗設し、乾燥させて島状のパターンをもつ半導体前駆体薄膜を形成し、該半導体前駆体に変換処理を施して半導体を形成する半導体薄膜の形成方法において、島状のパターンを有する変換処理後の半導体薄膜が、
半導体薄膜の膜厚をチャネル方向に非接触３次元表面形状測定装置にて測定した膜厚プロファイルにおいて、半導体薄膜の中央から端部までの距離の５０％のところから端部までの平均膜厚と、半導体薄膜の中央から端部までの距離の５０％のところから中央までの平均膜厚とが、異なっていることを特徴とする半導体薄膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 製造歩留まりの低下や出来上がった配線板の製品としての信頼性の低下を引き起こすことなく、バンプが形成される部分である外部接続用端子部をはじめとしてそれに連なる導体パターンのファイン化を達成可能とする配線板の製造方法および配線板を提供する。
【解決手段】 第１レジスト３の開口パターン３Ａ内に、電気めっき法により第１レジスト３の厚さ未満の高さまで導体を充填して、導体パターン４を形成し、導体パターン４を形成した後、外部接続用端子部４_−２における第１レジスト３の開口パターン３Ａから露出していると共に第２レジスト５の開口部５Ａから露出している部分に、その部分の外部接続用端子部４_−２の表面を電極として用いて、電気めっき法により、第１レジスト３の厚さ以下の高さまで導体を充填することで、バンプ６を形成する。 （もっと読む）

【課題】インクジェットにより短時間に配線の形成が可能な積層構造体を提供する。
【解決手段】基板と、基板上において、高表面エネルギー領域と、低表面エネルギー領域とが形成されている濡れ性変化層と、濡れ性変化層の高表面エネルギー領域上において導電性材料により形成された導電層とを有し、導電層は、インクジェットヘッドにより導電性材料を含む液体を吐出することにより形成されるものであって、インクジェットヘッドの副走査方向に延びたパターンの導電層となる高表面エネルギー領域には、前記インクジェットヘッドの主走査方向に延設された高表面エネルギー領域の液滴供給領域が形成されていることを特徴とする積層構造体を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜におけるリーク電流が抑止され、高い絶縁膜容量が得られ、低ゲート電圧で動作可能な有機薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】
基板１１上に、ゲート電極１８、ゲート絶縁膜１７、有機半導体膜１６、ドレイン電極１４、及びソース電極１５を備える有機薄膜トランジスタである。ゲート絶縁膜１７は、低誘電体膜１７ａと高誘電体膜１７ｂの二層構造を有し、低誘電体膜１７ａは高誘電体膜１７ｂと有機半導体膜１６との間に介装されているとともに、低誘電体膜１７ａは非共有電子対を有する官能基を持たず且つ分子構造内にπ電子結合を持たない有機高分子化合物を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 カプセル化画素のアレイを備えたディスプレイデバイス。
【解決手段】 カプセル化する画素は、電位差がそれを横切って生成される時に、第１の光学状態から第２の光学状態に変更される光学素子を含む。光学素子は、電位差を生成するための画素ドライバに接続される２つの電極と接触する。カプセル化画素は封止層によって環境から密封して封止され、および、ドライバが誘導送電システム経由で、無線で電力を受け取る。 （もっと読む）

【課題】可視光領域での透過率が高く、化学的に安定であり、高い導電性を有した透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明性基板の表面に、金ナノ粒子が線状に配列して成長した金ナノワイヤーから成る膜を有する本発明の透明導電性基板を製造するには、不活性ガス雰囲気下にて基板の表面に、アミノ基あるいはチオール基を有した化合物を用いて、それらの表面基を導入した後、得られた処理基板を、金イオンあるいは金の錯体イオンを含む溶液中に所定時間浸漬させて金イオンあるいは金の錯体イオンを処理基板表面基に吸着させ、その後、還元性溶液中に浸漬させて処理基板表面基の金イオンあるいは金の錯体イオンを還元させ、処理基板表面に金ナノ粒子を付着させ、最終工程で、前記処理基板を、金イオンあるいは金の錯体イオンを含む溶液中に浸漬させ、還元性溶液を添加し、所定時間後に取り出す。 （もっと読む）

【課題】画素電極の間隙に入射した漏れ光が画素電極の裏面や遮光膜の表面に対して小さい角度で入射した場合においても、従来よりも遮光性を向上させることが可能な液晶表示素子を提供する。
【解決手段】半導体基板１、半導体基板１の上方に配置された遮光膜６、及び遮光膜６の上方に第１の間隙を有して配置された画素電極７を有する駆動基板３０と、駆動基板３０の上方に第２の間隙を有して配置され、画素電極７と対向する透明電極４２を有する透明基板４０と、第２の間隙に充填された液晶ＬＣと、を備え、第１の間隙には、所定の屈折率を有する第１の絶縁層４と、所定の屈折率とは異なる屈折率を有する第２の絶縁層２０とが、画素電極７及び遮光膜６の各表面に沿う方向に交互に配置されている構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板製造工程が増加するのを抑制しながら、部品点数を削減することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置は、液晶層１３を挟み込むように配置されたアレイ基板１１および対向基板１２を少なくとも含み、アレイ基板１１の液晶層１３側の面上に外部機器接続部１７が設けられた液晶表示パネル１と、液晶表示パネル１に実装され、液晶表示パネル１に照射する光を生成するための光源２とを備えている。そして、アレイ基板１１と対向基板１２との間には、光源２の端子部２２に接続される導電層１８がアレイ基板１１と対向基板１２との間から露出した部分を有するように形成されており、アレイ基板１１の液晶層１３側の面上に、外部機器接続部１７から導電層１８にまで連続して延びる電力供給線１９が形成されている。 （もっと読む）

【課題】従来よりも簡単なプロセスで光配向処理が可能な液晶表示パネルの製造方法およびそのような製造方法によって製造され得る液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】 ガラス基板１１を用意する工程と、ガラス基板１１の第１主面に第１方位に延びる埋め込み配線１２ａ、１２ｂを形成する工程と、埋め込み配線が形成されたガラス基板１１の第１主面の上に光配向膜１８を形成する工程と、第２主面側から第１方位に略直交する第２方位に傾斜した方向から光配向膜の第１領域１８Ａ１または１８Ａ２にのみ選択的に直線偏光を照射することによって、光配向膜の第１領域のプレチルト方向を規定する工程と、配向膜２８を有するガラス基板２１を用意する工程と、誘電異方性が負の液晶材料を含む液晶層３０を間に介して光配向膜１８と配向膜２８とが互いに対向するようにガラス基板１１とガラス基板２１とが貼り合わせられた液晶セルを作製する工程とを包含する。 （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜にコンタクトホール有する回路基板を安価に提供する。
【解決手段】多層配線からなる回路基板であって、層間絶縁膜を介し下部電極と上部電極とが接続されるコンタクトホールがマトリックス状に二次元的に配列されている回路基板の形成方法において、二次元的に配列されている所定の形状のペースト吐出領域を有するスクリーン版であって、スクリーン版において近接する３つ以上のペースト吐出領域から吐出した絶縁ペースト同士がダレにより二次元的に接合することによりコンタクトホールが形成されるように印刷を行う印刷工程と、印刷された絶縁ペーストを硬化させる硬化工程とを含むことを特徴とする回路基板の形成方法を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）