【課題】有機ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイ等の表示素子パネルに接続する、透明性の高いフレキシブルプリント配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明ガラス層１と透明プラスチック層２との積層体を基材とし、そのガラス層１を貫通する溝１４内に配線３有するフレキシブルプリント配線板１０により、上記課題を解決する。このとき、配線の幅Ｗを１μｍ〜２ｍｍとし、配線の高さＨを５μｍ〜２００μｍとすることができる。こうした配線板１０は、エッチャントに対して異なる被エッチング能を持つ少なくとも２種の透明層１，２が積層されてなる積層体を準備する工程と、そのエッチャントでエッチングされる側の透明層１を所定パターンでエッチングを行って貫通させる工程と、その貫通した溝１４内に導電材３’を形成する工程とを有する方法で製造する。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡便な塗布法による優れた透明性と高い導電性を備え、屈折率が小さく、平坦性に優れる低屈折率透明導電膜と、その製造方法を提供する。
【解決手段】主成分に有機インジウム化合物、有機錫化合物、有機亜鉛化合物のいずれか一つ以上の有機金属化合物である塗布液を用い、耐熱性基板上に塗布膜を形成し、乾燥塗布膜を形成させ、乾燥塗布膜を焼成して、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上が主成分の無機膜を形成する製造方法で、有機インジウム化合物、有機錫化合物、有機亜鉛化合物のいずれか一つ以上の有機金属化合物が主成分の乾燥塗布膜を、露点−１０℃を越える酸素含有雰囲気下で、少なくとも無機成分の結晶化が起こる焼成温度以上まで昇温し、含まれる有機成分を除去することで、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上が主成分の微粒子間に空隙を有する低屈折率の導電性酸化物微粒子層を形成する。 （もっと読む）

【課題】第一、第二屈折整合層の厚み及び屈折率整合（refractive index matching）により、反転位相の効果を生じさせ、エッチング工程による痕跡が視覚に与える影響を干渉可能とすること。
【解決手段】光学フィルム構造は、基板と、前記基板上に形成された多層膜構造とを含み、前記多層膜構造は、前記基板に最も近い位置から順に第一屈折整合層と第二屈折整合層と第三層とを積層してなる。 （もっと読む）

【課題】着色がなく、硬度の高い透明導電膜を提供すること。
【解決手段】本発明の透明導電膜は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと、ポリビニルアルコールと、を含有する材料で構成されており、波長４５０ｎｍでの吸光度Ｔ１と波長７５０ｎｍでの吸光度Ｔ２との比Ｔ１／Ｔ２が０．９〜１．１であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】配線抵抗をさほど増加することなく、配線の交差部分における点灯状態を視認しにくくすることが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１電極と当該第１電極に接続した第１配線31とを一方面上に有する第１基板と、第２電極と当該第２電極に接続した第２配線32とを一方面上に有する第２基板と、前記第１基板の一方面と前記第２基板の一方面との間に挟まれた液晶層と、を含み、前記第１配線と前記第２配線とが平面視において重なる交差領域において前記第１配線に１つ以上の第１開口部33が設けられた、液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】電圧印加に応じて光透過状態または光散乱状態を呈する液晶光学素子を用いる表示装置において、配線部分が視認されないようにする。
【解決手段】電圧無印加時に光透過状態になり電圧印加時に光散乱状態になる液晶光学層がガラス基板３２０，３３０によって挟持され、ガラス基板３２０に、セグメント電極に接続される複数のセグメント配線３２１〜３２４が設けられ、ガラス基板３３０に、各々のセグメント配線３２１〜３２４と同形状の対向配線４２１〜４２４が各々のセグメント配線３２１〜３２４に対応して設けられ、シール部において、トランスファ材３５０によって、各々のセグメント配線３２１〜３２４と対応する対向配線４２１〜４２４とが電気的に接続されている。また、シール部において、トランスファ材３５０によって、コモン配線３３１，３３５と対応する対向配線４３１，４３５とが電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】素子基板のマスク枚数を抑えて、ディスクリネーションを効率良く隠すとともに、比視感度の高い緑色を表示する画素については光漏れが目立ちにくくする。
【解決手段】直視型の透過型の液晶表示装置において、素子基板は、ゲート配線３１１と、ソース配線３０２と、画素ＴＦＴを有する画素部と、ｎチャネル型ＴＦＴやｐチャネル型ＴＦＴを有する駆動回路とを含む。比視感度の高い緑表示の画素については、光漏れが目立ちやすいので、確実にディスクリネーションを遮光できるように、遮光膜を兼ねたドレイン電極３１３の面積を広くする。赤表示の画素については、遮光膜を兼ねた遮光電極３１４を狭い幅で設ける。青表示の画素については、明るさを優先して、遮光膜３１５を一部のみ形成する。 （もっと読む）

【課題】共通電極及びカラーフィルタを有する一方の基板の背面にバックライトを設け、画素電極及びＴＦＴを有する他方の基板の側から画像を視認する構成において、配線されたバスラインによる外光の反射光の影響を低減する表示装置を提供する。
【解決手段】視認側のガラス基板２とバスライン４ａを設けた絶縁膜４との間に形成したバッファ膜３に、バスライン４ａと同形状にパターニングされた、バスライン４ａよりも光反射率が低い層（低反射層）３ａを、バスライン４ａを覆うように設けている。ガラス基板２を介して入射された外光（Ａ）は、低反射層３ａにて遮断されてバスライン４ａに到達しない。外光は、低反射層３ａにて反射する（Ｂ）が、その反射光量は少ない。 （もっと読む）

【課題】薄型化を実現すると共に、透明電極パターンの不可視化を達成する。
【解決手段】表示装置全体で透明電極パターンの不可視化を達成する。複数の画素電極２２と駆動電極４３が、ＴＦＴ基板２１と第２基板４１との間に配置されている。複数の検出電極４４は第２基板４１の駆動電極４３と反対の側に配置され、電極隣接層（例えば接着層４８）が第２基板４１と複数の検出電極４４に接し、その屈折率ｎａ（ｎｏ）が第２基板４１の屈折率ｎｓから４４検出電極の屈折率ｎｐまでの範囲内である。 （もっと読む）

【課題】タッチセンサを一体化した表示装置で透明電極の不可視化を達成する。
【解決手段】複数の画素電極２２は、ＴＦＴ基板と平行な面状に行列配置されている。複数の検出電極４４が、画素電極２２と対向する面状に配置され、画素電極配列の一方向において画素の自然数倍のピッチで分離配置されている。複数の検出電極４４は、不図示の駆動電極と対向する面状に配置され、それぞれが駆動電極と容量結合している。この配置では検出電極の配置ピッチが画素電極ピッチと適合するため、表示装置全体で透明電極パターンの不可視化が達成される。 （もっと読む）

【課題】共通配線の低抵抗および高開口率を維持しつつ、外光の映り込みがない横電界方式の液晶表示装置及びそれを用いた電子機器の提供。
【解決手段】第１の基板と第２の基板と、該２枚の基板に狭持された液晶層とを有し、該第１の基板には２次元的にマトリクス状に画素が配置され、各画素には少なくとも薄膜トランジスタと画素電極と共通電極とを有し、該マトリクスは複数の映像信号線と複数の走査信号線が交差して形成された横電界方式の液晶表示装置であって、該映像信号線および該走査信号線上には透明絶縁膜が設けられ、該透明絶縁膜上に画素電極と共通電極と共通配線とが設けられ、該共通配線は格子状に形成され、その一方向は金属よりも可視光の反射率が小さい第１の導体からなり、他の一方向は金属層を含む第２の導体からなる。 （もっと読む）

【課題】半導体素子を実装した配線基板を透過しての光の漏れを防止することのできる実装構造体、照明装置、および液晶装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置に用いられる照明装置８において、発光素子３は、光軸Ｌをフレキシブル配線基板７０の基板面に沿う方向に向けてフレキシブル配線基板７０の第１面７１ａ側に実装された実装構造体７として用いられている。実装構造体７において、第１面７１ａ側には、第１パッド７５および第２パッド７６を構成する導電層と同一の導電層によって遮光用導電層７７が形成され、かかる遮光用導電層７７は、発光素子３の発光中心部３ｃと平面的に重なっている。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー技術に限定されることなくパターンの形成が可能であり、安価なパターン形成方法を使用できるためコストを抑制でき、また、配線パターンのサイズや形状を自由に設計できるため、製品応用への範囲が広く、大量生産が可能な、配線パターンの見えない積層体を提供すること。
【解決手段】可視光波長領域における屈折率が１．８以上、２．２以下の透明基板１と、透明基板１上の一部に形成された酸化亜鉛膜２とを備え、透明基板１の可視光領域の光の波長に対応する屈折率に対して、酸化亜鉛膜２の可視光領域の光の波長に対応する屈折率が、プラス５％およびマイナス５％の範囲内であり、透明基板１の裏面から入射されて、透明基板１のみを透過して出射される光の可視光領域における分光透過率に対して、透明基板１の裏面から入射されて、透明基板１および透明基板１の一部に形成された酸化亜鉛膜２を透過して出射される光の可視光領域における分光透過率が、プラス５％およびマイナス５％の範囲内であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 斜め方向から見た時のオフ状態のセングメント電極を見えないようにする液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 液晶表示素子は、対向配置された一対のガラス基板と、前記一対の基板の各々の対向面に形成された透明電極パターンと、前記透明電極を覆って前記基板上に形成された、配向膜を含む膜構成と、前記一対の基板間に挟持され、リターデーション値が２．５μｍより上で３μｍ以下であるツイステッドネマチック液晶層と、偏光軸が平行な一対の偏光板とを有する。 （もっと読む）

【課題】 コストの増加を抑えつつ液晶表示素子の引き回し線間における液晶表示の誤動作を抑制する。
【解決手段】 液晶表示素子は、セグメント電極パターンと、引き回し線パターンとが形成された第１のガラス基板と、前記第１のガラス基板に対向配置され、コモン電極パターンと、前記第１のガラス基板上に形成された引き回し線パターンの間隔が１００μｍ以下である場合に、当該引き回し線パターン間に対向する領域に形成されたダミーパターンとを有する第２のガラス基板と、前記第１及び第２のガラス基板上に形成されるパターンを覆って形成された配向膜を含む膜構成と、前記第１及び第２のガラス基板間に挟持された液晶層とを有する。 （もっと読む）

【課題】酸化物透明導電膜の上に反射電極用のＡｌ合金膜が直接接続された構造を備えた表示装置の製造工程において、ＴＭＡＨ水溶液などのアルカリ現像液に曝された場合に、上記Ａｌ合金膜の腐食を有効に抑制することのできる、上記表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化物透明導電膜の上に反射電極用のＡｌ合金膜が直接接続されてなる構造を備えた表示装置の製造方法であって、基板上に前記酸化物透明導電膜を形成する第１の工程と、前記酸化物透明導電膜を１５０℃以上に５分間以上加熱して結晶質とする第２の工程と、前記酸化物透明導電膜上に前記Ａｌ合金膜を形成する第３の工程とを包含し、前記Ａｌ合金膜は、Ｎｉを０．１〜４原子％含有するＡｌ合金からなることを特徴とする。 （もっと読む）

導電フィルム又は装置電極は、基板、及び透明又は半透明な介在層によって分離された２つの透明又は半透明な導電層を有する。介在層は、導電フィルム又は電極を組み込んだ装置の特定の層間で生ずる界面反射を低減させるために第１の導電層と第２の導電層との間に導電経路を有する。
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【課題】面全体が導電性を有し、高い導電性と良好な透明性と表面平滑性を併せ持つ透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明フィルム支持体上に、少なくとも金属ナノワイヤと透明樹脂とを含有し、該金属ナノワイヤの少なくとも一部が表面に露出した金属ナノワイヤ含有透明樹脂層を有し、さらに、該金属ナノワイヤ含有透明樹脂層の上に導電性層を有する透明導電性フィルム。金属ナノワイヤ含有透明樹脂層において、表面に露出している部分の金属ナノワイヤの比率が、全金属ナノワイヤの投影面積の１０％以上あることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】電極形状に局所的な形状のバラツキが発生した場合でも、表示ムラが発生しにくく、画像表示領域全体で均一な画質を得ることができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、同一基板上に画素電極９と共通電極１９とが絶縁膜を介して積層されてなるＦＦＳ方式の液晶表示装置であって、画素電極９には複数の帯状電極９ｃが設けられ、帯状電極９ｃの幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットＳｃの幅をＳ、スリットＳｃの長さをＭ、帯状電極９ｃとＸ軸との成す角度をθとしたときに、画素電極９は、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを備えている。 （もっと読む）

【課題】透明性および導電性に優れるだけでなく、特に基材フィルムと透明導電塗膜層との密着性、および耐湿熱性に優れた導電性フィルム、それを用いた耐湿熱性に優れたタッチパネルを提供すること。
【解決手段】導電性フィルムにおける透明導電塗膜層として、カチオン性のポリチオフェンとポリアニオンとを含む導電性高分子、特定量のエポキシシクロ炭化水素基を有するシラン化合物、および特定量の水溶性ポリエステルを構成成分として含む透明度電塗膜層を用いる。 （もっと読む）