【課題】製造容易な表示装置を提供する。
【解決手段】複数の導光部のそれぞれは、一端と、他端と、一端から他端に向かう第１方向に沿って延在する側面と、を有する。複数の導光部は、第１方向に対して交差する第２方向に、互いに離間しつつ並ぶ。光源は、導光部の一端から導光部中に光を入射させる。支持基板は、導光部の側面に接する第１主面と、第１主面とは反対側の第２主面と、を有し、前記側面に接する部分が透明である。第１電極は、第２主面に設けられた光透過性の電極である。対向基板は、第２主面と対向し、第１電極と離間して設けられる。第２電極は、対向基板の前記第２主面と向かい合う面に設けられた光透過性の電極である。複数のスペーサは、支持基板と対向基板との間に設けられ、第１方向及び第２方向に対して平行な平面に射影したときに、複数の導光部間に配置される。 （もっと読む）

【課題】隣接する開口部の内部へ有機半導体インクを塗布した際に、互いのインクの混合を抑制し、高い品質を備える薄膜トランジスタ装置とその製造方法、有機ＥＬ表示素子、および有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】隔壁１０１６における開口部１０１６ｂを臨む側面部のうち、隣接する開口部１０１６ｃの側の側面部１０１６ｅは、側面部１０１６ｄを含む他の側面部よりも傾斜が相対的に急峻な斜面となっている。隔壁１０１６における開口部１０１６ｃを臨む側面部のうち、隣接する開口部１０１６ｂの側の側面部１０１６ｆは、側面部１０１６ｇを含む他の側面部よりも傾斜が急峻な斜面となっている。開口部１０１６ｂと開口部１０１６ｃとの各内部に対して、有機半導体インクを塗布した場合、Ｘ軸方向に互いに離れる方向に偏った表面プロファイルを有することになる。 （もっと読む）

【課題】微細な構造であっても高い電気特性を有するトランジスタを提供する。
【解決手段】酸化物半導体層、及びチャネル保護層を覆うようにソース電極層、及びドレイン電極層となる導電膜を形成した後、酸化物半導体層、及びチャネル保護層と重畳する領域の導電膜を化学的機械研磨処理により除去する。ソース電極層、及びドレイン電極層となる導電膜の一部を除去する工程において、レジストマスクを用いたエッチング工程を用いないため、精密な加工を正確に行うことができる。また、チャネル保護層を有することにより、導電膜の化学的機械研磨処理時に当該酸化物半導体層に与える損傷、または膜減りを低減できる。 （もっと読む）

【課題】静電破壊が起こりにくく、しかも、静電破壊が起こったときにショートが起こりにくい静電保護回路を有する電気光学装置およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】電気光学装置は、絶縁基板上に、複数の画素を有する画素領域と、画素領域の周縁に形成されたフレーム領域とを備えている。フレーム領域は、画素を駆動する駆動回路と、制御信号線と、共通電位と同一電位の共通電位電極と、駆動回路を保護する静電保護回路とを有している。静電保護回路は、制御信号線と共通電位電極との間に互いに直列に接続されるとともに、薄膜トランジスタで構成された複数のダイオードを有している。本技術の表示装置は、上記の電気光学装置を表示パネルとして備えている。 （もっと読む）

【課題】表示領域の周辺部分近傍に見られる表示ムラを無くし、優れた表示品位の液晶表示装置を得る。
【解決手段】各々にスイッチング素子を有する複数の画素１３がマトリクス状に形成された表示領域３と表示領域３の外側であってスイッチング素子に信号を供給する引き出し配線６が形成された引き出し配線領域４とを有するアレイ基板２と、アレイ基板２上に、表示領域３と引き出し配線領域４の境界からアレイ基板２端部に向けて、相互に平行に延在する複数の畝状の凸部１０と、表示領域３を覆う配向膜９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】バリア性の高い保護層を有する積層構造、有機半導体素子、配線および表示装置、並びに有機半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】導体または半導体を含む有機層と、絶縁材料により構成され、前記有機層を覆う保護層と、外周が前記絶縁材料と親和性を有する親和層に覆われ、前記保護層に分散された複数の粒体とを備えた積層構造。 （もっと読む）

【課題】大型化に適した薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタアレイ基板、フレキシブル表示素子、フレキシブル表示装置及び薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フレキシブルな樹脂基板６０に形成された薄膜トランジスタ２００であって、周面の一部又は全部が導電性材料２０により覆われたワイヤー１０と、前記導電性材料を覆う絶縁膜３０と、該絶縁膜を介して前記導電性材料上に形成された薄膜半導体４０と、が一体的に構成されたゲート・チャネル一体形成部５０を有し、該ゲート・チャネル一体形成部が前記樹脂基板の表面上又は内部の所定位置に設けられ、前記薄膜半導体の両側に第１及び第２の電極７０、８０が接続されて形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大量生産上、大型の基板に適している液滴吐出法を用いた製造プロセスを提供す
る。
【解決手段】液滴吐出法で感光性の導電膜材料液を選択的に吐出し、レーザ光で選択的に
露光した後、現像またはエッチングすることによって、レーザ光で露光した領域のみを残
し、吐出後のパターンよりも微細なソース配線およびドレイン配線を実現する。ＴＦＴの
ソース配線およびドレイン配線は、島状の半導体層を横断して重ねることを特徴としてい
る。 （もっと読む）

【課題】 フレキシブルで、軽く、安定で高導電性の導電材料およびこれを用いた電気素
子を提供する。
【解決手段】
本発明の導電材料は、少なくとも一つの次元方向が２００ｎｍ以下であり、かつ炭素原
子の一部が少なくとも窒素原子に置換された単層グラフェン及び多層グラフェンの少なく
とも１種よりなるカーボン材料と、金属の粒子及び線材の少なくとも１種よりなる金属材
料とが、混合及び／又は積層されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画素領域の周囲においてグローバル段差を生じ難くして、高い表示品質が得られる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置は、基板としての素子基板１０上に画素電極１５と、画素電極１５と素子基板１０との間において平面視で画素電極１５と重なって配置された保持容量１６と、画素電極１５と保持容量１６との間に形成され平坦化処理が施された第３層間絶縁膜１４と、複数の画素電極１５を含む画素領域Ｅの周辺領域Ｅｃに配置され、保持容量１６と同一配線層に形成されたダミーパターンＤｐ１と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】除去版のパターンサイズが小さい場合であっても、パターンの高解像性を維持することができる反転印刷方法およびそれに使われる除去版、その製造方法を提供する。
【解決手段】版材の厚さ方向の一方に位置する表面に凸部１５と凹部１２とからなるパターンを形成した除去版６を用意する。ブランケット３上に塗布されたインキ材料に除去版６を押し当てることにより凸部１５の頂面１６に対応するインキ材料をブランケット３から除去することでブランケット３上に残存するインキ材料からなる凹部１２に対応する形状のパターンインキを形成する。パターンインキを基材４に転写することによって基材４上に凹部１２に対応する形状のパターンを形成する。除去版６は、凸部１５の頂面１６で凹部１２の外周に位置する部分に凹部１２の輪郭に沿って延在する溝状の凹型補正線１３が連続してあるいは断続して形成されている。 （もっと読む）

【課題】高開口率を得るために形成する層間絶縁膜のパターニング性、歩留まりを向上させ、生産性に優れた薄膜トランジスタアレイを提供する。
【解決手段】ゲート絶縁膜２上には、ゲート電極１１に重なる位置に、ドレイン電極１６と、ソース電極１７と、を隔てて設けてあり、ドレイン電極１６には、画素電極１５を接続し、ソース電極１７には、ソース配線１８を接続してある。また、ゲート絶縁膜２上には、ドレイン電極１６及びソース電極１７の双方に重なるように、半導体層３を設けてある。ゲート絶縁膜２上には、画素電極１５の一部を露出させた状態で、ソース電極１７、ソース配線１８、ドレイン電極１６、画素電極１５、半導体層３を封止する一層目封止層４を設け、一層目封止層４上には、ソース電極１７及びソース配線１８に重なる位置に、二層目封止層５を設けてある。 （もっと読む）

【課題】光の利用効率に優れた素子基板を容易に製造可能な電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器を提供すること。
【解決手段】平面視で少なくとも画素電極と重なる領域であって、画素電極側から、第二遮光層、第二絶縁層、第一絶縁層および第一遮光層を貫通する凹部を形成すると共に、凹部の底部を曲面状に形成することとしたので、当該凹部の底部をマイクロレンズとして用いることができる。また、凹部形成工程を、スイッチング素子の半導体層を形成した後に行うこととしたので、スイッチング素子の半導体層を形成する環境に影響されること無く容易に凹部（マイクロレンズ）を形成することができる。これにより、光の利用効率に優れた素子基板を容易に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れる有機導電膜を提供する。
【解決手段】有機導電膜１２ａは、少なくとも導電性ポリマーを含有する導電性組成物を用いて形成された有機導電膜１２ａであって、その片面の最大高さ（Ｒｚ）が、平均膜厚に対して３５％以上である。前記導電性ポリマーは、ポリチオフェン系導電性ポリマーであり、ドーパントとの複合体である。光学フィルム、包装材、透明電極フィルム、液晶表示セル等の構成部材として好適に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】２つの配向状態間の遷移を生じさせるのに適したスイッチング素子および電極の構造を有する新規な液晶素子を提供すること。
【解決手段】液晶素子は、第１基板、第２基板、第１基板に設けられた第１電極、第１電極と離間して第１基板の一面側に設けられた第２電極、第１電極又は第２電極に接続されたスイッチング素子、第１電極及び第２電極と重畳して第２基板に設けられた共通電極、第１基板と第２基板の間に設けられた液晶層を備え、第１基板及び第２基板は、液晶層の液晶分子を第１方向に捻れた第１配向状態を生じるように配向処理の方向を設定され、液晶層は、液晶分子を第１方向とは逆の第２方向に捻れた第２配向状態を生じさせる性質のカイラル材を含有し、第２電極と共通電極の間に電圧が印加されたことにより液晶層が第１配向状態へ遷移し、第１電極と第２電極の間に電圧が印加されたことにより液晶層が第２配向状態へ遷移する。 （もっと読む）

【課題】外部配線を直接接続しない基板の「割れ」、「欠け」等を簡単に検出することができる表示装置用パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置用パネルは、第１電極部１１、および該第１電極部１１を外部配線に対して電気的に接続する接続部１２を含む第１基板１０と、第１基板１０と対向して設けられた、第２電極部２１を含む第２基板２０と、第１電極部１１と第２電極部２１とを電気的に接続するコモン転移材３０とを備える。第２電極部２１は、第２基板２０の損傷を検出するための検出部分を含み、検出部分は、コモン転移材３０を介して第１電極部１１および外部配線に対して電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】絶縁層上の有機半導体層をレーザ光を用いてパターニングしたときであっても、有機半導体層に損傷が生じ難い半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、（Ａ）基体１０上にゲート電極１２を形成した後、（Ｂ）基体１０及びゲート電極１２上にゲート絶縁層１３を形成し、次いで、（Ｃ）基体１０に到達する分離溝１６をゲート絶縁層１３に形成した後、（Ｄ）ゲート絶縁層１３上及び分離溝１６の底部に露出した基体１０上に有機半導体層１４を形成し、次に、（Ｅ）少なくとも分離溝１６の底部に露出した基体１０上に形成された有機半導体層１４の部分にレーザ光を照射して分離溝１６の底部の少なくとも一部を露出させる一方、有機半導体層１４の上に一対のソース／ドレイン電極１５を形成する各工程から成る。 （もっと読む）

【課題】イオン性不純物のトラップ効率の低下を抑制でき、長期的に優れた信頼性を得ることができる電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電気光学物質層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板と、第１基板と第２基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素が配列された画素領域と、画素領域とシール材との間の外縁領域に電極を備えて設けられたイオントラップ部と、を有する電気光学装置であって、イオントラップ部の少なくとも一部と平面視で重なる領域に、電気光学物質層の厚さが画素領域における厚さよりも大きく形成された厚層部が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）