Fターム[2H095BA00]の内容
写真製版における原稿準備・マスク (14,219) | 半導体製造用の用途 (2,262)
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Fターム[2H095BA00]に分類される特許
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パターン形成方法、パターン形成装置、並びにフォトマスクおよびその製造方法
【課題】電気的導通が不連続な被加工基板に対し、荷電粒子線を照射してパターン形成を行う場合、電界の発生を抑止しつつ、かつ、レジストの解像性を損なうことなく、微細なパターンを精度よく形成する手段を提供する。
【解決手段】被加工基板10の裏面に当たる第2の面10bに導電膜12を形成し、当該導電膜12と導通ピン15を接触させることで、荷電粒子線14の照射による蓄積電荷に対抗する電荷を導電膜12に発生させ、電界による荷電粒子線の偏向を抑止する。
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マスクの回収システムと回収方法
【課題】
サーバを用い、顧客からのマスクの回収依頼を受け付け、出庫や回収作業、回収確認作業、顧客への閲覧などの一連の回収作業を確実に実施する。
【解決手段】
サーバ1は、顧客端末5からネットワークを介して品種終息に係るマスク6の回収依頼を受けてストッカ2に該マスク6の出庫指示と、回収手段3に該マスク6の回収指示と、回収確認手段4からの回収確認情報を該顧客端末5に公開するものであり、ストッカ2は、該マスク6を貯蔵しているものであり、回収手段3は、該マスク6に描かれたマスクパターンを読取不能に破壊して回収するものであり、回収確認手段4は、該のマスク6が、顧客が確認可能に破壊され回収されたことを認証するものであるようにマスクの回収システムを構成する。
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