Fターム[2H095BB00]の内容
写真製版における原稿準備・マスク (14,219) | 製造 (4,813)
Fターム[2H095BB00]の下位に属するFターム
パターン生成 (1,983)
リソグラフィー (1,154)
メッキ、蒸着、CVD (170)
リフトオフ (9)
その他の手段 (119)
組み合わせプロセス (56)
原版・マスクの保持、取扱い (75)
汚染防止、異物除去 (119)
制御、調整、検知 (1,127)
Fターム[2H095BB00]に分類される特許
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ステンシルマスク製造方法
【課題】微細である貫通孔パターンを備えたステンシルマスクの製造に適したステンシルマスク製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、ハードマスク層をブロックコポリマーの自己組織化を用いてパターニングを行うことにより、ハードマスク層に微細パターンを形成するのと同時に、ハードマスク層を薄膜層に対して高いエッチング選択比を備えたマスクとして形成することが出来る。よって、薄膜層に貫通孔パターンを形成するためのマスクを微細なパターンで形成することが出来、微細な貫通孔パターンを備えたステンシルマスクを製造することが可能となる。
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