【課題】微細である貫通孔パターンを備えたステンシルマスクの製造に適したステンシルマスク製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、ハードマスク層をブロックコポリマーの自己組織化を用いてパターニングを行うことにより、ハードマスク層に微細パターンを形成するのと同時に、ハードマスク層を薄膜層に対して高いエッチング選択比を備えたマスクとして形成することが出来る。よって、薄膜層に貫通孔パターンを形成するためのマスクを微細なパターンで形成することが出来、微細な貫通孔パターンを備えたステンシルマスクを製造することが可能となる。 （もっと読む）