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Fターム[2H095BD40]の内容

写真製版における原稿準備・マスク (14,219) | 検査、修正 (2,910) | 修正 (515) | その他の手段 (116)

Fターム[2H095BD40]に分類される特許

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【課題】波長が13.5nm付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet:EUV)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体集積回路装置の製造技術を提供する。
【解決手段】位相欠陥211が生じている開口パターン204の近傍の吸収層203に、開口パターン204よりも微細な開口径を有する補助パターン301を形成する。この補助パターン301は、ウエハ上のフォトレジスト膜に開口パターン204を転写する際の露光光量を調整するためのパターンである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、位相欠陥による転写パターンへの影響を正確に把握することが可能な反射型マスクの欠陥修正方法および製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上に形成された多層膜と、上記多層膜上にパターン状に形成された吸収層と、上記多層膜の位相欠陥とを有する反射型マスクの欠陥修正方法であって、上記位相欠陥をEUV光で観察し、光学像から、上記多層膜の厚み方向に対する上記位相欠陥の傾きを含む上記位相欠陥の情報を取得する観察工程と、上記位相欠陥の情報に基づいて、上記位相欠陥を修正する修正工程とを有することを特徴とする反射型マスクの欠陥修正方法を提供することにより、上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】歩留まりの低下を抑制できるマスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のマスクの製造方法は、被処理基板上に転写するべきデバイスパターンに対応するパターン面を含むパターン面を基板に形成する工程(S1)を含む。次に、前記パターン面を液体により処理する工程を行う(S3)。この工程(S3)において、前記パターン面のうち修正が不要である領域は第1の条件で液体により洗浄し、前記パターン面のうち修正が必要である領域は前記第1の条件と異なる第2の条件で液体により修正することを含む。また、前記修正は、前記マスクパターンの前記被処理基板上への転写特性に影響を及ぼす、前記パターン面に係る物理パラメータの修正である。 (もっと読む)


【課題】EUV光リソグラフィ用マスクの位相欠陥を簡便に救済する技術を提供する。
【解決手段】EUVリソグラフィ用マスクの製造に用いるマスクブランクの位相欠陥検査工程で位相欠陥が検出された場合、前記位相欠陥が凹欠陥か凸欠陥かを判定し、前記位相欠陥の凹凸に応じて、前記EUVリソグラフィ用マスクの前記位相欠陥を含む部位を局所的にデフォーカスさせて露光を行うことにより、EUVリソグラフィ用マスクの位相欠陥を修正することなく、半導体ウエハへの回路パターンの異常転写を抑制する。 (もっと読む)


【課題】露光用マスクを露光装置から外すことなしにマスクに付着した異物を除去することができる異物除去装置及び露光装置を提供することを課題とした。
【解決手段】異物が付着した露光用マスクを露光装置に搭載した状態で前記異物を除去する露光用マスク異物除去装置であって、静電気を除去するためのイオナイザー17と、露光用マスクを照射するするためのライト13と、異物を除去するためのパージ装置15と、露光用マスクを撮像するためのCCDカメラ16と、が露光用マスク下部を可動することを特徴とする露光用マスク異物除去装置であって、前記ライトとパージ装置とCCDカメラとが一体的に可動することを特徴とする露光用マスク異物除去装置である。 (もっと読む)


【課題】 リソグラフィマージンの低下を抑制できる反射型露光用マスクのパターン補正方法を提供すること。
【解決手段】 反射型露光用マスクのパターン補正方法は、反射型露光用マスクのパターンが形成された主面に露光光を入射した場合における前記露光光を用いた場合のリソグラフィプロセスウィンドウを取得する際に、前記主面に対して入射角(θi)でもって入射する露光光を用いた場合のリソグラフィプロセスウィンドウ(Wi)を取得し、その後、前記iをi+1に変更して再びリソグラフィプロセスウィンドウ(Wi)を取得することを、前記iが所定の数N(≧2))に達するまで行うことにより、互い入射角が異なるN個のリソグラフィプロセスウィンドウを取得する工程(S1,S2)を含む。さらに、前記N個のリソグラフィプロセスウィンドウの重なりが一定値を超えるように、前記パターンを補正する工程(S3)を含む。 (もっと読む)


【課題】 パターン部材上に固形物が残存することのない塵の除去を可能とするパターン部材洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】 基板上にパターンが形成されたパターン部材に付着した塵を除去するパターン部材洗浄方法であって、前記パターン部材のパターン形成面に、冷却により固化可能な液状塵除去材料を付与する工程、前記液状塵除去材料を冷却し、固体又はゲル状の塵除去層を形成する工程、及び前記塵除去層を、前記パターン部材に付着した塵とともに除去する工程を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】パターンの微細な凹部に入り込んだ異物を精度よく除去することができるフォトマスクの異物除去方法及び異物除去装置を提供する。
【解決手段】カンチレバー12の変位量が一定となるように3軸微動機構21を制御しつつカンチレバー12を上下に変位させ、基板01の表面上をスキャンすることにより、基板01の表面及び異物02の三次元情報を取得する。基板01の表面及び異物02の三次元情報を元に、プローブ11のアプローチ位置と深さ方向のアプローチ量とを決定したうえで、その決定値で異物02にプローブ11をアプローチする。プローブ11(細管14)が異物02に接触した瞬間、異物02は細管14に吸着される。細管14に異物02が吸着されている状態で、プローブ11をカンチレバー12と一体に引き上げることにより、基板01の凹部に入り込んだ異物02を除去する。 (もっと読む)


【課題】露光を行なうことによりフォトマスクに生じる、フォトマスクのパターン寸法の変動による影響を低減する。
【解決手段】フォトマスクに照射される露光量に応じて定期的にフォトマスクのクリーニング処理を行なう。具体的には真空チャンバ1内のステージ3上に試料2としてのフォトマスク基板を載置し、作業用ガスとして還元性ガスを真空チャンバ1内に導入する。プラズマ生成用のRF電源7及びプラズマイオンの入射エネルギ調整用のRF電源24に高周波電力を印加してプラズマを発生させ、還元性ガスをラジカル化し、露光によりフォトマスクの遮光層に取り込まれた酸素原子を、酸化還元反応によって引き出すことにより、酸化層を除去する。 (もっと読む)


【課題】黒欠陥修正後、経時的な欠陥修正部のパターン形状の変化を抑制するフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】露光光を透過する基板3と、前記基板3上に、金属化合物を含有しパターン状に形成された遮光層2とを有する透過型フォトマスク1の製造方法であって、前記遮光層2上にレジスト層を形成し、前記レジスト層にパターン描画及び現像を行いレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンにより前記遮光層2をエッチングし、前記レジストパターンを除去することにより前記遮光層2のパターンを形成する工程と、前記遮光層2の黒欠陥部分をガスアシストエッチングした直後、前記ガスアシストエッチング部分に皮膜11形成による表面処理を行う工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】単一ビームや単針を走査する方法と比べて短時間にパターンを検査することができるパターン形成部材の検査方法及び装置、並びにパターン形成部材を提供する。
【解決手段】被転写材料に転写すべきパターン3とプラズモン共鳴構造体4とを有するパターン形成部材1を準備し、プラズモン共鳴構造体4に光を照射してプラズモン共鳴構造体4のプラズモン共鳴の吸収特性を計測し、吸収特性に基づいてパターン3を検査する。 (もっと読む)


【課題】フォトマスク面内での露光光の照度にムラがある場合でも、ウエハ上のレジスト線幅の細りや膜減りが生じるのを回避できるフォトマスクを得る。
【解決手段】露光パターンを感光性材料に転写するためのフォトマスク100において、ガラス基板などの透明基板101と、該透明基板上に、該露光パターンを有する光透過領域が形成されるよう選択的に形成されたクロムなどの遮光膜10とを備え、該遮光膜10を、レジストパターン欠陥が検出されたウエハ上領域に対応するマスク領域A内の遮光膜20aの膜厚が、レジストパターン欠陥が検出されなかったウエハ領域に対応するマスク領域B内の遮光膜10bの膜厚に対して厚くなるように再加工したものである。 (もっと読む)


【課題】加工ヘッドを対向するガラス基板に対して走査しながらエッチャントをガラス基板との隙間に供給しこれを吸引排出することでガラス基板の表面を加工する際、走査速度を速めても、平坦化のために算出した目的の除去量(計算値)と実際の加工における除去量にずれを生じさせることなくガラス基板の表面を加工する。
【解決手段】加工ヘッド2によりエッチャントをガラス基板3の表面に供給し吸引することにより、加工ヘッド2とガラス基板3との隙間に一定面積のエッチャント流路を形成し、加工ヘッド2とガラス基板3とを相対的に走査してガラス基板3の表面を加工する際、前記エッチャント流路を流れるエッチャントを該エッチャント流路の外側から前記エッチャント流路の外周を取り囲むようにして、全周方向からエッチャント流路の中心に向かって流れる乾燥ガスの加圧ガス流で加圧し、前記エッチャント流路内にエッチャントを封じ込める。 (もっと読む)


【課題】空間内に存在する化学物質を容易に回収可能な回収装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る回収装置は、一つ又は複数の部材によって構成された空間内の物質を回収する回収装置であって、上記空間内に気体又は溶媒を導入するための導入口を上記部材に形成する、導入用ニードル13と、上記導入口を介して上記空間内に上記気体又は溶媒を供給する供給配管14と、上記空間から上記物質を含む上記気体又は溶媒を排出するための排出口を上記部材に形成する、回収用ニードル15と、上記排出口を介して上記物質を含む気体又は溶媒を回収する回収配管16とを備えている。 (もっと読む)


【目的】予め歪ませたパターンが形成された被検査対象試料をダイーダイ検査する際に、高精度な検査が可能なパターン検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査装置100は、複数の同一パターンが形成位置にそれぞれ歪みをもって形成された被検査試料の光学画像データを取得する光学画像取得部150と、前記光学画像データを複数の部分光学画像データに切り出す切り出し部72と、前記被検査試料に形成されたパターンの歪み量を取得可能な歪情報を用いて、前記複数の部分光学画像データの位置を補正する補正部74と、補正された前記複数の部分光学画像データ同士を画素毎に比較する比較回路108と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】検査対象基板上の異物を確実に除去することができる基板検査装置の提供。
【解決手段】基板検査装置1は、マスク116、複数の粘着性粒子が離脱可能に設けられた剥離シート20、および粘着部材22が装着されるマスクホルダ117と、マスクホルダ117に対してマニピュレータ(例えばナノピンセット10)と検出部41とが設けられた検出ヘッド113を相対移動させる移動手段である鉛直方向駆動機構123および水平方向駆動機構124と、制御装置200を備えている。制御装置200は、剥離シート20に設けられた複数の微小吸着粒子のいずれか一つをマニピュレータで保持して離脱させ、微小吸着粒子を保持したマニピュレータを異物の位置へ移動し、異物を粘着性粒子に付着させてマスク116から除去し、異物が付着した微小吸着粒子を粘着部材22に付着させて移送する。 (もっと読む)


【課題】マスクエラーモデルと組み合わせ、デバイス設計の共通プロセス窓や露光ツールを最適化する方法、及びシステムを提供する。
【解決手段】ポストOPCマスクレイアウトに従ってマスクが製造される(工程210)。マスクを検査しマスク検査データを生成、分析し、系統的マスクエラーパラメータを決定する(工程212)。検査されたマスクについて個別マスクエラーモデルが作成される(工程214)。個別マスクエラーモデルを使用してリソグラフィプロセスをシミュレートし、シミュレートパターンを生成する(工程216)。シミュレートパターンを工程218で得られたプレOPC設計レイアウトと比較し(工程220)、所望のパターニング性能を発揮するかどうかを判定する(工程222)。発揮できると判定された場合、工程228に進む。そうでない場合は工程224に進み、修復可能または作り直し可能かどうかを判定する。 (もっと読む)


【課題】ArFエキシマレーザを露光光源とし、変形照明による投影露光に用いられる補助パターンを有するフォトマスクにおいて、補助パターンが転写対象面に解像されてしまう場合のフォトマスクを、確実で比較的容易な方法により補助パターンを修正するフォトマスクの修正方法および修正されたフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板11の一主面上に、投影露光により転写対象面に転写される主パターン12と、主パターン12の近傍に形成された補助パターン13とを有するフォトマスク10において、前記投影露光により補助パターン13が転写対象面に解像されてしまう場合のフォトマスクの修正方法であって、解像されてしまう補助パターン13の表面をエッチングもしくは研削し、補助パターン13が転写対象面に解像されなくなるまで、解像されてしまう補助パターン13の膜厚を薄くすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】オペレータにかかる負担を軽減し、又フォトマスクをキズつけることなくフォトマスクの欠陥検査、特に断線の有無を検出する検査方法を提供する。
【解決手段】フォトマスクの検査方法であって、該フォトマスクを用いて導電性を有する複製物を作製し、該導電性を有する複製物の電気的抵抗を測定することで該フォトマスクの良否の確認を行うことを特徴とするフォトマスクの検査方法。 (もっと読む)


【課題】微細なパターンが形成されたリソグラフィ原版についても、異物を除去することができるリソグラフィ原版の異物除去方法及びこの異物除去方法を用いたリソグラフィ原版の製造方法を提供する。
【解決手段】フォトマスクに付着した異物の除去方法であって、電子ビームが照射されることにより異物P又はフォトマスクの凹部13の底面がエッチングされるようなエッチングガス雰囲気中において、異物Pに電子ビームを照射する。又は、電子ビームが照射されることにより固体材料が生成されるデポジションガス雰囲気中において、異物Pに電子ビームを照射して異物P上に固体材料を堆積させ、この固体材料に対してAFMの探針により力を印加する。 (もっと読む)


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