【課題】ＥＵＶリソグラフィ用マスクの搬送時やマスクステージへの装着・脱離時に異物が発生する不具合を抑制することにより、半導体装置の製造歩留まりを向上させる。
【解決手段】マスク１０をハンドラー３０で保持して露光装置のマスクステージに搬送する際、予めマスク１０の側面に永久磁石２０、２１を取り付けておく。また、ハンドラー３０のアーム部３２、３３には、マスク１０の永久磁石２０、２１との間に斥力が作用するように配置された電磁石３４、３５を取り付けておく。これにより、マスク１０を搬送する際、ハンドラー３０のアーム部３２、３３に挟まれたマスク１０は、アーム部３２、３３と非接触状態となり、浮遊状態でハンドラー３０に保持される。 （もっと読む）

【課題】バッファ機能と反転機能とを統合運営できるバッファユニット、基板処理設備、及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明によるバッファユニット４０００は、ベースプレート４１１０と、ベースプレート４１１０に互いに離隔されて設置される第１垂直プレート４１２０と第２垂直プレート４１３０とを有するフレーム４１００と、フォトマスクＭが置かれ、第１及び第２垂直プレート４１２０，４１３０間に反転自在に設置される第１バッファ４２００と、及び第１及び第２垂直プレート４１２０，４１３０の外方に設置され、第１バッファ４２００に置かれるフォトマスクをグリップし、反転されるように第１バッファ４２００を駆動させる駆動部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板等から安全かつ効率的に接着剤を除去することができる接着剤の除去方法及びそれら方法を採用するペリクルフレーム接着剤除去装置を提供する。
【解決手段】上記課題を解決するため、１）接着剤又はその残渣が存在する基板の表面を流体で被覆しながら、２）前記接着剤又はその残渣が存在する箇所近辺に前記流体の流れを遮る隔離領域あるいは、流れが滞留した隔離領域を形成し、３）前記隔離領域内で前記基板を押圧する摺動体を揺動させ、４）前記隔離領域内に前記接着剤又はその残渣を剥離或いは溶融する薬剤を滴下し、若しくは前記揺動体に前記薬剤を滴下するとともに、５）当該摺動体を前記接着剤またはその残渣上を水平方向に移動させ、６）機械的かつ化学的に前記接着剤又はその残渣を前記基板から剥離することを特徴とする接着剤の除去方法の構成とした。 （もっと読む）

【課題】収納容器に対するレチクルの位置決めに有利な技術を提供する。
【解決手段】基板に転写すべきパターンと第１マークとが形成されたパターン面を有するレチクルを収納する収納容器であって、前記パターン面を保護するためのベースプレートと、前記ベースプレートに配置され、前記パターン面を介して前記レチクルを支持する支持部と、前記レチクルの前記パターン面とは反対側の面を保護するように、前記ベースプレートに載置されるカバーと、を有し、前記ベースプレートは、前記支持部に支持された前記レチクルの前記第１マークを観察するために光透過部材で構成されたウィンドウ部を含み、前記ウィンドウ部に第２マークが形成されている、ことを特徴とする収納容器を提供する。 （もっと読む）

【課題】露光マスクを用いて形成されるパタンと、合せ先の工程において形成されたパタンとの合せずれを低減し、歩留りの低下を抑えることが可能な半導体装置の製造方法、露光マスクの出荷判定方法及び作製方法を提供する。
【解決手段】露光後合せずれ測定パタンと、本体集積回路内のパタンとを含む第１のパタンを有する第１のマスクを作製し、第１のパタンにおける、露光後合せずれ測定パタンの位置ずれと、本体集積回路内のパタンの位置ずれをそれぞれ測定した後、これらの位置ずれの差分である第１の差分を算出し、第１の差分を、第１のマスクを用いてウエハを露光処理する際の、合せパラメータに反映させる。 （もっと読む）

【課題】人手による搬送作業をなるべく抑えて露光装置とマスク検査装置との間でフォトマスクを搬送することができるマスク搬送システムを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク搬送システムは、ストッカ１１〜７１と、搬送路３と、収納容器と、搬送装置２００と、制御装置８０と、を備える。収納容器はウェハ搬送用とマスク搬送用とで同一の構造を有する。制御装置８０は、露光エリア３０のストッカ３１、またはマスク検査エリア７０のストッカ７１に収納容器が入庫されると、収納容器がマスク搬送用であるかを判別し、マスク搬送用の収納容器である場合には入庫されたストッカではないストッカ７１，３１に収納容器が搬送されるように搬送装置２００を制御する搬送装置制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクへの塵の付着を抑制しつつ、フォトマスク表面に付着した有機化合物を除去可能なマスクケースを提供する。
【解決手段】内部空間にフォトマスクが収納されるケースである。前記フォトマスクに対向する底面に真空紫外光透過部（５）を有し、前記内部空間と連通したガス流入孔（７）およびガス流出孔（８）が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
大型のペリクル、フォトマスクあるいはガラス基板のような大型精密部材を極めて清浄な状態を保ったまま保管、輸送できる大型精密部材収納容器を提供する。
【解決手段】
本発明は、大型精密部材を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイ３とカバーとを備える大型精密部材収納容器１において、トレイ３およびカバーのうち、少なくともトレイ３を鋳造部材とし、当該鋳造部材の少なくとも大型精密部材を収納する空間を形成する面に導電性塗膜４０を形成し、その導電性塗膜４０の表面を、５μｍ以下の算術平均粗さ（Ｒａ）で、かつ２０μｍ以下の十点平均粗さ（Ｒｚ）とする大型精密部材収納容器１に関する。 （もっと読む）

【課題】露光用マスクの成長性異物による汚染を管理するためのマスクやウェハの検査が不要であり、マスクの履歴に依存せずに汎用性があり、マスク製造や検査のための時間・コストが増大せず、常に清浄な状態でマスクを使用できるように運用する露光用マスクの管理方法に基づき、成長性異物による汚染が生じない露光用マスクを提供する。
【解決手段】露光用マスクを使用する環境において、前記環境中の実測した硫酸イオン濃度と、前記露光用マスク表面に吸着する最大硫酸イオン吸着量と、前記露光用マスク表面に前記異物が発生する前記露光用マスク表面に存在する硫酸イオン量の閾値とから、一定時間経過後の前記露光用マスク表面の硫酸イオン吸着量が算出され、前記異物が発生しない使用期限が設定された露光用マスクを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】円筒面状にパターン面を有するマスクのパターン面を保護すること。
【解決手段】所定の中心軸線周りに円筒面状にパターン面が設けられたマスクを収容するマスクケースであって、マスクを収容する収容空間を形成し、収容空間に収容されたマスクのパターン面に対向する窓部が設けられたケース本体と、パターン面がケース本体に接触しないようにマスクの移動を制限する制限部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ペリクルフレームを変形させることのないペリクルハンドリング治具を提供すること。
【解決手段】半導体装置を製造する際に用いるリソグラフィーにおいて使用される、ペリクルを取り扱うためのハンドリング治具。該治具は、取っ手、該取っ手の先端とＴ字状に接続する主軸、該主軸とこの字型を形成する如く、該軸の両端から該軸と直交する如く前方に突出した2本のアーム、及び、該アームの内側側面にそれぞれ2個ずつ設けられたペリクルフレーム保持部からなる。また、前記アームはアーム間隔を調整できるように左右に開閉操作可能に構成され、前記保持部は、前記アームが閉じたときに、ペリクルフレームにおける４つのコーナーのフレーム側面をつかむ如く設けられている。 （もっと読む）

【課題】ブランクスにおけるレジスト膜のアミン性化合物の吸着によるパターン寸法精度の低下を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】基板上に化学増幅型レジスト膜を形成し、第１のプリベーク処理を行った後、大気露出させることなく、或いは化学増幅型レジスト膜に吸着されたアミン系化合物を実質的に全て脱着した状態で、荷電粒子ビームにより描画を行う。 （もっと読む）

【課題】レチクルを保護する保護部材を設けた場合でも、レチクルを搬送して露光装置の取り付ける場合に、適当な位置に取り付け可能なレチクル搬送装置を提供する。
【解決手段】位置測定装置２９はレチクル１の下面に形成された位置測定用マーク２６の位置を測定し、これによりレチクル１の位置を測定する。位置測定装置３０は、下蓋２ｂの下面に形成された位置測定用マーク２７の位置を測定し、これにより下蓋２ｂの位置を測定する。レチクル１の位置と下蓋２ｂの位置が分かれば、レチクル１と下蓋２ｂの相対的な位置ずれが分かる。よって、搬送装置によりレチクル１を搭載した下蓋２ｂを搬送して露光装置にセットするとき、このずれを勘案して下蓋２ｂの停止位置を決定することにより、レチクル１を正しく露光装置にセットできる。 （もっと読む）

【課題】
大型のペリクル、フォトマスクあるいはガラス基板のような大型精密部材を極めて清浄な状態を保ったまま保管、輸送できる、高剛性、軽量かつ低コストの大型精密部材収納容器を提供する。
【解決手段】
大型精密部材４を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイ３とカバー２とを備える大型精密部材収納容器１において、トレイ３およびカバー２のうち、少なくともトレイ３は、アルミニウム、アルミニウム合金あるいはマグネシウム合金から構成される大型精密部材収納容器１とする。 （もっと読む）

【課題】大型のマスクを、ハンドリングアームから落下する恐れなく安全に搬送する。
【解決手段】マスク２をハンドリングアーム５０に搭載して搬送するマスク搬送装置に、ハンドリングアーム５０の傾きを調節する傾き調節機構を設け、マスク２を搭載したハンドリングアーム５０を、傾き調節機構により、ハンドリングアーム５０のたわむ方向と反対方向に傾けながら、マスク２を搬送する。マスク２を搭載したハンドリングアーム５０のたわみ量が小さくなり、大型のマスク２が、ハンドリングアーム５０から落下する恐れなく安全に搬送される。 （もっと読む）

【課題】位置を確定する作業中に塵などがフォトマスクに付着すること及び運搬中にガタツキが発生することを抑制することができるフォトマスクケースを提供する。
【解決手段】
収納するフォトマスクの上下方向一方側に当接する当接部と、該フォトマスクの左右方向及び上下方向での位置を確定するための保持手段とを備えたケース本体と、該フォトマスクを厚み方向でケース本体側に押し付けて固定するための蓋体とを備え、保持手段が、フォトマスクの左右方向及び上下方向での位置の確定を行う左右方向保持手段８及び上下方向保持手段１１を備え、左右方向保持手段８の操作部８Ｃ及び左右方向保持手段１１の操作部１１Ｃをフォトマスクの左右両端から外れた外側の位置に配置した。 （もっと読む）

【課題】ペリクルの構造を複雑にすることなく、しかも、高精度の動作機構を備える必要もなく、ペリクル内部の換気を行う。
【解決手段】ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、ペリクルの内部空間が気圧調整穴を介して外部に連通した構成のペリクル付きフォトマスクを保管しながら、ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることが可能な温度変化付与部１００ａを備える。ペリクル付きフォトマスクに温度変化を与えることによって、気圧調整穴を介してペリクル内の雰囲気を換気する。 （もっと読む）

【課題】検査中のパターン面へのパーティクルの落下を抑制すること。
【解決手段】本発明の一態様に係るＥＵＶマスク検査装置１００は、ＥＵＶマスク２０のパターン面２１を上側にした状態で、当該ＥＵＶマスク２０を載置するステージ７と、ＥＵＶマスク２０の検査中に、パターン面２１を覆うように、当該パターン面２１に平行に配置される平板状のツバ５とを備える。ツバ５は、ＥＵＶマスク２０のパターン面２１に検査光を集光する対物レンズ４の周囲に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの基板から着膜層を簡易及び低コストな方法で剥離し、基板の再利用を図ることにより、フォトマスクの低コスト化を図る。
【解決手段】基板上にパターン層と保護膜層とが形成されたフォトマスクにて、上記基板から上記パターン層及び上記保護膜層を剥離する方法であって、上記フォトマスクの上記保護膜層側から所定の深さの切り込み部を形成する第一ステップと、上記パターン層を上記基板から剥離する溶剤を上記切り込み部から浸透させる第二ステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、収納・移送・保管時にはトレイに確実な保持固定が可能なペリクル構造体と、フォトマスク等に貼り付ける際には簡単に歪みやたわみを発生させることなく収納容器からペリクルを取り出すことを可能とせしめるペリクル収納構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】枠体と、該枠体の上縁面に接着されたペリクル膜と、該枠体の下縁面に塗着された粘着材からなる粘着材層と、該粘着材層に粘着された保護フィルムからなり、該ペリクル膜が面積１００００ｃｍ^２以上の大型ペリクル構造体であって、枠体が矩形の形状を有し、保護フィルムが該枠体より外側に突出した第一の押さえ代を有しており、該第一の押さえ代は該枠体の一頂点を含む二辺上に位置するとともに該枠体の形状に沿ったＬ字形状を有していることを特徴とする大型ペリクル構造体。 （もっと読む）