【課題】ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、該パターン形成方法に好適に用いられる金属酸化物膜形成用材料およびその使用方法を提供する。
【解決手段】支持体１上に第一の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成し、第一のレジスト膜２を選択的に露光し、現像して複数のレジストパターン３を形成し、レジストパターン３の表面にそれぞれ金属酸化物膜からなる被覆膜４を形成して複数の被覆パターン５を形成し、該被覆パターン５が形成された支持体１上に第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成し、第二のレジスト膜６を選択的に露光し、現像することにより、複数の被覆パターン５と、第二のレジスト膜６に形成されたレジストパターン７とからなるパターンを支持体上に形成する。 （もっと読む）

【課題】エッジ処理を必要とする光重合性感光材料においても現像時に圧力カブリによる支持体端部、側面の溶出不良部が無く、安定な現像処理を行うことの出来る現像処理方法を提供する。
【解決手段】支持体上に感光層を有しその端面が面取加工（エッジ処理）された平版印刷版を少なくとも現像、水洗、ガム引き処理を行う処理方法であって、該処理方法に用いる処理装置の現像〜ガム引きまでの搬送パスライン上で、該平版印刷版の支持体面側から該平版印刷版の少なくとも側面の一部に接触するブラシ手段を有する現像処理装置を用いて処理する事を特徴とする平版印刷版の処理方法。 （もっと読む）

【課題】レーザー彫刻印刷版を製造するレーザー彫刻工程において発生する分解生成物の除去方法の提供。
【解決手段】シート状あるいは円筒状に成形された少なくとも１層以上の感光性樹脂硬化物層を有するレーザー彫刻印刷原版表面をレーザー彫刻し、該表面に凹凸パターンを有するレーザー彫刻印刷版を製造する方法であって、レーザー彫刻工程において発生する分解生成物を除去する方法が、該分解生成物をオゾン分子に接触させる工程を含む方法であることを特徴とするレーザー彫刻印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液浸型露光方式における媒体となる液体の汚染や変質を有効に防止し、基板上に高精度にフォトレジストパターンを形成することが可能なフォトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板２上にフォトレジスト膜３と上層膜４とが配設されたフォトレジストパターン形成用基板１を得、液体を媒体として露光を行うことで、基板２上に所定のレジストパターンを形成する方法であって、フォトレジストパターン形成用基板１を得るに際し、基板２上の略全域にフォトレジストを塗布した後、少なくとも露光領域６を残すように、基板２の外周側に塗布したフォトレジストの少なくとも一部を除去してフォトレジスト膜３付き基板７を得、得られたフォトレジスト膜３付き基板７上の略全域に、上層膜成分４ａを塗布してフォトレジストパターン形成用基板１を得るフォトレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ化学プロセスを温度制御するシステム、装置及び方法に関する。温度制御システムは、基板上にあらかじめ特定された複数のゾーンの温度を検出するよう構成された複数の温度センサ要素を有するマルチゾーン温度検出ユニットと、上記複数のゾーンの温度を調節するよう構成された複数の温度カプラ要素を有するマルチゾーン温度調節ユニットと、マルチゾーン温度検出ユニット及びマルチゾーン温度調節ユニットに作動的に且つ情報伝達可能に結合された温度コントローラユニットとを有する。温度コントローラユニットは、上記複数のゾーンの温度を調節するために、マルチゾーン温度検出ユニットから検出温度を受け取り、この検出温度情報を処理し、処理後の温度情報に基づいて温度制御情報を作成し、温度制御情報をマルチゾーン温度調節ユニットに伝達する。 （もっと読む）

【課題】 レジストを高精度に加熱・冷却する。
【解決手段】 熱伝導性の悪い基板１１上にレジストパターン形成を行うため、レジスト１２を加熱冷却する際に、温度調整板１３の温度を段階的又は連続的に変化させることにより、レジスト１２のベークの温度管理と時間管理を高精度に制御することが可能となり、レジストパターンの線幅制御性が向上し、特に微細パターンに対応することができる。 （もっと読む）