【課題】本発明の課題は、青画素の透過率低下を抑制でき、高透過率とホワイトバランスを両立できるカラーフィルター基板を得ることである。
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明は以下の構成からなる。
透明基板上に、少なくともパターン形状の赤緑青画素、および非パターン形状の透明保護膜を有するカラーフィルター基板において、赤および緑画素の領域は、赤および緑画素上に透明保護膜が形成され、青画素の領域は、透明保護膜上に青画素が積層されていることを特徴とするカラーフィルター基板。 （もっと読む）

【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、液晶表示素子を提供する。
【解決手段】染料等を含む着色パターン６と、エポキシ基を有する化合物を含む感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜８と、アルカリ可溶性樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサ９と、下式（ＣＡ）のテトラカルボン酸二無水物成分を用いて得られるポリアミック酸もしくはポリイミドを含む液晶配向剤から形成される配向膜１２とを用いてカラーフィルタ１０を製造し、それを用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】凸版レスの印刷方法で被印刷基材上に目的の画像パターンを形成することができるパターン印刷方法を提供する。
【解決手段】インク剥離性フィルム基材１０１上に光硬化性のインクを塗工した後、当該インクを予備乾燥して予備乾燥インク膜１０２を形成する。その後、インク剥離性フィルム基材１０１上の予備乾燥インク膜１０２に目的とする画像パターンを遮光するマスク１０３を介して光を照射することで、目的とする画像パターンのネガパターンのみを硬化させて非印刷状態にする。しかる後、ネガパターンのみを硬化にしたパターンニング予備インク膜を被印刷基材１０７に接触させ、目的の画像パターンを転写して被印刷基材１０７上に目的の画像パターン１０６を形成する。 （もっと読む）

【課題】 着色画素の更なる薄膜化を達成すべく、着色剤を高濃度で含有しながらも、液中における着色剤の分散安定性に優れた着色組成物を提供する。また、耐溶剤性及び耐アルカリ現像液性に優れた着色画素を形成できることにより、他の着色層における色と重なり合うオーバーラップ領域の発生を低減でき、種々のカラーフィルタの作成工程における色の変化が少なく、その結果、高性能のカラーフィルタを製造可能な着色組成物を提供する。更に、上記着色組成物を用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】 着色剤と樹脂とを含有する着色組成物であって、前記着色組成物の全固形分に対する前記着色剤の含有量が５０質量％以上であり、かつ、前記着色組成物に含有される全種の樹脂の内、固形分酸価が最も高い樹脂の当該固形分酸価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、着色組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子。 （もっと読む）

【課題】未露光残膜率が高く、比誘電率が低く、ドライエッチング耐性に優れ、かつ、ＩＴＯスパッタ耐性にも優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ｉ）酸不安定基を有するラジカル重合性化合物、および、（ｉｉ）一般式（１）で表される不飽和カルボン酸エステルを含むラジカル重合性化合物を共重合させて得られるフォトレジスト用共重合体において、主鎖末端に芳香族基を含む基を含む構造とする。 （もっと読む）

【課題】レジスト層が設けられた基板の一方面を上向きにした状態で基板を回転させながら、レジスト層表面に純水を供給するプリウエット工程を行った場合でも、基板の帯電を抑制することのできる基板の処理方法を提供すること。
【解決手段】プリウエット工程では、現像工程の前に、レジスト層１１０が設けられた一方面を上向きにした状態で基板１００を回転させながらレジスト層１１０表面と純水Ｗとを接触させる。かかるプリウエット工程では、レジスト層１１０表面への純水Ｗの供給を開始した後、基板１００を３００ｒｐｍから７００ｒｐｍの回転数で回転させる第１工程と、基板１００を１０００ｒｐｍから２０００ｒｐｍの回転数で回転させてレジスト層１１０表面の純水を振り切る第２工程とを行う。 （もっと読む）

【課題】 高温高湿下で電圧を印加した際、電極を構成する成分が感光性樹脂組成物中に拡散し電極が溶解するのを低下させることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 画像表示装置において、画素を分離する隔壁を形成するための感光性樹脂組成物であって、上記感光性樹脂組成物が、（Ａ）成分：分子内にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するバインダーポリマー、（Ｂ）成分：光重合性化合物、（Ｃ）成分：光重合開始剤、（Ｄ）成分：カルボン酸と反応する官能基を有する化合物、（Ｅ）成分：メルカプト基を含まない複素環状化合物、（Ｆ）成分：無機系黒色顔料を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レンズ形成の自由度を高めることが可能なマイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】マイクロレンズ１４が形成される領域５２２の周囲に反射膜１８を有する下地パターン１７を形成する工程と、下地パターン１７が形成された基板１２上にポジ型の感光性材料で感光層５２を形成する工程と、感光層５２のうちマイクロレンズ１４に対応する領域以外の領域を、感光層５２を挟んで基板１２とは反対側から露光する工程と、露光された感光性材料を現像する工程と、感光性材料の表面を加熱により曲面状に変形させることでマイクロレンズ１４を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】バッチ方式のＵＦ濾過装置と現像装置間の全体流量フローが停止する事なく、現像タンクからＵＦ濾過装置への送液動作が一定的に行われる事により、ＵＦ濾過運用時の現像タンク汚染度の安定化と品質事故防止となる機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置であって、少なくとも、現像ユニット１０と、濾過ユニット２０と、現像液濃度調整ユニット３０と、現像液循環ユニット４０と、から構成される現像装置において、濾過ユニット１０は、ＵＦ濾過循環タンク２１の定量ドレイン機構２２に加えて、ＵＦ濾過循環タンクから現像液「古液」を排出する自動廃液機構２３を具備している。 （もっと読む）

【課題】低温硬化されて色特性に優れたカラーフィルタ層を有するアレイ基板を提供し、これを用いてカラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料からなる群より選ばれる少なくとも１種の着色剤と、アルカリ可溶性樹脂と、式（１）または式（２）の化合物とを含有する着色組成物を用い、スイッチング能動素子８の形成された基板４上にカラーフィルタ層１３を低温で形成しアレイ基板１を構成する。アレイ基板１から液晶表示素子を構成する。
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【課題】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置において、ＵＦ停止時も定期的に逆洗浄動作を実施する事により、ＵＦ膜の閉塞防止が可能となり、濾過装置の停止有無に関らず安定的な濾過流量の確保が可能となる機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置であって、少なくとも、現像ユニットと、濾過ユニットと、現像液濃度調整ユニットと、現像液循環ユニットと、から構成される現像装置において、ＵＦ濾過フィルタ毎に逆洗浄する手段は、濾過ユニットと現像ユニット間の全体流量フローが一時停止した時点においても、自動的に定期的なＵＦ濾過フィルタ毎の逆洗浄動作を実施する自動逆洗浄機構を具備している。 （もっと読む）

【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、これを用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内の何れかを含む着色パターンと、アルカリ可溶性樹脂並びに下式（１）または下式（２）の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜とスペーサとを用いてカラーフィルタ１０を製造する。このカラーフィルタ１０を用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】低温硬化により製造でき、高信頼性を有するカラーフィルタを提供し、これを用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内の何れかを含む着色パターンと、アルカリ可溶性樹脂並びに下式１または下式２の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサとを用いてカラーフィルタを製造する。このカラーフィルタを用いて液晶表示素子を構成する。
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【課題】レジスト剥離物とテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＡＡＨ）とを含む現像廃液を安定かつ効率的に再生処理する。
【解決手段】レジスト剥離物とＴＡＡＨとを含有する現像廃液をｐＨ８〜１２に調整した後、ＭＦ膜モジュール４で膜分離処理し、濃縮水を循環処理するに当たり、濃縮水に無機凝集剤及び／又は高分子凝集剤を添加して凝集・固液分離処理し、分離水をＭＦ膜モジュール４の一次側に返送して膜分離処理する。現像廃液を膜分離処理するに当たり、膜供給水ではなく、膜分離処理で得られた濃縮水に凝集剤を添加して凝集・固液分離処理し、得られた分離水を膜の一次側に返送して現像廃液と共に膜分離処理することにより、凝集剤使用量を低減すると共に、凝集・固液分離のための設備を小型化した上で、膜の濁質負荷を軽減し、安定かつ効率的な処理を行える。 （もっと読む）

【課題】大型基板への対応が可能で、材料使用効率の高いインクジェット方式を始めとする塗布方式にて、簡易で安価に製造が可能であり、機能層の白抜け、または、混色による表示不良の無い、高品質なカラーフィルタや有機ＥＬ等の光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂硬化物により形成され且つ支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画する隔壁を形成する隔壁パターン２０と、複数の領域３０にそれぞれ形成された複数の画素を有する光学素子の製造方法であって、撥インク性を有する樹脂組成物により支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画する領域区画工程と、領域区画工程で支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画した樹脂組成物にマイクロ波を照射して、樹脂組成物の硬化を促進させるマイクロ波照射工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ハードマスクパターンを用いたドライエッチングで基板の表面に凹凸のパターンを形成する場合に、パターンの側面をボーイング形状にしないで垂直面に近づける。
【解決手段】基板上にハードマスク層を形成する第１工程（Ｓ２）と、ハードマスク層を覆う状態でレジスト層を形成した後、レジスト層をパターニングしてレジストパターンを形成する第２工程（Ｓ３〜Ｓ５）と、レジストパターンをマスクに用いてハードマスク層をエッチングしてハードマスクパターンを形成する第３工程（Ｓ６）と、ハードマスクパターンをマスクに用いて基板をドライエッチングすることにより、基板に凹凸のパターンを形成する第４工程（Ｓ８）と、を含み、第４工程（Ｓ８）においては、ハードマスクパターンの後退に寄与するガスを添加したエッチングガスを用いて基板をドライエッチングすることにより、基板のエッチングの進行とともにハードマスクパターンを後退させる。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト製造において、感度の高いオキシムエステル系光重合開始剤の溶解性が良く、電子材料用途のペースト組成物の特性を損なわないフォトレジスト製造用溶剤組成物を提供する。
【解決手段】特定構造の化合物を含む溶剤Ａとオキシムエステル系光重合開始剤とを混合して溶剤組成物（Ｃ）とした後、前記溶剤組成物（Ｃ）を、前記溶剤Ａと相溶する溶剤Ｂと混合してフォトレジスト製造用組成物（Ｄ）を得ることを特徴とするフォトレジスト製造用組成物の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト層を純水で現像することができる親水性モノマー、およびそれを含む親水性フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の４官能基からなる親水性アクリレートモノマーおよび親水性樹脂は、それぞれ、純水に溶解出来、親水性フォトレジスト組成物を基板表面にスピンコーティングしてフォトレジスト層を形成し、フォトレジスト層を純水で現像することができ、塩基性の現像溶媒の使用により、環境汚染、またフォトリソグラフィに費用がかかるという従来技術の欠陥を克服出来る。 （もっと読む）