【課題】レジスト膜の面方向における断面形状に関して整形性が良好な（変形度が低い）コンタクトホールを形成できるパターン形成方法、並びに、これを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（１）基板上に、（Ａ）化学増幅型レジスト組成物によって、レジスト膜を形成する工程、（２）露光して、ラインアンドスペースの潜像を形成する工程、（３）第１の加熱処理を行う工程、（４）第２のラインアンドスペースの潜像を、前記第１のラインアンドスペースの潜像におけるライン方向と交差するように形成する工程、（５）第２の加熱処理を行う工程、及び、（６）前記第２の加熱処理が行われたレジスト膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像を行う工程を、この順で有するパターン形成方法、並びに、このパターン形成方法を用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】所望の２次元形状パラメータを有したパターンを基板上に形成可能な露光量を正確に決定することができる露光量決定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】マスク上に形成されるマスクパターンと所望のマスクパターンとの間の二次元形状パラメータのずれ量分布を、マスクパターンマップｍ１として取得するマスクパターンマップ取得ステップと、マスクをショット露光してウェハ上にパターンを形成した場合に形成されるウェハ上パターンと所望のウェハ上パターンとの間の二次元形状パラメータのずれ量が所定の範囲内に収まるよう、マスクパターンマップｍ１に基づいて、露光ショット内での位置毎に露光量を決定する露光量決定ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】密着性を有する細線パターンを、短い露光時間で形成することができる感光性材料のパターン形成方法の提供。
【解決手段】本発明の感光性材料のパターン形成方法は、基体上に形成された感光性材料からなる感光層に対し、該感光層の前記基体と反対側の表面を基準として、該感光層の厚みの１倍〜３倍長さだけ前記基体側に露光光の焦点が位置するようにして露光光を照射することにより、前記基体上にパターンを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に化学増幅型のレジストを塗布し、その基板に液浸露光が行われた後で現像処理を行い、良好な形状のレジストパターンを得ること。
【解決手段】化学増幅型のレジストを基板表面に塗布してレジスト膜を形成する塗布モジュールと、液浸露光により前記レジスト膜が露光された後、前記基板に酸を供給するための処理ガスを吐出するガス吐出部と、基板に吐出された余剰な前記処理ガスを除去するための排気部と、を備えたガス処理モジュールと、前記レジスト中に発生した酸により触媒反応を起こして露光領域の現像液に対する溶解性を変化させるために前記処理ガスが供給された基板を加熱する加熱モジュールと、前記加熱モジュールにて加熱された基板を現像して前記レジスト膜にパターンを形成するための現像モジュールと、を備えるように塗布、現像装置を構成し、基板に残留した液体に酸を補充する。 （もっと読む）

【課題】 レジスト膜表面の撥水層を除去して、現像処理工程でのパターン寸法制御性を改善するパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 半導体基板１００の表面にレジスト膜１０４を形成し、露光装置２を用いて、レジスト膜１０４と投影光学系２０３との間に液体を満たしつつ、液体２０５を介してレジスト膜１０４を露光し、露光後にレジスト膜１０４表層に形成された撥水層１０５を除去し、撥水層１０５を除去後に基板１００を加熱処理し、レジスト膜１０４を現像してレジストパターン１０７を形成することによって、レジストパターン１０７のパターン制御性を向上する。 （もっと読む）

【課題】 従来の樹脂版における二値的な高低差の表現を解消し、連続階調フィルムを用いて、連続的な高低差を有する感光性の樹脂版及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、模様等の入力画像を入力し、その入力画像に対して原稿濃度を圧縮して連続階調フィルムに特定濃度範囲のぼかし領域を現像し、ぼかし領域によって紫外線の透過量を変化させることで、未硬化部の溶出後に、ぼかし領域に対応した高低差を感光性樹脂版材に形成した樹脂版及びその樹脂版の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターン印刷に適応できる印刷版を簡便な方法で製造する技術の提供。
【解決手段】フォトマスクとポジ型感光性樹脂とを構成成分とするモールドであって、該フォトマスク中に配置された紫外線遮光部分の上にポジ型感光性樹脂が積層されていることを特徴とするモールドを用いた印刷版の製造。 （もっと読む）

【課題】液浸露光工程を利用した半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】液浸露光工程でフォトレジスト膜の上部をアルカンまたはアルコール溶媒で前処理した後、オーバーコーティング膜を形成する段階を含むことにより、少量の溶媒でむらのないオーバーコーティング膜を形成することのできる半導体素子の微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．７２以上であり、かつ、パターンニング可能なレジスト膜を形成するための感放射線性樹脂組成物に含有される感放射線性樹脂組成物用重合体を提供する。
【解決手段】下記式で表される構造を含有する感放射線性樹脂組成物用重合体。


（前記式中、Ｘ、Ｙは互いに独立に酸素又は硫黄を表し、ｍ、ｎは互いに独立に１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】支持体上に高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成できるパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に下層膜を形成する工程、該下層膜上にシリコン系ハードマスクを形成する工程、該ハードマスク上に化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成する工程、第一のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第一のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、ハードマスクをエッチングして第一のパターンを形成する工程と、前記第一のパターン上に化学増幅型ポジ型シリコン系レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成する工程、第二のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第二のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、下層膜をエッチングして第二のパターンを形成する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．７２以上であり、かつ、レジスト膜としてパターンニング可能な感放射線性樹脂組成物用重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位を含有する感放射線性樹脂組成物用重合体。


（前記式中、Ｒ^１は水素等を表し、Ｒ^２はそれぞれ互いに独立して、炭素数１〜１０の直鎖状のアルキル基等を表し、Ｘは酸素原子又は硫黄原子で、少なくとも一つが硫黄原子を表す） （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍにおける液浸露光時に接触した水などの液浸露光用液体への溶出物の量が少ない。
【解決手段】波長１９３ｎｍにおける屈折率が空気よりも高い液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法に用いられ、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有し、該感放射線性酸発生剤（Ｂ）が下記式（１）で表される化合物を含有する。


各Ｒ¹は相互に独立に炭素数１〜８のパーフルオロもしくは部分的にフッ素化された直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、または互いのＲ¹が結合したフッ素化アルキレン基を表し、３つのＲ²は少なくとも１つのＲ²が炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を表し、残りのＲ²は水素原子を表す。 （もっと読む）

【課題】より簡易に、有機ＥＬなどの製造に用いられる印刷用凸版の製造する方法であり、印刷パターンずれが少なく、耐久性のある凸版を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】 感光性樹脂層２０２ａ上に光拡散性の微粒子を含む光拡散層を形成することで、露光時に露光光が光拡散層を通して感光性樹脂層に達するよう構成し、これを現像する凸版製造方法。これにより、順テーパー形状の凸部２０２ｂを形成する。さらに光拡散層中の微粒子の平均粒径が１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であり、かつ露光工程においてプロキシミティ露光方式を用いることにより有機ＥＬ素子の形成に適した印刷用凸版を製造できる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー工程で用いられる各種塗膜を形成するための材料や複数の洗浄対象の異なる洗浄用途を網羅的にカバーし得るという汎用性を有し、短時間で効率的に被洗浄物を洗浄除去することができる洗浄性能、短時間で迅速に乾燥する乾燥性能、さらには続く後工程に利用される残膜の形状に悪影響を与えないなどのリソグラフィー用洗浄液としての基本特性を有し、さらには、環境や人体に悪影響を及ぼすことがなく引火点か低いなどの安全性を兼ね備え、安価であり、安定供給が可能であるなどの諸要求特性を有するリソグラフィー用洗浄液を提供する。
【解決手段】（Ａ）グリコール系有機溶剤、（Ｂ）ラクトン系有機溶剤、及び（Ｃ）アルコキシベンゼン及び芳香族アルコールの中から選ばれる少なくとも１種の有機溶剤を含有するリソグラフィー用洗浄液を用いる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光法によって基板のパターン加工を実施する際に製造効率を向上させる。
【解決手段】基板Ｗの表面に形成されたレジスト膜Ｒに、液膜ＬＬを介して、マスクパターン像を露光する液浸露光を実施する（ＳＴ２１）。そして、その液浸露光を実施した後に、その液膜ＬＬをレジスト膜Ｒから除去する（ＳＴ３１）。そして、その液膜ＬＬが除去されたレジスト膜Ｒを現像する（ＳＴ６１）。ここでは、その現像（ＳＴ６１）を実施する前に、液膜ＬＬを除去した後に基板の表面に残留する残留液滴ＬＤを検出する（ＳＴ４１）。そして、その残留した液滴ＬＤの結果に基づいて、現像の実施の可否を判断する（ＳＴ５１）。 （もっと読む）

【課題】画像露光において高精細スクリーンを用いる光重合性感光層を有する平版印刷版を長期間に亙って処理むら等の画像欠陥を生ずることなく現像処理できる自動現像装置を提供する。
【解決手段】支持体上に光重合性感光層を有する感光性平版印刷版をレーザーにより走査露光した後、現像処理部１０へ搬送して現像する平版印刷版の処理方法及び自動現像装置であって、現像処理を行わない間は、擦り部材である現像ブラシローラ１４１、１４２を現像処理する方向とは逆方向に回転させるようにした。 （もっと読む）

【課題】画像露光において高精細スクリーンを用いる光重合性感光層を有する平版印刷版を長期間にわたって処理むら等の画像欠陥を生ずることなく現像処理する。
【解決手段】支持体上に光重合性感光層を有する感光性平版印刷版１２をレーザー露光した後、現像液の貯留される現像処理部１０で感光性平版印刷版１２を現像処理する平版印刷版の処理方法であって、露光に際し、ＡＭスクリーンとしては２５０線以上であり、ＦＭスクリーンとしては網点を構成する最小画素のサイズが５０μｍ以下である高精細スクリーンを用い、露光の後に現像処理部１０で感光性平版印刷版１２を現像する際、未露光部の光重合性感光層を、擦り部材１４１，１４２により擦ると共に超音波振動を印加して除去するようにした。 （もっと読む）

【課題】基材表面に、導電性に優れ、断面のアスペクト比が高い導電性パターンを形成する方法およびその方法に用いる組成物を提供する。
【解決手段】導電性パターン形成用液状組成物を露光面を有する容器に供給する工程と、導電性パターンが形成される表面を有する基材を前記組成物に浸漬する工程と、露光面と基材の表面との間に所定厚みの組成物層が介在するように基材を配置し、組成物層にマスクを介して露光し、所定パターンの硬化物層を形成する工程と、露光面と形成された硬化物層の表面との間に所定厚みの新たな組成物層が介在するように基材を移動させ、その組成物層にマスクを介して露光し、所定パターンの硬化物層を更に形成する操作を１回以上行い、硬化物層の積層膜を形成する工程と、基材の表面から未硬化の組成物を除去する工程と、積層膜を熱処理する工程とを有する導電性パターンの形成方法およびその方法に用いる導電性パターン形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、かつ現像性に優れ、高解像度で高精細なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が２０ｍＪ／ｃｍ^２以下、露光後に現像する際の最短現像時間が１５〜５０秒間である。前記感光層を、線幅１０〜４０μｍでライン／スペース＝１／１の露光により形成されるラインパターンと、Ｌ／Ｓ＝１／１００の露光により形成されるラインパターンとの線幅の差が５μｍ以下、バインダーのＩ／Ｏ値が、０．５〜０．８、重合性化合物のＩ／Ｏ値が、０．５〜１．５、また、バインダーと重合性化合物との質量比（バインダー／重合性化合物）が、１〜２である。 （もっと読む）

【課題】 微細パターンの形成方法において、解像性および寸法制御性の向上を図る。
【解決手段】 本発明の微細パターンの形成方法は、基板上に、露光波長λでの屈折率がｎ_bのレジスト膜と、露光波長λでの屈折率がｎ_cで膜厚がｄの上層膜を形成し、露光波長λでの屈折率がｎ_dの露光媒体中において、レンズ開口数がＮＡで露光波長がλの縮小投影露光によりフォトリソグラフィを行なうパターン形成方法であって、
ｎ_c＝（ｎ_b・ｎ_d）^1/2
ｄ＝ｋ・λ／［４ｎ_cｃｏｓ｛ａｒｃｓｉｎ（ＮＡ／ｎ_c）｝］ （ｋ＝１，３，５・・・）
であることを特徴とする。 （もっと読む）