【課題】レジストパターンを所望の寸法に制御すると共に、欠陥の低減をはかり得る現像処理方法及び現像処理装置を提供することである。
【解決手段】所望のパターンが露光されたレジストを現像処理するための現像処理方法であって、レジスト膜１１にデバイスパターンと共にモニタパターン３０を露光しておき、モニタパターン３０を第１の現像条件で現像し、現像されたモニタパターン３０を検査して得られる検査画像から欠陥出現リスクを定量化する。これと共に、予め取得された欠陥出現リスク情報と欠陥数、及び欠陥数と現像条件の関係から、定量化された欠陥出現リスクの際に欠陥数が許容値以下となる第２の現像条件の許容範囲を決定する。そして、第２の現像条件の中でパターン寸法が所望の値となる第３の現像条件を決定し、該決定した第３の現像条件で前記デバイスパターンの現像を行う。 （もっと読む）

【課題】基板の処理に使用された処理液のうち、回収すべき処理液と排出すべき処理液とが混ざり合うことを確実に抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗの現像処理に使用される現像液を吐出するノズル３０と、ノズル３０から吐出された現像液が流下する基板処理槽１０と、基板処理槽１０の内部に廃液口４３１が設けられた配管４３と、配管４３と並列的に設けられ、現像液の回収と再利用とのために基板処理槽１０の内部において回収口４２１が設けられた配管４２と、基板処理槽１０の所定部位に設けられ、揺動軸４４２を中心に揺動することによって、基板処理槽１０内に流下した現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替える揺動部材４４５を有する現像液流路切替部４４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置において、ＵＦ停止時も定期的に逆洗浄動作を実施する事により、ＵＦ膜の閉塞防止が可能となり、濾過装置の停止有無に関らず安定的な濾過流量の確保が可能となる機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置であって、少なくとも、現像ユニットと、濾過ユニットと、現像液濃度調整ユニットと、現像液循環ユニットと、から構成される現像装置において、ＵＦ濾過フィルタ毎に逆洗浄する手段は、濾過ユニットと現像ユニット間の全体流量フローが一時停止した時点においても、自動的に定期的なＵＦ濾過フィルタ毎の逆洗浄動作を実施する自動逆洗浄機構を具備している。 （もっと読む）

【課題】バッチ方式のＵＦ濾過装置と現像装置間の全体流量フローが停止する事なく、現像タンクからＵＦ濾過装置への送液動作が一定的に行われる事により、ＵＦ濾過運用時の現像タンク汚染度の安定化と品質事故防止となる機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置であって、少なくとも、現像ユニット１０と、濾過ユニット２０と、現像液濃度調整ユニット３０と、現像液循環ユニット４０と、から構成される現像装置において、濾過ユニット１０は、ＵＦ濾過循環タンク２１の定量ドレイン機構２２に加えて、ＵＦ濾過循環タンクから現像液「古液」を排出する自動廃液機構２３を具備している。 （もっと読む）

【課題】微細かつ均一なパターンの形成に好適なパターン形成方法およびパターン形成体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、レジストパターンが形成される領域は、ハードマスク層に形成した段差の領域よりも大きくし、ハードマスクの上段部は基板表面を覆うようにハードマスク層を残存させることと、下段部は基板表面の一部が露出するようにハードマスク層へ異方性エッチングを行うことで、基板に均一なパターンを形成することが出来る。 （もっと読む）

【課題】基体に供給した液体の蒸発によって当該基体の熱が奪われ、これにより基体の温度が雰囲気露点温度より低温状態となり得る場合であっても、当該基体に結露が生じるのを防止して、パターン倒れ等の不具合発生を未然に回避できるようにする。
【解決手段】処理対象となる基体２を保持する保持部１２と、前記保持部１２が保持する前記基体２に対して液体３１の供給を行う液体供給部３０と、前記液体３１の蒸発によって熱が奪われる前記基体２を雰囲気露点温度より高温状態にすべく当該基体２の熱損失を補填するための熱損失補填媒体４１を当該基体２に対して供給する媒体供給部４０と、を備えて流体供給装置１を構成する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上に小型マスク連続露光方式により露光して第１層を形成することができるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】形成工程１０は表面に第１層が形成されていないガラス基板にアライメントマークをレーザマーキングにより形成する。塗布工程２０はアライメントマークが形成されたガラス基板の表面に感光性を有するレジストを塗布する。露光工程３０はレジストを塗布されたガラス基板を搬送しつつガラス基板の裏面側からアライメントマークを読み取ることにより、露光ヘッド３３、３４の位置を調整しながらガラス基板の表面を小型マスク連続露光方式により露光する。現像工程４０は露光されたガラス基板の表面を現像して第１層を形成する。 （もっと読む）

【課題】フェイルセーフ機構等の作動により動作が停止した場合であっても、基板上の現像液を除去することが可能な現像装置およびこれを備える塗布現像処理システムを提供する。
【解決手段】開示される現像装置は、基板を搬送する搬送機構と、前記搬送機構により搬送される前記基板に現像液を供給する現像液供給部と、前記現像液供給部に対し、前記搬送機構により搬送される前記基板の搬送方向の下流側に設けられ、前記現像液が供給されて表面が前記現像液で覆われた前記基板が前記搬送機構により搬送される現像領域と、前記現像領域において、前記搬送機構が停止したときに前記現像領域に在る前記基板に対して洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の面内で均一性高くパターンを形成することができる現像装置を提供すること。
【解決手段】表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像するための現像液供給部と、基板上において予め設定されている特定の領域に、現像液を加熱して現像液とレジストとの反応の度合を高めるために、基板の材料の波長吸収領域を含む輻射光を照射する輻射光照射部と、基板の表面に洗浄液を供給して現像液を除去する洗浄液供給部と、を備えるように現像装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】現像液に流速がある場合の濃度変化を考慮し、現像モデル式に組み込むことで、現像方法の違いや、現像液の不均一性によるレジスト寸法の違いを正確に表し、現像条件の最適化に適用し、レジストパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】現像シミュレーション工程では、電子線描画後のレジスト膜中の蓄積エネルギー分布を計算し、その分布に対応した現像後のレジストパターン形状を予測する現像シミュレーションを行うことによって現像後のレジストパターン形状を推定し、レジストパターン形状が最適となるように現像条件を決定する。現像工程では、電子線描画後の基板を現像液を用いて予め定められた前記の現像条件で現像する。 （もっと読む）

【課題】高いスループットが得られる現像装置を提供すること。
【解決手段】処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に搬入された基板の表面に現像液を結露させて液膜を形成するために、当該処理容器内に現像液のミストを供給する雰囲気ガス供給部と、前記液膜による現像を停止するために基板を乾燥する乾燥部と、を備えるように現像装置を構成する。現像液とレジストとの反応を停止させることができるので、洗浄モジュールによる洗浄処理と並行して現像処理を行うことができ、高いスループットが得られる。 （もっと読む）

【課題】基板表面全体に均一性高く現像液の液膜を形成すると共に高いスループットが得られる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】現像モジュールと、洗浄モジュールと、前記現像モジュールにより現像された基板を前記洗浄モジュールに搬送する搬送機構と、を備え、前記現像モジュールは、処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に設けられ、基板を載置し、冷却するための温調プレートと、前記処理容器内に現像液のミストを含む雰囲気ガスを供給する蒸気供給部と、前記温調プレートを、前記蒸気が基板上に結露する温度に調整するための温度調整部と、を備えるように塗布、現像装置を構成する。現像モジュールと洗浄モジュールとで並行して処理を行えるので、高いスループットが得られる。 （もっと読む）

【課題】 複数種類のフォトレジストが溶解した現像液において、フォトレジスト全体の溶解量を少ない誤差内で定量する。
【解決手段】 複数種のフォトレジストが溶解した現像液中のフォトレジスト全体の溶解量の測定方法において、複数種のうちの各個別のフォトレジストのみを現像液中に溶解させた中和滴定値をＰ_kとし、その個別のフォトレジストの容積がフィルム全体の容積に占める混合割合をＸ_kとして、このＰ_kとＸ_kを乗じた理論値Ｐ_k・Ｘ_kについて、フォトレジストの全種類の数ｎ(ｎは２以上の整数)の総和をもって、フィルム全体の中和滴定値とする。つまり、互いのフォトレジスト種に影響されることなく、フォトレジストの個別滴定量から混合液全体の滴定量を予測できる加成性が成立する。 （もっと読む）

【課題】ガラス強度が高く、フィラー材料の選択の自由度が大きい感光性ペーストを実現する。
【解決手段】コア部３と、該コア部３よりも熱膨張係数の大きな材料で形成されたシェル部４とを有するコアーシェル型のセラミックフィラー２が、シェル部４よりも熱膨張係数の小さいガラスマトリックス１中に含有され、セラミックフィラー２の体積含有率が、１〜３０体積％であり、セラミックフィラー２中のコア部３の体積含有率が、０．１〜７０体積％であり、かつ、セラミックフィラー２の平均粒径が１５ｎｍ〜５０００ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】 凹凸パターンが形成された無機レジストを速やかに除去することが可能な光ディスク原盤処理液及び光ディスク原盤の処理方法を提供する。
【解決手段】 基板２上に無機レジストにより凹凸パターン（無機レジスト層３）が形成された光ディスク原盤１の凹凸パターンを除去するための光ディスク原盤処理液である。この処理液は、過酸化水素とアンモニアを含有する。処理液に含まれる過酸化水素及びアンモニアは、過酸化水素水（試薬特級）及びアンモニア水（試薬特級）を基準として、１倍〜２００倍に希釈されている。また、過酸化水素水とアンモニア水の比率は４：１〜１：１０である。 （もっと読む）

【課題】被成形体の破損を低減する技術を提供する。
【解決手段】型面に凹部と凸部とを有するパターンが形成された成形型１０であって、凸部の角が円弧を有するように形成された成形型１０を用いて成形する。この成形型１０の製造方法としては、基材１１に凹部と凸部とを有するパターンを形成する工程と、パターンが形成された基材１１に対してエッチングを施し凸部の角に円弧を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）ゲル状エッチング組成物と接触させることにより前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】マスターから基板に微視的パターンを複製する方法を提供する。
【解決手段】本発明では、マスター上のトポグラフィ構造の複製物が形成され、必要とされるときに、種々の印刷技術又はインプリント技術の１つを用いて、受け基板上に転写され、次いで溶解される。ナノ構造、マイクロデバイス又はその一部の形成を含む付加的な処理工程もまた、転写前に、複製物を用いて行うことができる。次いで、これらの構造もまた、複製物が転写されるときに基板上に転写され、該複製物が溶解されるときには基板に残る。これは、集積回路その他のマイクロデバイスの製造における種々のリソグラフィ処理工程の相補的な工程として、又は置換工程として適用することができる技術である。 （もっと読む）

【課題】微小網点再現性と印刷適性の両立可能な直描型水なし平版印刷版原版を提供すること
【解決手段】基板上に、少なくとも断熱層、感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該断熱層が少なくともポリウレタン樹脂、活性水素基含有芳香族化合物および金属キレート化合物を含有し、該感熱層が少なくとも（Ａ）光熱変換物質、（Ｂ）金属含有有機化合物、（Ｃ）ノボラック樹脂および（Ｄ）ポリウレタン樹脂を含有し、（Ｃ）ノボラック樹脂と（Ｄ）ポリウレタン樹脂の重量比（ノボラック樹脂／ポリウレタン樹脂）が７以上５０以下であり、感熱層溶液として溶解度パラメーターが１９〜２４（ＭＰａ）^１／２の有機溶剤を１０重量％以上５０重量％以下含有するものを用いたことを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】本発明は、印刷フォームとして使用される、円筒状に成形された感光部材を作製するための方法を提供すること。
【解決手段】この方法は、感光性層を支持体に接触させる前に、感光性層および／または円筒状に成形された支持体を予熱するステップを含む。感光性層を積層して、隣接する端部を一緒に封止し融着して、円筒形感光部材を形成する。 （もっと読む）