【課題】長期間の使用によるセッターと樹脂凸版との粘着力低下を抑制し、長期間安定して現像することのできる保護材およびそれを用いた現像方法を提供すること。
【解決手段】現像機に樹脂凸版を保持するセッターに貼り付けられる保護材であって、セッターの樹脂凸版を保持していない部分の少なくとも一部に貼り付けられる、厚みが０．０５ｍｍ以上である保護材およびそれを用いた樹脂凸版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】実施形態によれば、溶解生成物の凝集を抑制できる薬液処理方法及び薬液処理装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、薬液処理方法は、被処理膜が形成された基板上に薬液を供給する工程を備える。また、薬液処理方法は、薬液が供給された基板上に第１のリンス液を供給しつつ、基板上における薬液と第１のリンス液との混合液を吸引して、被処理膜が薬液に溶解して生じ混合液中に含まれるパーティクルのサイズ及び数を測定する工程を備える。また、薬液処理方法は、測定の結果に基づいたタイミングで、第１のリンス液の供給を停止して基板上に第２のリンス液を供給する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】薬液の消費量を抑えながら、基板の処理を均一に行う。
【解決手段】基板１を移動しながら、薬液２が入った薬液タンク２３から、可変出力ポンプ２５及び制御弁８０が設けられた配管２４を介して、薬液ノズル２１へ薬液２を供給し、薬液ノズル２１から基板１へ薬液２を吐出する。薬液ノズル２１から基板１へ吐出した薬液２を回収して薬液タンク２３へ戻し、薬液タンク２３から薬液ノズル２１へ供給する薬液２の濃度を検出し、薬液２の濃度の検出結果に応じ、可変出力ポンプ２５を制御し又は制御弁８０を作動させて、薬液タンク２３から配管２４を介して薬液ノズル２１へ供給する薬液２の量を変更する。 （もっと読む）

【課題】バッチ方式のＵＦ濾過装置と現像装置間の全体流量フローが停止する事なく、現像タンクからＵＦ濾過装置への送液動作が一定的に行われる事により、ＵＦ濾過運用時の現像タンク汚染度の安定化と品質事故防止となる機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置であって、少なくとも、現像ユニット１０と、濾過ユニット２０と、現像液濃度調整ユニット３０と、現像液循環ユニット４０と、から構成される現像装置において、濾過ユニット１０は、ＵＦ濾過循環タンク２１の定量ドレイン機構２２に加えて、ＵＦ濾過循環タンクから現像液「古液」を排出する自動廃液機構２３を具備している。 （もっと読む）

【課題】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置において、ＵＦ停止時も定期的に逆洗浄動作を実施する事により、ＵＦ膜の閉塞防止が可能となり、濾過装置の停止有無に関らず安定的な濾過流量の確保が可能となる機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置であって、少なくとも、現像ユニットと、濾過ユニットと、現像液濃度調整ユニットと、現像液循環ユニットと、から構成される現像装置において、ＵＦ濾過フィルタ毎に逆洗浄する手段は、濾過ユニットと現像ユニット間の全体流量フローが一時停止した時点においても、自動的に定期的なＵＦ濾過フィルタ毎の逆洗浄動作を実施する自動逆洗浄機構を具備している。 （もっと読む）

【課題】被処理層を所望の形状に形成することが可能な基板処理方法を提供する。
【解決手段】この現像方法（基板処理方法）は、基板１００上に配置されたレジスト層１０１を現像する現像方法であって、レジスト層１０１上に現像液を供給し、現像液の表面張力を利用してレジスト層１０１上に液層１０２を形成する液層形成工程と、液層１０２によるレジスト層１０１の現像を進行させる処理工程と、を備える。処理工程は液層１０２を攪拌する攪拌工程を含む。 （もっと読む）

【課題】最小線幅が１００ｎｍ以下のレイアウトを含むレジストパターンの形成において、描画装置の切り替え作業に起因する描画パターンの設計からのずれを防止することを可能とする。
【解決手段】最小線幅が１００ｎｍ以下のレイアウトを含むレジストパターンの形成方法において、基板３上にレジスト膜２を形成し、可変成形電子線ＥＢによりレジスト膜２に描画パターンを描画した後、レジスト膜２のレジスト非溶解部の膜減り率が２０％以下となるように、レジスト膜２にパドル現像を実施する。 （もっと読む）

【課題】露光装置の生産効率を落とさない塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】塗布膜が形成された、露光前の基板を一旦仮置きする仮置き部と、基板の搬送経路における、基板が置かれるモジュールについてメンテナンスを行うために、当該上流側の基板の搬送を停止する時間の長さを設定するための停止時間設定部と、前記仮置き部に置かれた基板の枚数が前記停止時間の長さに応じた、前記処理ブロックによる基板の処理枚数に達したか否かを監視し、達した後に仮置き部の上流側の基板の搬送を停止するように制御信号を出力する制御部と、を備えるように塗布、現像装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】異常判定の精度を向上することができる処理装置の異常判定システム及びその異常判定方法を提供すること。
【解決手段】被処理体を処理する処理装置に設置されるセンサによって出力される信号から、時間と共に変動する時系列データ４１を収集するデータ収集部２２と、データ収集部が収集した時系列データから、有用な時系列データであるモデルデータ４３のみを選択するデータ選択部２３と、データ選択部が選択したモデルデータから、時間と共に変動する上下変動閾値データ４５を算出する閾値設定部２５と、データ収集部が収集した監視対象の時系列データを、上下変動閾値データと比較することにより、異常の発生を判定する判定部２６と、を具備する。データ選択部のモデルデータの選択は、例えば処理装置によって被処理体を処理した後に、処理装置による被処理体の処理を評価する検査装置３７の評価結果に基づいて行う。 （もっと読む）

【課題】フェイルセーフ機構等の作動により動作が停止した場合であっても、基板上の現像液を除去することが可能な現像装置およびこれを備える塗布現像処理システムを提供する。
【解決手段】開示される現像装置は、基板を搬送する搬送機構と、前記搬送機構により搬送される前記基板に現像液を供給する現像液供給部と、前記現像液供給部に対し、前記搬送機構により搬送される前記基板の搬送方向の下流側に設けられ、前記現像液が供給されて表面が前記現像液で覆われた前記基板が前記搬送機構により搬送される現像領域と、前記現像領域において、前記搬送機構が停止したときに前記現像領域に在る前記基板に対して洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備える。 （もっと読む）

【課題】気流制御を通して基板を均一に加熱することが可能な加熱処理装置およびこれを備える塗布現像装置を提供する。
【解決手段】基板を収容可能で、前記基板Ｓが通過する第１の搬入口６２Ｉおよび第１の搬出口６２Ｏを有する筐体と、前記第１の搬入口６２Ｉから前記第１の搬出口６２Ｏへ向かう方向に前記基板Ｓを搬送する第１の搬送機構と、前記第１の搬送機構により前記筐体内を搬送される前記基板Ｓを加熱するヒータ７２と、前記筐体に設けられる排気口であって前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏから前記排気口に至る気流を形成可能な当該排気口と、前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏの一方または双方に臨んで設けられ、吸気により前記気流を調整する当該吸気口とを備える加熱処理装置が開示される。 （もっと読む）

【課題】基板の端部領域におけるレジスト表面難溶化層の剥離及び再付着で生じるスジ状欠陥の発生を抑制する。
【解決手段】基板１の板厚中心に位置する中央面を含む仮想平面１ｂより上方に位置する上方吹き出し部２ａから、基板を乾燥させるための第１の気流４を基板に向けて斜め下向きに供給し、かつ仮想平面より下方に位置する下方吹き出し部２ｂから、基板を乾燥させるための第２の気流５を基板に向けて斜め上向きに供給しながら、基板が上方吹き出し部と下方吹き出し部との間を、端部領域を基板先頭部として通過するように、上方及び下方吹き出し部と、基板と、を相対移動させる。第２の気流の仮想平面と垂直な上向きの速度成分が、第１の気流の仮想平面と垂直な下向きの速度成分より小さくなるように第１及び第２の気流を制御する。 （もっと読む）

【課題】塗布、現像装置のスループットの低下を抑えると共に装置の設置面積を抑えることができる技術を提供すること。
【解決手段】液処理系の単位ブロック群と、この単位ブロック群のキャリアブロック側に配置された第１の加熱系のブロックと、前記液処理系の単位ブロック群のインターフェイスブロック側に配置された第２の加熱系のブロックと、を備えるように処理ブロックを構成し、液処理系の単位ブロック群は、反射防止膜及びレジスト膜を形成する前段処理用の単位ブロックを二重化したものと、上層膜を形成し、露光前に洗浄を行う後段処理用の単位ブロックを二重化したものと、現像処理を行う単位ブロックとを含むように構成し、第１の加熱系のブロックは、レジスト塗布後及び現像後の基板を加熱し、第２の加熱系のブロックは、露光後現像前、反射防止膜形成後及び上層膜形成後の各基板を加熱する。 （もっと読む）

【課題】基板のベベル部を簡便かつ効率的に洗浄することができ、省スペース化にも有利な基板洗浄装置、これを備える塗布現像装置、および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態による基板洗浄装置は、基板の裏面中心部を保持し、当該基板を回転する基板保持回転部と、第１の洗浄部、前記第１の洗浄部の周りに配置される第２の洗浄部、並びに前記第１の洗浄部および前記第２の洗浄部が取り付けられる台座を含む洗浄部材と、前記基板保持回転部に保持される前記基板の裏面に前記第１の洗浄部と前記第２の洗浄部とを接触可能に、前記基板保持回転部および前記洗浄部材を相対的に昇降する昇降部と、前記第２の洗浄部の一部を前記基板の外側に露出可能に、前記基板の裏面に沿った方向に、前記基板および前記洗浄部材を相対的に駆動する駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ロットの処理不良を防止することができるとともに、ロット間における処理を均一化することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】薬液交換後から薬液処理部ＣＨＢ２に第２搬送機構ＷＴＲが到達した後、薬液処理部ＣＨＢ２にてロットの処理を開始した時間を計時部２７が計時し、その経過時間とオーバータイムカウントとを判断部２９が比較する。経過時間がオーバータイムカウントを超えたと判断部２９が判断すると、報知部３３がオーバータイムアラームを報知する。したがって、許容時間内にロットを薬液処理部ＣＨＢ２で処理開始できなかったことをオペレータは知ることができる。よって、ロットの処理不良を防止することができる。またオーバータイムアラームが発生しない場合には、薬液交換からロットの処理までを一定時間内に収めることができるので、ロット間における処理を均一化することができる。 （もっと読む）

【課題】現像廃液の排出量を削減することができ、廃液の処理過程で生じる水を容易に再利用できる平版印刷版現像廃液削減装置を提供する。
【解決手段】
平版印刷版現像廃液削減装置１は消泡剤を貯蔵する消泡剤タンク４０と、ポジ型の平版印刷版現像廃液を貯蔵する処理液タンク１０と、消泡剤タンク４０と処理液タンク１０と接続され、廃液を加熱・濃縮するための加熱コイル６０を備える第１容器２０と、第１容器２０からの蒸発した水蒸気を冷却・凝縮するための冷却コイル６４を備える第２容器２２と、ヒートポンプシステムを構成するよう加熱コイル６０と冷却コイル６４とに接続された圧縮機６１及びキャピラリー管６８と、第１容器２０と第２容器２２を減圧するための、水流タンク８０、アスピレーター８１及び水流ポンプ８２を備える減圧手段と、第２容器２２で冷却・凝縮された水を回収し、水流タンク８０と接続された洗浄水タンク９０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】低温の処理液を用いた処理処理において、処理液ノズルの結露の発生を防止し、処理を基板面内で均一に行う。
【解決手段】現像処理装置１は、基板を保持する保持部材と、基板上に現像液、リンス液、処理液を供給する複合ノズル体４２と、保持部材上から退避した複合ノズル体４２を待機させるノズルバス４４とを有している。ノズルバス４４内には、複合ノズル体４２の先端部が収容される。ノズルバス４４は、待機中の複合ノズル体４２を挟んで設けられ、当該複合ノズル体４２においてノズルバス４４から露出した露出部を覆うように水平方向に延伸する一対のパージガスノズル９３、９３を有している。一対のパージガスノズル９３、９３は、複合ノズル体４２の露出部に対して水分を含まないパージガスを供給する。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像液中の炭酸系塩類の濃度を簡便かつ制度良く測定可能な装置及び方法、及びこれを用いたアルカリ現像液管理システムを提供する。
【解決手段】アルカリ現像液の屈折率に関する情報、前記アルカリ現像液の導電率に関する情報、前記アルカリ現像液の吸光度に関する情報をそれぞれ取得するデータ取得部９１と、屈折率に関する情報、記導電率に関する情報、及び、吸光度に関する情報に基づいて、アルカリ現像液中の炭酸系塩類の濃度に関する情報を取得する炭酸系塩類濃度取得部９４と、を備える炭酸系塩類濃度測定装置９９である。 （もっと読む）

【課題】水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗槽に混入した現像液の成分が、循環して基板に汚れを発生させない現像装置を提供する。
【解決手段】水置換工程の水置換槽Ｓ４へ水洗水を供給する循環タンクＳＴ１に、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器４０を備え、測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水Ｄ３及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整する。現像液成分による汚染度として水洗水の導電率を用いる。循環タンクとして２基の循環タンクを並列に設け、一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が公差外となった際に、他方の循環タンクに切り換えること。 （もっと読む）

【課題】スリットノズルを使用するスピンレス塗布法において塗布処理直後に行われる減圧乾燥処理の効率性の向上および処理時間の短縮化を実現するとともに、減圧乾燥処理後のレジスト塗布膜の膜質均一性を向上させる。
【解決手段】レジスト塗布ユニットで当該基板Ｇに対して右辺Ｇ_Rから左辺Ｇ_Lに向かって塗布走査する第２モードが選択されたときは、減圧乾燥ユニット（ＶＤ）５２では、減圧乾燥処理中に左側のガス噴出部１０２を選択的に作動させて右側のガス噴出部１０４を止めておくような気流制御が行われる。この場合、手前（左側）の排気ポート１００ａ，１００ｂの排気流路が閉められ、向かい側（右側）の排気ポート１００ｃ，１００ｄを通じてチャンバ内の排気が行われる。 （もっと読む）