Fターム[2H096HA00]の内容
感光性樹脂・フォトレジストの処理 (33,738) | 現像後の処理 (2,818)
Fターム[2H096HA00]の下位に属するFターム
ベーキング、ポストベーク、バーニング (844)
処理液による処理、不感脂化処理 (201)
一様露光(後露光) (215)
画像の修正 (437)
画像の転写 (128)
着色、染色 (15)
エッチング (526)
メッキ、蒸着 (182)
その他 (268)
Fターム[2H096HA00]に分類される特許
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平版印刷版及びその製造方法、並びにそれを用いた印刷物
【課題】インク受容部の画線が高解像性、鮮明性を有し、良質の印刷物を得ることができる印刷版を、簡便、安価、かつ迅速に製造することができる平版印刷版及びその製造方法並びにそれを用いた印刷物の提供にある。
【解決手段】支持基材上の版パターンが画線部に対応する親インク部と非画線部に対応する撥インク部とからなる平版印刷版であって、前記支持基材10の表面が少なくとも下地層120でなり、該下地層120上に前記親インク部を成す不活性層160と前記撥インク部を成す吸着層110が形成されている平版印刷版100とするものである。
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レジストパターン形成方法、エッチング方法およびマスター情報担体の製造方法
【課題】寸法精度よく、かつ容易に基体表面にパターン形成することができるレジストパターン形成方法、エッチング方法、およびマスター情報担体の製造方法を提供する。
【解決手段】基体1の表面上に全面に第1レジスト膜2を形成する工程と、第1レジスト膜2の上に開口3aを有する第2レジスト膜3を形成する工程と、開口3a内の第1レジスト膜2の表面にイオン注入法によりイオンを注入する工程と、イオン注入層5をマスクとして第1レジスト膜2をエッチングする工程とを備えたレジストパターンの形成方法。なお、このレジストパターン7を用いて基体1または基体1の上に予め形成した薄膜を精度よくエッチングすることができる。また、この方法を適用して、マスター情報担体を容易に製造することができる。
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