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Fターム[2H096HA17]の内容

感光性樹脂・フォトレジストの処理 (33,738) | 現像後の処理 (2,818) | エッチング (526) | 湿式エッチング (120)

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【課題】大面積の基板上のCu膜若しくはCu合金膜をウェットエッチングすることによって配線等とする際に、Cu膜にダメージを与えないように剥離し、なおかつ、Cu膜の上に堆積させる層との間の接着力を低下させないフォトレジストの剥離液を用いた剥離液リサイクルシステムを提供する。
【解決手段】主剤と極性溶媒と水からなる混合液およびレジスト成分からなる剥離液を繰り返し使用し、剥離液中のレジスト濃度が所定の値に達したら、剥離液の一部を排出管から排出し、新たな剥離液の供給を受けるレジスト剥離装置と、廃液タンクと、廃液タンク中の剥離液を蒸留する蒸留再生装置と、前記分離液中の主剤と極性溶媒の組成比率を調べる成分検査装置と、分離液の主剤と極性溶媒および水の比率が予め決められた比率になるように不足分の主剤と極性溶媒および水を追加して、混合液を調製する調合装置と混合液を貯留する供給タンクを有する。 (もっと読む)


【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なエッチングレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(成分A)カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位(a1)と、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有するモノマー単位(a2)とを有する重合体、(成分B)光酸発生剤、並びに、(成分C)溶剤、を含むことを特徴とするエッチングレジスト用感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】親水処理の為の専用装置無しにフォトリソグラフィーにより容易に親水被膜を形成する方法及びそれより得られる親水被膜を提供すること。
【解決手段】1)主鎖に酸により分解可能な結合を含むカチオン重合性樹脂と紫外線を含む活性エネルギー線を照射することによりアンチモン酸又はアンチモン酸よりも酸強度が弱い酸を発生する光酸発生剤とを含む被覆樹脂層を基材上に形成する工程と2)該エネルギー線を照射することによりアンチモン酸よりも酸強度が強い酸を発生する光酸発生剤とこの光酸発生剤を保持し工程3で除去可能な保持体とを含む光酸発生剤保持層を該樹脂層に積層する工程と3)該保持層及び該樹脂層に該エネルギー線を露光し現像して該保持層を除去し該樹脂層を硬化させる工程と4)この樹脂層を熱処理することで表面を親水化して親水被膜を形成する工程とを含む親水被膜の形成方法及び親水被膜。 (もっと読む)


【課題】ファインピッチ用はんだペーストを用いた場合にも、基板とマスクとの間にはんだペーストが入り込むことを防止して電極のにじみやブリッジの発生を低減し、はんだペーストを高精度で基板上に印刷する。
【解決手段】金属層21の表面に形成した感光性のレジストマスクを感光させ、任意形状のエッチング用開口部を前記レジストマスクに形成し、前記レジストマスクの前記エッチング用開口部を通じて金属層21をエッチングして開口部を金属層21に形成することにより製造され、はんだペーストを通過させる任意形状の開口部20aを有し、前記レジストマスクをエッチングレジスト層22として金属層21上に積層状態で備えるはんだペースト印刷用マスク10。 (もっと読む)


【課題】金属箔に塗布したフォトレジストに露光した孔の開口サイズのばらつきを少なくし、高精度に孔開け加工ができるようなスクリーン印刷用メッシュ部材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のスクリーン印刷用メッシュ部材の製造方法は、エッチングによって金属箔に多数の孔開け加工してスクリーン印刷用メッシュ部材を製造するに当り、厚さが5〜50μmの金属箔にフォトレジストを塗布した後に、露光用マスクに描画した孔の形状を露光するときのエネルギー量を120〜240mJ/cm2として操業する。 (もっと読む)


【課題】金属箔に破れやシワを生じにくくして安定的に有孔金属箔を生産することができる有孔金属箔の製造方法を提供する。
【解決手段】金属箔1の片面に孔部5を有するエッチングレジスト4が形成される。前記金属箔1の他の片面にキャリアフィルム3が形成される。前記金属箔1の前記孔部5から露出する部分にエッチング液が供給されることにより前記孔部5から露出する部分がエッチング液で溶解されて金属箔1に開口部6が形成される有孔金属箔の製造方法に関する。前記キャリアフィルム3が感光性ドライフィルム2により形成される。前記感光性ドライフィルム2が剥離液により除去される。キャリアフィルム3を剥離液により容易に剥離させて除去することができる。 (もっと読む)


【課題】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、連続薄膜化処理によって光架橋性樹脂溶解量が増加した場合にも、現像能力および溶解能力を一定に維持することができる方法を提供する。
【解決手段】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、工程(a);基板上に光架橋性樹脂層を形成する工程、工程(b1);無機アルカリ性化合物を5〜20質量%含む水溶液で処理する工程、工程(b2);無機アルカリ性化合物とアセチレン基を中央に持ち、左右対称の構造をした非イオン性界面活性剤とを含み、pH5〜10である水溶液で処理する工程を含むことを特徴とする光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法。 (もっと読む)


【課題】 酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の微細加工において、現像及びホトレジスト剥離のいずれの処理においても酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の溶解を抑制し、導電特性及び可視光透過性の大幅な劣化を生ずることなくパターニング可能な方法の提供すること。
【解決手段】 基板上に酸化亜鉛系結晶からなる薄膜を成膜し、該薄膜表面にホトレジストを形成した後にパターンマスクを介して露光し、前記ホトレジストの露光部を現像液により現像処理を施して前記露光部のホトレジストを除去し、残存した前記ホトレジストを介して前記薄膜にエッチングを施した後に剥離液により前記ホトレジストを剥離処理するパターニング方法であって、前記現像液及び前記剥離液のpHが10.5〜13.5であり、且つ液温が15〜50℃の温度範囲であることを特徴とする酸化亜鉛系結晶からなる薄膜のパターニング方法とする。 (もっと読む)


【課題】従来よりも厚い塗布膜厚で印刷することが可能な印刷版、印刷用版胴および印刷装置を提供する。
【解決手段】円筒面に多数個の微細な穴を有する円筒状の外管と、前記外管の円筒面の外側表面に前記微細な穴よりも大きな所定パターンをもつ固体層とを有する印刷版、および、前記印刷版と、前記外管の内部に配設された円筒状の内管と、前記内管を支えて固定する内管軸と、前記外管の内壁と前記内管の外壁で囲まれた空間に液状体を供給する液状体供給手段と、前記内管軸と前記外管の内壁との間に配置され、前記外管の内壁と前記内管の外壁で囲まれた空間から前記液状体が漏れないようにするシール手段とを有することを特徴とする印刷用版胴、およびこの印刷用版胴を用いた印刷装置。 (もっと読む)


【課題】回路基板の貫通孔の孔径の大小に係わらず、サイドエッチ量が変わらず、かつ現像残渣の発生がないレジスト像を形成することができるアルカリ可溶性樹脂層除去方法、レジストパターンの形成方法及び回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩から選ばれる無機アルカリ化合物のうち少なくともいずれか1種を高濃度で含み、さらに、硫酸塩または亜硫酸塩のうち少なくともいずれか1種を適量含むアルカリ可溶性樹脂層処理液を用いたアルカリ可溶性樹脂層除去方法と、このアルカリ可溶性樹脂層除去方法を用いたレジストパターンの形成方法及び回路基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、現像後解像性および密着性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物が発生しない光重合性樹脂組成物、及び該組成物を含有する光重合性樹脂層を有する光重合性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターン等の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、特定のモノマーを共重合成分として50質量%以上含有し、かつ、重量平均分子量が5000〜500000であるバインダー用樹脂:10〜90質量%、(b)光重合性不飽和化合物:5〜70質量%、(c)光重合開始剤0.01〜20質量%を含有してなる光重合性樹脂組成物であって、該(b)光重合性不飽和化合物が、特定の化合物を含有することを特徴とする光重合性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】露光処理、現像処理を行って形成したレジストパターンをスリミング処理する際に、スリミング処理後のレジストパターンの線幅のばらつきを低減させることができるレジストパターンのスリミング処理方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成したレジストパターンをスリミング処理するレジストパターンのスリミング処理方法において、レジストパターン上にレジストパターンを可溶化する反応物質を塗布し、次に予め決定された熱処理条件で熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程と、スリミング処理工程前にレジストパターンの線幅を測定する第1の線幅測定工程とを含む。第1の線幅測定工程で測定した線幅の測定値に基づいて熱処理条件を決定する。 (もっと読む)


【課題】 ガラス基板のエッチング加工の際、所望の領域のみを選択的にエッチングすることが可能な耐フッ酸性、ガラス基板に対する密着性を有するガラスエッチング用レジスト樹脂組成物、およびそれを用いた回路形成方法を提供する。
【解決手段】 (A)ポリアリレート樹脂、(B)光酸発生剤、(C)シランカップリング剤を含有することを特徴とするガラスエッチング用レジスト樹脂組成物、およびそのガラスエッチング用レジスト樹脂組成物を用いた回路形成方法。 (もっと読む)


【課題】 低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により導電性を容易に安価に得ることのできる導電性転写フィルム及びそれを用いた導電性パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 仮支持体上に、導電性層、及びネガ型感光性樹脂層を順次積層してなる導電性転写フィルム。仮支持体上に、ポジ型感光性樹脂層、導電性層、及びネガ型感光性樹脂層を順次積層してなる導電性転写フィルム。導電性層が、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化すず、金、銀、銅、アルミニウムのいずれかを主成分とする導電性膜であると好ましい。前記の導電性転写フィルムを用いて、ネガ型感光性樹脂層側を支持体に貼りつける工程、所定部を露光する工程と、を含む導電性パターンの形成方法。 (もっと読む)


【解決手段】ウェットエッチングによって合成石英ガラス基板へ微細加工を行う加工方法において、合成石英ガラス基板の被エッチング部以外のマスキング保護部に少なくとも1種類以上の有機皮膜層を形成し、その上にフォトレジスト膜を積層することを特徴とする合成石英ガラス基板の微細加工方法。
【効果】本発明によれば、数十nm〜数百μmレベルの微細形状の形成を必要とするMEMS、μ−TAS、バイオ等の分野において、合成石英のウェットエッチングの保護膜を低コスト、短時間で作製することができる。また、金属膜や金属酸化物膜を形成する場合、膜自身に生じる内部応力の影響を考えなくともよいため、煩雑な成膜条件の検討が必要なく、かつ、金属・金属酸化物膜を形成した場合と比べて同等以上の寸法公差が得られる。 (もっと読む)


【課題】ベイク工程後に得られたFPCの反りを低減し、機械物性を向上させ、溶剤耐性を改善することのできる樹脂パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂パターンの製造方法は、(1)ポジ型感光性樹脂組成物をフィルム基材に塗布し、次いで脱溶剤し感光性ドライフィルムを作る工程と、(2)前記感光性ドライフィルムを、パターンを配した基板上に圧着し感光層を形成する工程と、(3)前記感光層に、マスクを通して活性光線を照射する工程と、(4)前記感光層をアルカリ水溶液により現像する工程と、(5)前記感光層を水及び酸性水溶液からなる群から選択される少なくとも1つの溶媒によりリンスする工程と、(6)前記感光層の全体に活性光線を照射する工程と、(7)100℃〜400℃でキュアする工程とを具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状、硬化後の剥離特性及びスラッジ除去性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)光重合性化合物、(C)ヘキサアリールビイミダゾール系化合物を含む光重合開始剤及び(D)下記一般式(4)で表される化合物を含む増感色素を含有する感光性樹脂組成物。
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【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基含有繰り返し単位を有する樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布、溶剤除去するレジスト膜形成工程、クロムレスのシフターが配列された位相シフトマスクを用い高エネルギー線で露光後加熱し、酸不安定基に脱離反応させた後、現像しポジ型パターンを得る工程、露光又は加熱し、酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、架橋形成により有機溶剤耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物による反転用膜形成工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、解像性やプロセスマージンが拡大し、スループットが高く、ドライ現像のためのエッチング装置が不要で、ダブルダイポールリソグラフィーと同等の解像力が得られる。 (もっと読む)


【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基含有繰り返し単位を有する樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布し、溶剤除去するレジスト膜形成工程、格子状のシフターが配列された位相シフトマスクを用い高エネルギー線で露光後加熱し、酸不安定基に脱離反応させた後、現像しポジ型パターンを得る工程、露光又は加熱し、酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、架橋形成により有機溶剤耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物による反転用膜形成工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、解像性やプロセスマージンが拡大し、スループットが高く、ドライ現像のためのエッチング装置が不要で、ダブルダイポールリソグラフィーと同等の解像力が得られる。 (もっと読む)


【課題】 テント強度に優れ、また、十分な光感度、解像度、密着性、及び剥離特性を有する感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】 (A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも1つのエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、及び(C)光重合開始剤、を含有する感光性樹脂組成物であって、前記(B)成分が、(B1)下記一般式(I)で表される化合物と、(B2)分子内に2つのエチレン性不飽和基、並びに、オキシエチレン基及び/又はオキシプロピレン基を有する化合物と、を含有する感光性樹脂組成物。
【化1】


(一般式(I)中、Rは水素原子又はメチル基を示す。) (もっと読む)


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