【課題】相互接続領域の具現が困難なパッドレイアウトを具現化し、オーバレイマージンを増大できる半導体素子の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体基板に被食刻層、第1のハードマスク物質層、第1の分割パターン物質層及び第2のハードマスク物質層を形成して選択食刻し第2のハードマスクパターンを形成し、これをマスクとし第1の分割パターン物質層を食刻し第1の分割パターンを形成する。第1のハードマスク物質層の上部にスペーサ物質層及び第2の分割パターン物質層を形成し、第1の分割パターンが現われるまでスペーサ物質層及び第2の分割パターン物質層を部分食刻しスペーサ物質層を露出させ、複数の第1の分割パターン間に第2の分割パターンを形成し、第1、第2の分割パターンをマスクとしスペーサ物質層及び第1のハードマスク物質層を食刻し第1のハードマスクパターンを形成し、これをマスクとし被食刻層を食刻し微細パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】基板の面内で均一性高くパターンを形成することができる現像装置を提供すること。
【解決手段】表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像するための現像液供給部と、基板上において予め設定されている特定の領域に、現像液を加熱して現像液とレジストとの反応の度合を高めるために、基板の材料の波長吸収領域を含む輻射光を照射する輻射光照射部と、基板の表面に洗浄液を供給して現像液を除去する洗浄液供給部と、を備えるように現像装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】複数のパターンを合成して微細パターンを形成する方法において、プロセスを簡易化し、低コストで実施できる方法を提供する。
【解決手段】第１のパターンを形成する工程と、保護膜を形成する工程と、第２のパターンを保護膜上に形成する工程と、第２のパターンをマスクとして、保護膜と、保護膜により保護されたパターンをドライエッチングする工程と、保護膜を除去する工程とを備え、保護膜の形成工程から保護膜の除去工程までの工程を、単数回または複数回実施する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの線幅寸法のばらつきを抑制可能とした、レジストパターンの形成方法およびレジスト塗布現像装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るレジストパターンの形成方法は、第一基板上にフォトレジストを塗布し、この塗布されたフォトレジストに所定のパターンを露光した後、現像を施すレジストパターンの形成方法であって、前記塗布、前記露光および前記現像の少なくとも１つの工程において、前記第一基板が属するロットの切り替え時に常に、前記ロットが滞在する雰囲気の入れ替えを行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有するレリーフ構造体を製造可能であり、塗布欠陥が著しく低減された感光性樹脂組成物の製造方法、及び該方法により得られた感光性樹脂組成物を用いたレリーフパターンを提供する。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）感光剤、（Ｃ）溶剤を含む固形分濃度３０質量％以上のポジ型感光性樹脂組成物を０．１μｍ以下の中空糸フィルターで濾過する工程を含むポジ型感光性樹脂組成物の製造方法、及び該感光性樹脂組成物を用いて形成したレリーフパターン。 （もっと読む）

【課題】印刷または転写に使用する版が、種々の理由で摩耗したり、キズがついたりした場合、再生が容易な版を提供する。
【解決手段】印刷用インクの印刷または転写用インクの転写に使用する版１であって、少なくとも裏面露光光透過性の支持基板２の上に、印刷または転写すべきパターンのポジパターンまたはネガパターンにして裏面露光光遮光性の遮光性膜３を設け、遮光性膜３を覆うようにして前記支持基板２の上に裏面露光光透過性層４を積層し、裏面露光光透過性層４の上に位置する版面５に、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成してなる版パターン部１０を設けた。 （もっと読む）

【課題】露光装置のメンテナンスを所望のタイミングで行うことができる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】キャリアブロックに搬入された基板を処理ブロックに搬送して塗布膜を形成した後、インターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理してキャリアブロックに搬送する塗布、現像装置において、前記塗布膜形成用のブロック及び現像用のブロックに対して積層され、キャリアブロックとインターフェイスブロックとの間で塗布膜が形成された基板を、キャリアブロック側からインターフェイスブロック側に直通搬送する搬送手段を設ける。このように構成することで塗布膜形成用のブロックと現像用のブロックとがメンテナンス中であっても検査用基板を露光装置に搬送できるので、露光装置の状態を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】製版用フィルムを用いることなく、耐刷力および解像力に優れた平版印刷版のダイレクト製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも１層の１級アミンポリマーを含有する層を有する平版印刷原版上にインクジェット方式を用いて１級アミンポリマーに対する架橋剤を含む組成物を印字して像を形成させることを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】 ｉ線仕様、ＫｒＦ仕様、ＡｒＦ仕様の各種レジスト、ケイ素含有レジスト、化学増幅型ポジ型レジストなど多種多様の組成のレジストに対して一様に良好な洗浄性を示し、処理後の乾燥性が良く、洗浄によりレジストの特性がそこなわれることのないリソグラフィー用洗浄液を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酢酸又はプロピオン酸の低級アルキルエステルの中から選ばれた少なくとも１種と（Ｂ）炭素数５〜７の環状若しくは非環状ケトンの中から選ばれた少なくとも１種とを（Ａ）／（Ｂ）の質量比４／６ないし７／３の範囲で含有したリソグラフィー用洗浄液とする。 （もっと読む）

中空の円筒形基底層及びその一番外側層として継ぎ目のない像記録表面を含んでなる継ぎ目のない印刷スリーブが記載される。像記録表面は一体型のフレキソ印刷表面として働く。印刷スリーブは好ましくは、基底層の外面と像記録表面間に中間の感光性重合体又は弾性の重合体層を含んでなる。更に基底層は好ましくは、化学線に均一に透過性又は半透過性である。
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【課題】 有機積層部材、特にフルカラー有機ＥＬディスプレイ等に用いられる色変換部材の製造工程数を減らし、安定的に微細なパターンを形成でき、生産性を向上できる製造方法を提供する。
【解決手段】 基材と、前記基材上に少なくとも第１有機物層と第２有機物層とが順次積層された有機物層とからなる有機積層部材の製造方法であって、前記第１有機物層と第２有機物層とを単一のフォトリソグラフィー工程によってパターニングする。 （もっと読む）