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Fターム[2H096JA04]の内容

感光性樹脂・フォトレジストの処理 (33,738) | 処理工程 (1,945) | 工程の組合せ (1,865) | 現像以後の (1,113)

Fターム[2H096JA04]に分類される特許

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【課題】微細なパターンを有し且つ優れた信頼性を有するソルダーレジストを表面に備えるプリント配線板を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】開口を有するソルダーレジストを表面に備えるプリント配線板の製造方法であって、ドライフィルムレジストして機能する第一の感光性樹脂組成物からなる第一の層を形成する工程、ソルダーレジストとして機能する第二の感光性樹脂組成物からなる第二の層を形成する工程とを備えるプリント配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、アルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物及び熱架橋剤を含有する高感度、高解像度な厚膜用の化学増幅ポジ型レジスト材料に関する。
【解決手段】(A)ベース樹脂、(B)光酸発生剤、(C)熱架橋剤、(D)有機溶剤を含有し、(A)成分が100質量部、(B)成分が0.05〜20質量部、(C)成分が0.1〜50質量部、(D)成分が50〜5,000質量部からなり、(A)ベース樹脂が、重量平均分子量1,000〜500,000である高分子化合物を含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。 (もっと読む)


【課題】回折格子を高精度に作製し、単一モード発振を安定して得ることが可能な量子カスケードレーザの製造方法を提供する。
【解決手段】量子カスケードレーザの製造方法は、可撓性を有する樹脂フィルムにマザースタンパを押しつけて、第1の溝パターンの凹凸が反転した第2の溝パターンP2を有する樹脂スタンパ201を作製する工程と、活性層が半導体基板上に形成されたウエハを作製する工程と、ウエハのうち活性層側の表面にレジスト膜304を形成する工程と、樹脂スタンパをレジスト膜304に空気圧により押しつけて、第2の溝パターンP2の凹凸が反転した第3の溝パターンP3をレジスト膜304に形成する工程と、レジスト膜304をマスクとしてウエハのエッチングを行い、ウエハの表面に回折格子を形成する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を選択的に除去できる組成物であって、上記組成物に対して同様に露出している可能性のある金属に破壊的化学作用を及ぼさない組成物を提供することを課題とする、また、極微量の酸化シリコンを呈し、一般的に絶縁体に対するエッチング速度の低い組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するのに適切な組成物であって、a)少なくとも約50重量%の、テトラフルフリルアルコール、ジアセトンアルコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール及びアルキレングリコールエーテルからなる群より選択される溶媒;b)約0.005〜約0.8重量%のフッ素ソース;c)上限約49.9重量%の水;及び、d)上限約20重量%の腐食抑制剤を含むことを特徴とする組成物を含む。また、本発明は、基板からフォトレジスト及び/又はエッチング残渣を除去する方法であって、上記の組成物と基板を接触させることを含むことを特徴とする方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】アルカリ水溶液での溶解性に優れ、残留応力の変化が小さく耐薬品性に優れた硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)フェノール性水酸基を有する樹脂、(b)上記樹脂(a)が有するフェノール性水酸基と反応する化合物、(c)感光性化合物、及び(d)架橋剤、を含む感光性樹脂組成物であって、該(a)フェノール性水酸基を有する樹脂におけるフェノール性水酸基の水素を、特定範囲の水酸基変性率で他の基に置換可能である、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】多層レジストプロセスにおいて、有機溶媒現像の場合に、パターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成させることができるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、(1)レジスト下層膜形成用組成物を用い、基板上にレジスト下層膜を形成する工程、(2)フォトレジスト組成物を用い、上記レジスト下層膜上にレジスト膜を形成する工程、(3)上記レジスト膜を露光する工程、及び(4)上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒を80質量%以上含有する現像液を用いて現像する工程を有し、上記レジスト下層膜形成用組成物が、[A]ポリシロキサン鎖を含み、カルボキシル基、酸の作用によりカルボキシル基を生じうる基及び酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を有する成分を含有するレジストパターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】1浴処理が可能で、耐刷性、インキ着肉性、及び印刷汚れにくさに優れた平版印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、ビニルカルバゾール化合物由来のモノマー単位を有するアクリルポリマー、及び/又は、ウレタン−アクリルハイブリッドポリマーを含有する光重合性感光層を有するネガ型平版印刷版原版を作製する工程、前記ネガ型平版印刷版原版を画像様に露光する工程、及び、pH4〜10であり、(成分A)下記式(I)で表される化合物、及び、(成分B)水、を少なくとも含み、有機溶剤の含有量が5重量%未満である現像液により、露光された前記ネガ型平版印刷版原版を現像する工程、を含み、前記現像工程の前後での水洗工程及びガム引き工程を含まないことを特徴とする平版印刷版の製版方法。式(I)中、R1は置換若しくは無置換の、フェニル基、1−ナフチル基又は2−ナフチル基を表し、nは4〜20の整数を表す。
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【課題】フォトレジストパターンの耐熱性を向上させる、レジストパターンの表面処理方法およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】現像済みフォトレジストパターン表面に酸素を含む雰囲気下でプラズマ処理を施し、前記フォトレジストパターン表面にオキサゾリン骨格などを含む架橋性基を含有するポリマーを含む被覆層形成用組成物を接触させることを含んでなる、現像済みフォトレジストパターンの処理方法。 (もっと読む)


【課題】多層レジストプロセスにおいて、シリコン含有膜のフッ素系ガスエッチングに対する加工性と、酸素系ガスエッチングに対する耐性とを共に高め、微細なパターンを形成できるパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、(1)ポリシロキサン組成物を用い、被加工基板の上面側にシリコン含有膜を形成する工程、(2)上記シリコン含有膜上にレジストパターンを形成する工程、(3)上記レジストパターンをマスクとし、上記シリコン含有膜をドライエッチングしてシリコン含有パターンを形成する工程、並びに(4)上記シリコン含有パターンをマスクとし、上記被加工基板をドライエッチングして被加工基板にパターンを形成する工程を有し、上記ポリシロキサン組成物が、[A]フッ素原子を含むポリシロキサン、及び[B]架橋促進剤を含有するパターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、撥水性、耐溶出性及び溶解性についての特性を満たしつつ、剥がれ耐性及び露光余裕度をバランス良く両立することができる液浸上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A1]下記式(i)で表される基を含む構造単位(I−1)を有する重合体、[A2]上記[A1]重合体と異なる重合体、及び[B]溶媒を含有する液浸上層膜形成用組成物である。下記式(i)中、Rは、炭素数1〜20の(n+1)価の炭化水素基である。nは、1〜3の整数である。[A2]重合体の成膜状態での水との後退接触角は、[A1]重合体よりも大きいことが好ましい。
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【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて側壁部形成のための薄膜が堆積される対象構造を有機材料により形成した場合であっても、均一な側壁部を形成する。
【解決手段】基板上にフォトレジスト膜を形成する工程と、前記フォトレジスト膜をアルカリ性の薬剤に曝す工程と、前記薬剤に曝された前記フォトレジスト膜を露光する工程と、露光された前記フォトレジスト膜を現像する工程とを含むフォトレジストパターン形成方法により上記の課題が達成される。 (もっと読む)


【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形または矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供することが可能な樹脂を提供する。
【解決手段】主鎖末端にカルボキシル基を含有し、かつ、3員環および/または4員環の環状エーテル基を有する繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液に不溶または難溶性で酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となるポジ型感光性アクリル樹脂を用いる。 (もっと読む)


【課題】金属含有膜を用いる多層レジストプロセスにおいて、金属含有膜からの金属溶出を抑制することができるパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、(1)被加工基板の上側に金属含有膜を形成する工程、(2)上記金属含有膜上に保護膜を形成する工程、(3)レジスト組成物を用い、上記保護膜上にレジスト膜を形成する工程、(4)フォトマスクを介した露光光の照射により、上記レジスト膜を露光する工程、(5)上記露光されたレジスト膜の現像により、レジストパターンを形成する工程、及び(6)上記レジストパターンをマスクとしたエッチングにより、被加工基板にパターンを形成する工程を有するパターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、形成されるレジストパターンの耐パターン倒れ性やドライエッチング時におけるレジストパターンに対する高いエッチング選択性を維持しつつ、高い屈折率及び吸光係数を有するレジスト下層膜を形成可能なレジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法並びに重合体を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]電子求引性基が結合する芳香族構造を有する構造単位(I)と、ラクトン構造を有する構造単位、環状カーボネート構造を有する構造単位及び環状イミド構造を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位(II)とを含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。 (もっと読む)


【課題】微細な孔径(例えば、60nm以下)を有し、かつ、断面形状の矩形性に優れるホールパターンを、局所的なパターン寸法の均一性に優れた状態で形成可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂(P)、及び
活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物(B)を含有し、かつ
フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有し、前記樹脂(P)とは異なる樹脂(C)を、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分を基準として、1質量%以上含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


上記一般式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。
、R及びRは、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 (もっと読む)


【課題】超微細の孔径(例えば、60nm以下)を有し、かつ、真円性に優れるホールパターンを、良好な現像時間依存性を以って形成可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスの提供。
【解決手段】(P)下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分に対する前記化合物(B)の含有量が8.0質量%以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。


上記一般式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。 (もっと読む)


【課題】 超微細の孔径(例えば、60nm以下)を有し、かつ、断面形状に優れるホールパターンを、局所的なパターン寸法の均一性が優れた状態で形成可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】 (P)下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を、全繰り返し単位に対して30モル%以上含有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(G)フッ素原子及び珪素原子の少なくとも一方を有するとともに、塩基性を有する又は酸の作用により塩基性が増大する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化1】


上記一般式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。
、R及びRは、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 (もっと読む)


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