【課題】支持体上に高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成できるパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に下層膜を形成する工程、該下層膜上にシリコン系ハードマスクを形成する工程、該ハードマスク上に化学増幅型ネガ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成する工程、第一のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第一のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、ハードマスクをエッチングして第一のパターンを形成する工程と、前記第一のパターン上に化学増幅型ポジ型シリコン系レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成する工程、第二のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第二のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、下層膜をエッチングして第二のパターンを形成する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】支持体上に高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成できるパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に下層膜を形成する工程、該下層膜上にシリコン系ハードマスクを形成する工程、該ハードマスク上に化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成する工程、第一のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第一のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、ハードマスクをエッチングして第一のパターンを形成する工程と、前記第一のパターン上に化学増幅型ポジ型シリコン系レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成する工程、第二のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第二のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、下層膜をエッチングして第二のパターンを形成する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、及び該パターン形成方法に好適に用いられる被覆膜形成用材料を提供する。
【解決手段】支持体１上に第一の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成し、第一のレジスト膜２を選択的に露光し、現像して複数の第一のレジストパターン３を形成し、第一のレジストパターン３の表面にそれぞれ水溶性樹脂膜からなる被覆膜４を形成して複数の被覆パターン５を形成し、該被覆パターン５が形成された支持体１上に第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成し、第二のレジスト膜６を選択的に露光し、現像することにより、複数の被覆パターン５と、第二のレジスト膜６に形成された第二のレジストパターン７とからなるパターンを支持体１上に形成する。 （もっと読む）

【課題】 合紙を用いずに積層した場合であっても、輸送等による擦れ傷及び保存時の接着故障が記録層に生じず、且つ、自動供給装置（オートローダー）を備えた露光装置にも好適に用いられる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】 支持体の片面に、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂と、赤外線吸収剤と、を含み、赤外線照射により画像を形成し得る記録層を有し、
前記支持体の記録層を有する面とは反対側の面に、長鎖アルキル基含有ポリマー、及び、該長鎖アルキル基含有ポリマーとは異なるポリマーを含む有機ポリマー層を有することを特徴とする赤外線感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】 露光装置を使用しては製造が不可能であった微細構造を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ウエハ１上にレジスト２を塗布する。このレジスト２としては、γ特性のなだらかなレジストを使用する。そしてマスク３を使用して露光を行う（ａ）。このとき、Ｌ／Ｓの像のピッチがｇ線ステッパの解像限界に近いため、レジスト２を現像するとレジスト２の形状がほぼ正弦波となる（ｂ）。このレジスト２の表面に、保護膜４を塗布し、さらにその上に、γ特性がシャープなレジスト５を塗布する（ｃ）。続いてマスク６を使用して露光を行う（ｄ）。レジスト５を現像すると（ｅ）に示すような形状が形成される。次にこれらの全体を減厚し、（ｆ）に示すような形状を得る。続いて残ったレジストをマスクとしてウエハ１をエッチングし（ｇ）、その後レジスト溶解除去すると、ウエハ表面に細かなＬ／Ｓパターンを形成することができる（ｈ）。 （もっと読む）

【課題】 下層に密パターンを形成し、上層にパターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 次の（i）〜（ii）の工程；（i）基板上に第１のネガ型レジスト組成物を用いて第１のレジスト層を形成し、選択的に露光する工程；（ii）該第１のレジスト層の上に第２のネガ型レジスト組成物又はポジ型レジスト組成物を用いて第２のレジスト層を形成し、選択的に露光した後、第１のレジスト層と第２のレジスト層を同時に現像して、前記第１のレジスト層の未露光部の一部を露出させる工程；を含むレジストパターンの形成方法であって、前記第２のネガ型レジスト組成物又はポジ型レジスト組成物として、第１のレジスト層を溶解しない有機溶剤に溶解したものを用いることを特徴とするレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 レーザ光ビームの走査によって露光が可能で、高感度で保存性がよく、また、
現像の際、感光層露光部の溶解性が優れ、鮮明な画像を現像し得ると共に耐刷性、耐薬品性の優れたポジ型感光性平版印刷版、その製造方法およびそれを利用したポジ画像形成方法を提供する。
【解決手段】 波長６００ｎｍ〜１３００ｎｍの範囲内に吸収域を有する光熱変換物質と、アルカリ可溶性樹脂とを含有する感光層を有し、該感光層は複数層の積層体であり、未露光の状態で、該感光層のアルカリ現像液に対する溶解速度が表面部から下層部に向かって大となるように構成されてなることを特徴とするポジ型感光性平版印刷版。
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【課題】
メッキ高さが高く多段段差形状を有するメッキ形成物の形成を可能にする。
【解決手段】
ネガ型ホトレジスト組成物を、（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）酸発生剤、（ｃ）その他の成分を含有するネガ型ホトレジスト組成物とし、
（Ａ）ネガ型ホトレジスト組成物の層を形成し、加熱後、露光する。
（Ｂ）前記工程（Ａ）を２回以上繰り返してネガ型ホトレジスト層を積み重ねた後、全ての層を同時に現像することで多層レジストパターンを形成する。
（Ｃ）多層レジストパターンにメッキ処理を行うことによりメッキ形成物を形成する。 （もっと読む）