【課題】製版時に保護フィルムを剥離する際には剥離が容易でありながら、適度な製造時や運搬、製版までの取り扱い時には保護フィルムが剥離することがなく取り扱い性に優れ、さらにはアブレーション感度を低下させることのないレタープレス版またはフレキソ版に用いるＣＴＰ用感光性樹脂凸版印刷原版を提供する。
【解決手段】支持体と、感光性樹脂層と、感熱性を有するマスク層と、剥離力調整層と、保護フィルムとが順次積層されてなり、前記剥離力調整層がアミノ樹脂を含有することを特徴とする感光性樹脂凸版印刷原版。 （もっと読む）

【課題】ブロックコポリマーのミクロ相分離を利用したパターン形成方法において、ブロックコポリマーの配向を容易に制御でき、より短時間で微細なパターンを形成できる方法を提供する。
【解決手段】実施形態のパターン形成方法は、基板１１上に熱架橋性分子を塗布し熱架橋性分子層１２を形成する工程と、前記熱架橋性分子層１２上に感光性ポリマーを塗布して感光性ポリマー層１７を形成する工程と、前記熱架橋性分子層１２と前記感光性ポリマー層１７とを加熱による架橋反応により接着する工程と、前記感光性ポリマー層１７を選択的に露光することにより、露光部および未露光部の感光性ポリマーパターンを形成する工程と、前記感光性ポリマー層１７上に、第１および第２のブロック鎖を含むブロックコポリマー層１４を形成し、前記ブロックコポリマー層をミクロ相分離させ、前記ポリマー層１３の表面エネルギーに基づいて前記第１および第２のブロック鎖のパターンを形成する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性（ハガレ耐性）に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位（ａ）を有する重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物である。具体的には、複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位が下記式（ａ１）である液浸上層膜形成用組成物である。
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【課題】平版印刷における高い耐刷性を実現し、しかも露光部の良好な現像性をも達成する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上側に、下層及び上層をこの順に配設した記録層を有してなる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版であって、前記上層および／または下層が、アルカリ水溶液に可溶性又は可分散性の水不溶性ポリウレタン樹脂と、両性界面活性剤および／またはアニオン性界面活性剤 １質量％超２０質量％未満と、赤外線吸収剤とを、同じ層に、あるいはそれぞれ別々に層に含有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤現像によるネガ型レジストパターンの形成方法として最適なパターン形成方法、及び該プロセスで使用されるケイ素含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ−１）、下記一般式（Ａ−２−１）、及び下記一般式（Ａ−２−２）で表される反応性化合物及び／又はこれらの加水分解物、縮合物、加水分解縮合物の各々からなる群から選ばれる各々の１種以上の化合物、からなる混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、（Ｒ^２）_ｍ２（ＯＲ^３）_{（３−ｍ２）}Ｓｉ−Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_{（３−ｍ４）}（Ａ−１）Ｒ^１１_ｍ１１Ｒ^１２_ｍ１２Ｒ^１３_ｍ１３Ｓｉ（ＯＲ^１４）_{（４−ｍ１１−ｍ１２−ｍ１３）}（Ａ−２−１）Ｕ（ＯＲ^２１）_ｍ２１（ＯＲ^２２）_ｍ２２（Ｏ）_{ｍ２３／２}（Ａ−２−２）（Ｂ）有機溶剤を含む組成物によるケイ素含有膜上に、有機溶剤現像のフォトレジストでネガ型パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】側壁マスクプロセスにより同時に異なる幅を持つパターンを形成する。
【解決手段】実施形態に係わる半導体装置の製造方法は、被加工材１２上に第１及び第２の芯材を形成する工程と、第１及び第２の芯材の上面及び側面を覆う第１及び第２の層１６ａ，１６ｂを有する被覆材を形成する工程と、第１の芯材を覆う第２の層１６ｂを除去する工程と、被覆材をエッチングすることにより、第１の芯材の側面に第１の層１６ａを有する第１の側壁マスクを形成し、第２の芯材の側面に第１及び第２の層１６ａ，１６ｂを有する第２の側壁マスクを形成する工程と、第１及び第２の芯材を除去する工程と、第１及び第２の側壁マスクをマスクとして被加工材１２をエッチングすることにより、異なる幅を持つ第１及び第２のパターンを同時に形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーのための信頼性があり、かつ便利なフォトレジストおよび画像化法を提供する。液浸リソグラフィー処理ならびに非液浸画像化用をはじめとするフォトレジスト上に適用されるオーバーコーティング層組成物を提供する。
【解決手段】基体上のフォトレジスト組成物層、該フォトレジスト層上の、１以上の親水性基を含むコポリマー樹脂を含む有機組成物を含む、コーティングされた基体。 （もっと読む）

【課題】現像ラチチュード、溶解識別性及び耐刷性に優れ、且つ、像様露光後、現像処理に至るまでに経時した場合でも現像性の低下が抑制された赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版、並びに、前記赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を使用した平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、水不溶かつアルカリ可溶性樹脂を含む下層と、赤外線吸収剤及び赤外線露光によりアルカリ水溶液への溶解性が向上するポリウレタンを含む上層と、を順次積層してなる画像形成材料である。該ポリウレタンは、熱や酸により分解して酸基となる官能基を側鎖に有するポリウレタンであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポリマーアロイに配向性の高い相分離構造のパターンを短時間で形成することのできるパターン形成方法及びポリマーアロイ下地材料を提供する。
【解決手段】基板上に自己組織化単分子膜とポリマー膜を積層する工程と、エネルギー線を照射することにより前記ポリマー膜と前記自己組織化単分子膜を化学結合させ、ポリマー表面層を前記自己組織化単分子膜上に形成する工程と、相分離構造のパターンを有するポリマーアロイを前記ポリマー表面層上に形成する工程と、を含むパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比を有する微細なパターン構造を提供することを目的の一とする。
【解決手段】エッチング層上に転写層と熱反応型レジスト層を順に積層する工程と、熱反応型レジスト層の所定の領域に対して熱反応させた後、熱反応させた領域をエッチングすることにより熱反応レジスト層をパターニングする工程と、パターニングされた熱反応レジスト層をマスクとして、転写層に対して第１のドライエッチングを施すことにより転写層をパターニングする工程と、少なくともパターニングされた転写層をマスクとして、エッチング層に対して第２のドライエッチングを施すことによりエッチング層をパターニングする工程とを有し、転写層と熱反応型レジスト層に用いる材料及び第１のドライエッチングと第２のドライエッチングに用いるエッチングガスとして、特定の材料やガスを適用する。 （もっと読む）

【課題】水現像性、乾燥性、画像再現性に優れる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）水分散ラテックス、（Ｂ）ゴム、（Ｃ）界面活性剤、（Ｄ）光重合性モノマー、（Ｅ）光重合開始剤、を含有し、前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分と前記（Ｃ）成分との合計質量に対する前記（Ｃ）成分の質量の比率が０．１〜２０％の範囲内であり、前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との合計質量に対する前記（Ａ）成分の質量の比率が２０〜９０％の範囲内であり、前記（Ｂ）成分が主成分となる分散相のサイズが１０μｍ以下である感光性樹脂組成物とする。 （もっと読む）

【課題】比較的低ｐＨのアルカリ現像液を使用した場合であっても、現像性に優れ、経時的な現像カスの発生が抑制された平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）尿素結合とフェノール性水酸基とを側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）光を吸収して熱を発生する化合物と、を含有する画像記録層を備えるポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、画像露光したポジ型平版印刷版原版を、アニオン性界面活性剤を含有するｐＨ８．５〜１０．８のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を、この順で含む平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、十分な耐刷性を保持しながら、且つ保水性（耐汚れ性）が改善された、アブレーション方式や機上現像方式等の層除去処理を必要としない、熱により相変換する画像形成層を用いた感熱型平版印刷版を提供する事にある。更にはヘッドカスによる印字不良や、スティッキング現象による画像の乱れが改善された感熱型平版印刷版を提供する事を目的とする。
【解決手段】耐水性支持体上に水溶性高分子化合物、熱可塑性樹脂を含有する画像形成層を少なくとも２層有し、耐水性支持体に近い画像形成層（Ａ）の水溶性高分子化合物に対する一般式（１）〜（４）で示される化合物の比率が、耐水性支持体から最も離れた画像形成層（Ｂ）の比率よりも高い事を特徴とする感熱型平版印刷版によって解決される。 （もっと読む）

【課題】形成されるレジストパターンの寸法の制御された増大、低減または維持を可能にする。
【解決手段】電子デバイスを形成する方法は、（ａ）パターン形成される１以上の層を含む半導体基体を提供し；（ｂ）感光性組成物の第１の層を、前記パターン形成される１以上の層上に適用し；（ｃ）前記第１の層を、パターン化されたフォトマスクを通した活性化放射線に露光し；（ｄ）第１の層を現像してレジストパターンを形成し；（ｅ）ハードベークプロセスにおいて前記レジストパターンを熱処理し；（ｆ）前記レジストパターンの表面をアルカリ性にするのに有効な物質で、前記レジストパターンを処理し；（ｇ）感熱性組成物の第２の層を、前記レジストパターンのアルカリ性表面と接触するように適用し；（ｈ）前記感熱性組成物の第２の層を、熱酸発生剤が酸を発生するのに有効な温度に加熱し；並びに（ｉ）加熱された第２の層を現像する；ことを含む。 （もっと読む）

【課題】マイクロエレクトロニクスウェハの製造において下地反射防止コーティング層として使用されうる新規な組成物を提供する。下地反射防止コーティング層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物が特に望まれる。
【解決手段】一形態においては、ジエン／ジエノフィル反応生成物を含む有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物を提供する。別の形態においては、ヒドロキシルナフトエ基、例えば、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ基を含む成分を含む、有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物を提供する。本発明の好ましい組成物は、基体から上塗りフォトレジスト層に戻る露光放射線の反射を低減させ、および／または平坦化、共形もしくはビアフィル層として機能させるのに有用である。 （もっと読む）

【課題】複合印刷版を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、レリーフを形成することのできる単一前駆体とキャリアとから複合印刷版を製造する方法に関する。単一前駆体は、補強エラストマー層を有する単一感光性要素または単一レーザー彫刻可能な印刷要素とすることができる。単一前駆体は、キャリアのサイズの少なくとも７０％のサイズを有する。単一前駆体は、前駆体を、位置合わせマーキングのないキャリア上に凡そ位置合わせすることによりキャリア上に配置される。単一前駆体の精密な位置合わせは、複合版上に位置合わせされた画像を形成するためにコンピュータから生成されたデジタル情報を用いて行われる。本方法は、特にレリーフ印刷用複合印刷版を製造するのに好適であり、特に波形基材のフレキソ印刷用複合印刷版を製造するのに好適である。 （もっと読む）

【課題】従来に比べてより正確且つ精密に基板上で高分子合成することができる酸転写性樹脂組成物、バイオチップの製造方法及びバイオチップを提供する。
【解決手段】本組成物は、（Ａ）重合体と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、を含有する酸転写性樹脂組成物であって、酸発生剤（Ｂ）は、放射線の照射により、スルホニルアニオンを構造中に有する酸を発生させ、スルホニルアニオンの化学構造式中の全原子数に対する炭素原子数の割合が３０％以上である。本方法は、酸解離性基を有する第１化合物を基板に結合して第１膜を形成する工程、第１膜上に、組成物を用いて第２膜を形成する工程、第２膜を露光して、露光された部分に対応する第１膜から保護基を除去する工程、第２膜を除去する工程、第１膜のうち保護基が除去された部位に第２化合物を結合する工程、を備える。 （もっと読む）

【課題】 薄膜でありながら高い遮光性と耐傷性を有し、且つ従来よりも光学濃度のばらつきが小さい感熱マスク層を持つ感光性凸版印刷原版を提供する。
【解決手段】少なくとも（Ａ）支持体、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）感熱マスク層が順次積層されてなる水現像可能な感光性凸版印刷原版であって、（Ｃ）感熱マスク層がカーボンブラックと、分散バインダーで構成され、分散バインダーがブチラール樹脂、カチオン性ポリアミド及びアニオン性高分子化合物とを含有することを特徴とする感光性凸版印刷原版。 （もっと読む）

【課題】良好に所望のパターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】上層ハードマスク層１０３上に下層レジスト層１０４を形成する工程と、下層レジスト層上に下層レジスト層と露光感度の異なる上層レジスト層１０５を形成する工程と、互いの透過光に１８０度の位相差が生じる第１及び第２の透過領域を有し、第１及び第２の透過領域が照射領域内に互いに隣接して設けられたフォトマスク１０を介して下層レジスト層及び上層レジスト層に露光光を照射する工程と、露光光が照射された下層レジスト層及び上層レジスト層の現像を行うことで、上層ハードマスク層が露出した第１の領域と、下層レジスト層が露出した第２の領域と、下層レジスト層及び上層レジスト層が残った第３の領域とを有する構造を形成する工程とを備えることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）