Fターム[2H096LA02]の内容
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プリント配線板及びその製造方法並びに感光性樹脂組成物
【課題】微細なパターンを有し且つ優れた信頼性を有するソルダーレジストを表面に備えるプリント配線板を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】開口を有するソルダーレジストを表面に備えるプリント配線板の製造方法であって、ドライフィルムレジストして機能する第一の感光性樹脂組成物からなる第一の層を形成する工程、ソルダーレジストとして機能する第二の感光性樹脂組成物からなる第二の層を形成する工程とを備えるプリント配線板の製造方法。
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パターン形成方法
【課題】ブロックポリマーを所望の位置に所望の配向でミクロ相分離させるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、第1の表面エネルギーを有しシリコン化合物を含む層の上に、第1の表面エネルギーとは異なる第2の表面エネルギーを有するパターンを形成する工程と、層および第2の表面エネルギーを有するパターンの上に、ブロックポリマーを形成する工程と、ブロックポリマーをミクロ相分離させて、配列した複数のポリマーを含むラメラ構造またはシリンダー構造のいずれかのパターンを形成する工程と、を含む。層上で、ラメラ構造は、層の層面に対して垂直に配向し、シリンダー構造は、層の層面の垂線に平行な軸を有するように配向する。第2の表面エネルギーは、ブロックポリマーを構成する複数のポリマーのそれぞれの表面エネルギーのうちの最大値以上、または、最小値以下である。
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T−ゲート形成
【課題】T−ゲート構造物の改良された形成法の提供。
【解決手段】a)基板を提供する工程、b)基板上に平坦化層を配置する工程、c)UV感受性第一フォトレジストの層を配置する工程、d)マスクを通してUV放射線に露光し、現像することによって、第一フォトレジストをパターン化して、T−ゲートの底部用の第一開口を規定する工程、e)パターンを平坦化層に転写する工程、f)このパターンをUV放射線に対して非感受性にする工程、g)UV感受性第二フォトレジストの層を配置する工程、h)第二フォトレジストをマスクを通してUV放射線に露光し、現像することによって、第二フォトレジストをパターン化して、第一開口の上のT−ゲートのキャップ用の第二開口を規定する工程、i)第一開口および第二開口内に導電性材料を堆積してT−ゲートを形成する工程、を含む方法。
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レジストパターンの形成方法、立体構造の製造方法、及び半導体装置の製造方法
【課題】所望の形状のレジストパターンを高精度に形成することができるレジストパターンの形成方法、立体構造の製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンの形成方法は、支持部10上に、多層レジスト20を形成する工程と、多層レジスト20に第1の波長の第1の光による露光を施す工程と、多層レジスト20に第1の波長と異なる第2の波長の第2の光による露光を施す工程と、露光が施された多層レジスト20に現像処理を施すことによって、レジストパターンを形成する工程とを有し、複数のレジスト層は、第1の光による露光によって第1の現像可溶領域23が形成される第1のレジスト層21と、第2の光による露光によって第2の現像可溶領域24が形成される第2のレジスト層22とを含み、レジストパターンを形成する工程は、多層レジスト20から第1及び第2の現像可溶領域21,22を除去する工程を含む。
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基板洗浄装置
【課題】洗浄液としてのキレート過水液の濃度変化を抑制することが可能であり、その結果、使用するキレート過水液の材料費を低減することが可能な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置1Aは、循環路と、濃度センサ21と、制御部26とを備える。循環路は、キレート過水液100を用いてガラス基板200の洗浄を行なう洗浄槽10と、キレート過水液100を一時的に貯留する貯留槽16と、これら洗浄槽10および貯留槽16を接続する送り管18および戻し管15とを含んでいる。濃度センサ21は、キレート過水液100の濃度を検出するためのものであり、送り管18に設けられている。制御部26は、濃度センサ21によって検出された濃度情報に基づいて所定量の純水を貯留槽16に供給することでキレート過水液100の濃度管理を行なう。
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カラーフィルタ用ガラス基板の再生装置及び方法
【課題】カラーフィルタ用ガラス基板の再生において、ガラス基板の全面研磨を行うことなく、パターン形成の構成物である樹脂などの残渣を削除するカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板上に、少なくとも感光性黒色樹脂からなる遮光層及び感光性着色樹脂層でパターン形成されたカラーフィルタ用ガラス基板の再生方法であって、該パターン形成の不具合部を、水性の洗浄液を用いた前記遮光層及び感光性着色層の樹脂剥離、除去、洗浄手段と、その後の水洗洗浄及び乾燥手段と、さらに、欠陥検査機による残渣の検出手段と検出手段で画像認識された残渣を、レーザー照射で除去する手段を具備してなることを特徴とするカラーフィルタ用ガラス基板の再生装置である。
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親水被膜の形成方法および親水被膜、ならびにインクジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット記録ヘッド
【課題】親水処理の為の専用装置無しにフォトリソグラフィーにより容易に親水被膜を形成する方法及びそれより得られる親水被膜を提供すること。
【解決手段】1)主鎖に酸により分解可能な結合を含むカチオン重合性樹脂と紫外線を含む活性エネルギー線を照射することによりアンチモン酸又はアンチモン酸よりも酸強度が弱い酸を発生する光酸発生剤とを含む被覆樹脂層を基材上に形成する工程と2)該エネルギー線を照射することによりアンチモン酸よりも酸強度が強い酸を発生する光酸発生剤とこの光酸発生剤を保持し工程3で除去可能な保持体とを含む光酸発生剤保持層を該樹脂層に積層する工程と3)該保持層及び該樹脂層に該エネルギー線を露光し現像して該保持層を除去し該樹脂層を硬化させる工程と4)この樹脂層を熱処理することで表面を親水化して親水被膜を形成する工程とを含む親水被膜の形成方法及び親水被膜。
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下層組成物および下層を像形成する方法
【課題】表面極性をリソグラフィ的に変え、自己組織化層によるパターン形成方法の提供。
【解決手段】光酸発生剤を含む感光層の一部分を照射し、発生した酸を隣の下層120aの部分に拡散させる工程。前記下層120aは酸分解可能基、アタッチメント基および官能基を含む酸感受性コポリマーを含む。感光層は下層の表面上に配置されており、拡散させる工程は下層120aおよび感光層を加熱することを含み、下層120a中の酸感受性コポリマーの酸感受性基は拡散した酸と反応して下層の表面に極性領域を形成し、前記極性領域はパターンの形状を有する。感光層は除去され、下層の表面上に自己組織化層150bを形成する工程。前記自己組織化層150bは極性領域に対する親和性を有するブロックと、極性領域に対する親和性が低いブロックとを有するブロックコポリマーを含む。第1もしくは第2のドメインのいずれかを除去し下層の部分を露出させる工程。
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下層組成物および下層を像形成する方法
【課題】表面特性をリソグラフィ的に変え、その上の自己組織化層のパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸分解可能基、アタッチメント基、および官能基を含む酸感受性コポリマーと光酸発生剤とを含む下層220aの部分を照射し、前記酸分解可能基は、下層の照射部分において光酸発生剤から生じた酸と反応して、下層220aの表面に極性領域を形成する。前記極性領域はパターンの形状および寸法を有している。下層220aの表面上に自己組織化層250bを形成する。前記自己組織化層250bはブロックコポリマーを含み、前記ブロックコポリマーは、極性領域に対して親和性を有し、極性領域に対して整列する第1のドメインを形成する第1のブロックと、前記第1のドメインの隣に整列する第2のドメインを形成する第2のブロックとを有している。次に第1のドメインもしくは第2のドメインのいずれかを除去して、下にある下層220aの部分を露出させる。
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リン酸及び/又はリン酸塩の水溶液のパーティクル数経時安定化方法及びレジスト残渣剥離剤組成物
【課題】リン酸及び/又はリン酸塩の水溶液を含有する組成物におけるパーティクル数を経時安定化する方法、及び、リン酸及び/又はリン酸塩の水溶液を含有し、しかもパーティクル数が経時安定化されたレジスト残渣剥離剤組成物を提供する。
【解決手段】液晶パネルの半導体素子回路等の製造に用いられるリン酸及び/又はリン酸塩含有組成物におけるパーティクル数経時安定化方法であって、リン酸及び/又はリン酸塩の水溶液に、マルトールを含有させる、パーティクル数経時安定化方法、及び、パーティクル数経時増加が抑制されたレジスト残渣剥離剤組成物。
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有孔金属箔の製造方法
【課題】金属箔に破れやシワを生じにくくして安定的に有孔金属箔を生産することができる有孔金属箔の製造方法を提供する。
【解決手段】金属箔1の片面に孔部5を有するエッチングレジスト4が形成される。前記金属箔1の他の片面にキャリアフィルム3が形成される。前記金属箔1の前記孔部5から露出する部分にエッチング液が供給されることにより前記孔部5から露出する部分がエッチング液で溶解されて金属箔1に開口部6が形成される有孔金属箔の製造方法に関する。前記キャリアフィルム3が感光性ドライフィルム2により形成される。前記感光性ドライフィルム2が剥離液により除去される。キャリアフィルム3を剥離液により容易に剥離させて除去することができる。
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レジストパターン形成方法及び撮像素子並びに撮像装置
【課題】選択的位置のレジスト膜とその下地との密着性を高め、非選択的位置のレジスト膜の残渣を減少させる。
【解決手段】下地1に第1レジスト材3を塗布し(工程1―1)、所望パターンとは逆パターンで第1レジスト材3をパターニングして前記下地の表面のうち前記所望パターンの表面を露出させ(工程1―2)、該下地の前記露出された表面を疎水化処理し(工程1―3)、該疎水化処理後に下地1から前記パターニングされた第1レジスト材3を除去(工程1―4)して下地1に第2レジスト材2を塗布し、(工程1―5)、第2レジスト材2を前記所望パターンでパターニングする(工程1―6)。
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電子材料の洗浄方法および洗浄システム
【課題】電子材料のレジストの剥離処理に要する時間を短縮し、さらにレジスト剥離後のウエット洗浄によりレジスト残渣を短時間に確実に除去し得る電子材料洗浄システムを提供する。
【解決手段】電子材料洗浄システムは、薬液洗浄手段1とウエット洗浄手段2と枚葉式洗浄装置3とを備える。薬液洗浄手段1は、機能性薬液貯留槽6と、この機能性薬液貯留槽6に濃硫酸電解ライン7を介して接続した電解反応装置8とを有する。この機能性薬液貯留槽6は、機能性薬液供給ライン10を介して枚葉式洗浄装置3に機能性薬液W1を供給可能となっている。ウエット洗浄手段2は、純水の供給ライン21と窒素ガス源に連通した窒素ガス供給ライン22と、これら純水供給ライン21及び窒素ガス供給ライン22がそれぞれ接続した内部混合型の二流体ノズル23とを備える。二流体ノズル23の先端から窒素ガスと超純水とから生成される液滴W2を噴射可能となっている。
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イオン注入フォトレジストを除去するための方法
【課題】イオン注入フォトレジストを剥離する際に有用である、少なくとも1つの酸性官能基を含有する水溶性ポリマーおよび少なくとも1つのランタニド金属含有酸化剤の水溶液を含むスピンオン配合物を提供する。
【解決手段】このスピンオン配合物をイオン注入フォトレジストに塗布し、ベークして、改質フォトレジストを形成する。改質フォトレジストは、水性、酸性、または有機溶剤に溶ける。このため、上述の溶剤の1つを用いて、イオン注入フォトレジストおよび存在し得るいずれかのフォトレジスト残留物を完全に剥離することができる。改質フォトレジストを剥離した後、水洗いステップを行うことができる。
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カラーフィルタの製造方法及び製造装置
【課題】オーバーコート層4を形成する樹脂として熱硬化性樹脂を用いた塗布膜が品質基準に達しない場合、塗布膜のみを剥離し、ブラックマトリックス2及び着色画素3を活用してカラーフィルタを廉価に製造するカラーフィルタの製造方法、製造装置。
【解決手段】カルボキシル基が露出していない熱硬化性樹脂を用いた塗布膜の品質が基準に達しない際、該塗布膜を軟化点以下の温度で微加熱してカルボキシル基を塗布膜表面に露出させ、アルカリ液による中和、溶解処理を施して塗布膜のみを剥離し、ブラックマトリックス、着色画素が順次に形成された状態のガラス基板1の再生を行う。
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オゾン水処理方法及びオゾン水処理装置
【課題】被処理物の処理を悪影響がなく、オゾン気泡が容易に脱気しないことにより、充分な処理効果を得ることのできるオゾン水処理方法及びオゾン水処理装置を提供する。
【解決手段】添加物を含めない方法によって生成された超微細粒径のオゾン気泡を含有するオゾン水を用いて被処理物を処理するオゾン水処理方法及びオゾン水処理装置で、特に、超微細粒径のオゾン気泡を含有するオゾン水を加熱して被処理物の処理効率を向上させる。
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樹脂組成物、バイオチップの製造方法及びバイオチップ
【課題】露光により発生した酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成でき、露光量が少ない場合であっても基板上に多種類の高分子を高密度、かつ安定して正確に形成できるバイオチップの製造に適した樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】(A)重合体と、(B)光の作用によりスルホニルアニオンが発生する感放射線性酸発生剤であって、該スルホニルアニオンが光学純度10%ee以上のビシクロ化合物である感放射線性酸発生剤とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。
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基板を処理する方法および装置
基板を処理する方法及び装置において、レジスト層は基板からプロセス溶液をスプレーすることによって剥離される。基板には、先ず、主剥離モジュールにおいてプロセス溶液がスプレーされ、その後、副剥離モジュールにおいてスプレーされ、プロセス溶液は主剥離モジュールと副剥離モジュールの下の容器に集められる。少なくとも一つの容器は個々のモジュールに設けられる。プロセス溶液が主剥離モジュール内の二つの容器に集められ、先ず、壁によって第1の容器と分離した第2の容器へ直接に送られる。壁はプロセス溶液の液面より低い領域で液体が通過可能に形成されている。泡のないプロセス溶液は第1の容器から回収され、プロセス溶液は循環して再び基板を濡らすプロセスに戻る。
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光重合性樹脂組成物及びその用途
【課題】本発明は、現像後解像性および密着性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物が発生しない光重合性樹脂組成物、及び該組成物を含有する光重合性樹脂層を有する光重合性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターン等の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、特定のモノマーを共重合成分として50質量%以上含有し、かつ、重量平均分子量が5000〜500000であるバインダー用樹脂:10〜90質量%、(b)光重合性不飽和化合物:5〜70質量%、(c)光重合開始剤0.01〜20質量%を含有してなる光重合性樹脂組成物であって、該(b)光重合性不飽和化合物が、特定の化合物を含有することを特徴とする光重合性樹脂組成物。
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三次元表面パターンを有するユニットを形成する方法および同方法の使用
【課題】三次元表面パターンを有するユニットを形成する方法及びこの方法の使用の提供。
【解決手段】ベース層3上に、第1処理ステップにてフォトレジストを適用。第2処理ステップにて、予め定められたマスキング露光13をフォトレジスト層9に施す。第3処理ステップにて、フォトレジスト層9の一部を現像除去し、犠牲層領域25を有する初期表面パターンを得る。第4処理ステップにて、初期表面パターンを覆うコーティング29、31を、好ましくは交代層システムとして、特にスパッタリング法で適用。第5処理ステップにて、犠牲層領域25を不安定化させるため初期表面パターンにエネルギーを適用。第6処理ステップにて、初期表面パターンに予め定められた処理温度にて高圧液体ジェット33を作用させ、それにて犠牲層領域25を覆うコーティング29の少なくとも一部を最終表面パターンを得るために機械的に除去、又は少なくともこじ開ける。
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