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Fターム[2H096LA11]の内容

感光性樹脂・フォトレジストの処理 (33,738) | 補助処理 (1,197) | 支持体、保護層の除去、剥離 (41)

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【課題】金属箔に破れやシワを生じにくくして安定的に有孔金属箔を生産することができる有孔金属箔の製造方法を提供する。
【解決手段】金属箔1の片面に孔部5を有するエッチングレジスト4が形成される。前記金属箔1の他の片面にキャリアフィルム3が形成される。前記金属箔1の前記孔部5から露出する部分にエッチング液が供給されることにより前記孔部5から露出する部分がエッチング液で溶解されて金属箔1に開口部6が形成される有孔金属箔の製造方法に関する。前記キャリアフィルム3が感光性ドライフィルム2により形成される。前記感光性ドライフィルム2が剥離液により除去される。キャリアフィルム3を剥離液により容易に剥離させて除去することができる。 (もっと読む)


【課題】保護層に対して適度な剥離性と適度な密着性とを発揮するカバーフィルム、およびカバーフィルムと保護層との間に適度な剥離性と適度な密着性とを兼ね備えた凸版印刷用の感光性樹脂構成体を提供すること。
【解決手段】表面に樹脂層42を有し、該樹脂層が、酸変性成分1〜10質量%の酸変性ポリオレフィン樹脂と、架橋剤および/またはポリビニルアルコールとを含有し、架橋剤がカルボジイミド化合物および/またはオキサゾリン化合物にて構成され、酸変性ポリオレフィン樹脂100重量部に対する架橋剤の含有量X(質量部)と、ポリビニルアルコールの含有量Y(質量部)とが以下の関係式;1≦X≦50かつ0≦Y≦1000;または0≦X≦50かつ5≦Y≦1000;の少なくとも一方を満たすカバーフィルム4。ベースフィルム1、感光性樹脂組成物層2、保護層3、および上記カバーフィルム4の順に積層された構造を有する凸版印刷用感光性樹脂構成体。 (もっと読む)


【課題】流路などの微小セル構造を積層形成するための10μm以下の大きさの複数のマイクロパターン部材を有するマイクロパターン複合材であって、各層の位置合わせを容易とし、確実に接着することを可能とするマイクロパターン形成用材料を提供する。
【解決手段】マイクロパターン部材5Aを形成するためのマイクロパターン形成用材料であって、第1のトリガーが部分的に与えられることにより部分的に硬化し、かつ部分的に硬化した部分以外の部分が除去された後に、第1のトリガーとは異なる第2のトリガーが与えられることにより硬化し、かつ接着性を発現するマイクロパターン形成用材料。 (もっと読む)


【課題】高感度で、セーフライト適性に優れ、現像時に現像機中の現像浴にカスが発生しにくい平版印刷版原版をpH2.0〜10.0の水性現像液で現像する製版方法、およびこの方法に用いる平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】(A)特定の増感色素、(B)開始剤化合物、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法およびこの方法に用いる平版印刷版原版。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤の大気への放出を抑制し、環境汚染の防止に寄与するフッ素系溶剤の回収に用いられるフッ素系捕捉溶剤を提供すること。
【解決手段】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤を回収するためのフッ素系捕捉溶剤であって、前記フッ素系溶剤に対して相溶性を有し、その沸点が前記フッ素系溶剤の沸点と同等あるいはそれ以上であるフッ素系捕捉溶剤である。例えば、フルオロアルキルアミン、炭素原子数4〜10のフッ素化炭化水素、及び水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも1以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物の中から選ばれる少なくとも1種であるフッ素系捕捉溶剤を用いることができる。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー工程で用いられる各種塗膜を形成するための材料や複数の洗浄対象の異なる洗浄用途を網羅的にカバーし得るという汎用性を有し、短時間で効率的に被洗浄物を洗浄除去することができる洗浄性能、短時間で迅速に乾燥する乾燥性能、さらには続く後工程に利用される残膜の形状に悪影響を与えないなどのリソグラフィー用洗浄液としての基本特性を有し、さらには、環境や人体に悪影響を及ぼすことがなく引火点か低いなどの安全性を兼ね備え、安価であり、安定供給が可能であるなどの諸要求特性を有するリソグラフィー用洗浄液を提供する。
【解決手段】(A)グリコール系有機溶剤、(B)ラクトン系有機溶剤、及び(C)アルコキシベンゼン及び芳香族アルコールの中から選ばれる少なくとも1種の有機溶剤を含有するリソグラフィー用洗浄液を用いる。 (もっと読む)


【解決手段】下記一般式(1)で示される部分構造を有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト保護膜材料。


(式中、R0は水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜8のアルキル基又はアルキレン基であり、R1は炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基又はアルキレン基で、少なくとも1個以上のフッ素原子を含む。)
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液(アルカリ現像液)に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。 (もっと読む)


【課題】 高感度な光重合性組成物を用い、プレートセッター通版適性に優れ、保存安定性が良く、感度および耐刷性に優れた感光性平版印刷版積層体を提供すること。
【解決手段】 親水性支持体上に感光層及び保護層を有し、該保護層上に紙を主成分とする合紙を重ねてなり、該感光層がエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、高分子バインダー及びヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有し、かつ該保護層の表面と該合紙との動摩擦係数が0.2〜0.7の範囲にあることを特徴とする感光性平版印刷版積層体。 (もっと読む)


【課題】基板上の液膜を介して露光する液浸露光において、レジストパターンに欠陥が発生することを抑制する。
【解決手段】 レジスト膜上にレジスト膜より親水性の保護膜を形成する(ST105)。更にこの表面をヘキサメチルジシラザンの雰囲気で80度で加熱しつつ疎水化する(ST106)。レジスト膜が形成された基板を、パターンが形成されたレチクルおよび投影光学系を具備する露光装置に搬送する(ST107)。前記レジスト膜中の潜像を形成するために、液浸露光を行う(ST108)。露光後に基板を露光装置から搬出し、保護膜表面を10ppm程度のオゾン水に30秒ほど表面を晒して保護膜表面をエッチングして膜厚を減らしつつ親水化する(ST110)。前記潜像が形成されたレジスト膜を加熱する(ST112)。保護膜を剥離した後に前記レジスト膜を現像する(ST114)。 (もっと読む)


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