【課題】金属イオン不純物濃度が低く、半導体リソグラフィーに好適に用いることができる、半導体リソグラフィー用重合体または重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体リソグラフィー用重合体、または該重合体を含む重合体溶液の製造方法において、原料または生成物と接触する容器として、該容器に対して１０体積％のメタノールで還流した時に、該還流後のメタノール中の各金属イオン不純物濃度が１０ｐｐｂ以下である容器を用いる工程を有する、半導体リソグラフィー用重合体または該重合体を含む重合体溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送手段２０と、被処理基板Ｇに対する露光処理空間を形成するチャンバ８と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Ｌを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段３０と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、電子線レジスト組成物の高精度な感度管理をするための感度検査方法を用いた、高精度に管理されたレジスト組成物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 レジスト組成物用材料と溶剤からなるレジスト組成物原体を調製し、該レジスト組成物原体を一部採取し、該採取したレジスト組成物原体を用いて試験用基板上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜にパターン照射を含むパターン形成処理を行ってレジストパターンを形成し、形成された該レジストパターンのサイズと前記パターン照射時の照射エネルギー量に基づいて前記レジスト組成物原体の感度を検定した後、該感度検定結果を基に前記レジスト組成物原体に加える追加材料の量を調整して前記レジスト組成物原体の感度調整を行う化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、前記パターン照射を電子線ビーム照射により行うことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】再生レジスト中の固形分濃度を加熱残分法によらずに迅速に精度よく決定する手段を提供し、その上で膜厚のバラツキが小さくなるようにレジスト粘度を調整する手段を提供することである
【解決手段】回収した使用済みレジストの粘度を、溶剤を添加して目標とする粘度よりは高く設定された所定の粘度まで下げる工程、希釈したレジストの固形分濃度を、予め求めてある屈折率と固形分濃度の関係を示す検量線に基づいて算出する工程、固形分濃度が所定の値になるまで希釈したレジストに水を添加する工程、屈折率の測定と粘度の測定を行いつつ、溶剤と水で希釈したレジストが目標の粘度と固形分濃度になるまでさらに溶剤を添加する工程、とを有することを特徴とする使用済みレジストの調整方法及びその装置である。 （もっと読む）

【課題】ローディング効果により現像後にレジストに形成されるレジストパターンと設計上のパターンとのズレを軽減すること。
【解決手段】現像液により溶解される前記レジスト膜の反応表面に形成された複数の凹上のパターン形状における単位面積当たりの現像液の浸透流を示すフラックスを、前記パターン形状のサイズに応じて前記レジスト膜の反応表面の前記フラックスが変わることを示す関係式に従って、前記パターン形状の前記基板の面方向の長さ、および前記パターン形状の前記基板の厚さ方向の長さに基づき求め、前記フラックスに基づき、前記レジスト膜の反応表面の現像液の濃度を求め、前記複数のパターン形状が形成されている前記レジスト膜に対して前記マスクパターンが描画されて現像された場合、前記レジストに形成されるレジストパターンの形状を前記現像液の濃度に基づき求めることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザ描画に適したレジスト感度曲線を作成する方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂１２へレーザ光を照射して微細形状を得る微細形状の製造で用いるレジスト感度曲線の作成方法であり、レジスト感度曲線を、（１）複数の感度測定領域を隣接させた試験領域を感光性樹脂１２へ設定する工程、（２）複数の感度測定領域毎に異なる光量となるように、レーザ光の光量を変調させて露光する工程、（３）感光性樹脂１２を現像して得られた試験領域を用いてレジスト感度曲線を取得する工程、によってレジスト感度曲線の作成する。 （もっと読む）

【課題】所望の２次元形状パラメータを有したパターンを基板上に形成可能な露光量を正確に決定することができる露光量決定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】マスク上に形成されるマスクパターンと所望のマスクパターンとの間の二次元形状パラメータのずれ量分布を、マスクパターンマップｍ１として取得するマスクパターンマップ取得ステップと、マスクをショット露光してウェハ上にパターンを形成した場合に形成されるウェハ上パターンと所望のウェハ上パターンとの間の二次元形状パラメータのずれ量が所定の範囲内に収まるよう、マスクパターンマップｍ１に基づいて、露光ショット内での位置毎に露光量を決定する露光量決定ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 塗布装置や器具に付着し乾燥した付着物を容易に除去することができ、異物欠陥を生じにくい感光性着色組成物の製造方法およびそれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】 平均粒径１μｍ以下の顔料と、感光性樹脂成分と、分散剤と、溶剤とを少なくとも含有するカラーフィルタ用の感光性着色組成物であって、前記感光性着色組成物を塗布し乾燥した後、再溶解溶剤に浸漬させたとき、再溶解した前記感光性着色組成物の顔料の平均粒径が、前記感光性着色組成物の顔料の平均粒径の１０倍以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】フォトレジスト体積内における酸発生剤およびクエンチャの個数を判定するステップと、フォトレジスト体積により吸収された光子の個数を判定するステップと、酸に変換された酸発生剤の個数を判定するステップと、フォトレジスト体積内における酸とクエンチャとの反応の回数を判定するステップと、フォトレジスト体積の現像を計算するステップと、フォトレジスト体積の現像およびフォトレジストプロファイルの寸法特性の計測により形成された３次元的にシミュレーションされた走査型電子顕微鏡画像をプロセッサを用いて生成するステップとによる、フォトレジストプロファイルの寸法特性を計測するための、プロセッサに基づく方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンを高精度で形成することのできる半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置を提供する。
【解決手段】基板に第１パターンを形成する工程と、第１パターンの状態を計測する計測工程と、第１パターンを化学的に処理してリソグラフィーに対する耐性を付与するフリージング工程であって、計測工程の計測結果に基づいて処理条件を変更するフリージング工程と、基板に第２パターンを形成する工程とを具備し、フリージング工程は、処理液を塗布する工程と、第１加熱工程と、不要な処理液を除去するストリッピング工程と、第２加熱工程と、を具備し、変更する処理条件は、第１加熱工程の加熱温度、ストリッピング工程の処理時間、第２加熱工程の加熱温度のうちの少なくともいずれか１つである。 （もっと読む）

【課題】密着性を有する細線パターンを、短い露光時間で形成することができる感光性材料のパターン形成方法の提供。
【解決手段】本発明の感光性材料のパターン形成方法は、基体上に形成された感光性材料からなる感光層に対し、該感光層の前記基体と反対側の表面を基準として、該感光層の厚みの１倍〜３倍長さだけ前記基体側に露光光の焦点が位置するようにして露光光を照射することにより、前記基体上にパターンを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】架橋性官能基を有するポリアリーレン樹脂を含有する感光性組成物を使用したフォトリソグラフィ方法において、感度、解像度、パターン形状、残膜率などの現像性を向上させることができる現像液組成物を提供する。
【解決手段】架橋性官能基を有するポリアリーレン樹脂を含有する感光性組成物を使用したフォトリソグラフィ方法において、前記ポリアリーレン樹脂に対する良溶媒および貧溶媒を含有する現像液組成物を用いて現像を行う。 （もっと読む）

【課題】感光膜の感度にばらつきがあったとしても、所望のリソグラフィ尤度を確保し、パターンカテゴリ間の寸法差を抑えるとともに、パターン寸法を高精度に制御可能な現像方法、及びフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】この現像方法は、基板上に形成され、露光された感光膜を所定の膜厚まで現像する第１の現像処理を行う工程と、前記第１の現像処理によって現像された前記感光膜の前記所定の膜厚と前記感光膜の露光量から前記感光膜の感度情報を取得する工程と、前記感度情報から第２の現像処理を行った後のパターン寸法を予測し、前記第２の現像処理における現像条件の第１の許容範囲を決定する工程と、前記第１の許容範囲と、複数種のパターン間における現像処理後のパターン寸法のばらつき量から決定される前記第２の現像処理における現像条件の第２の許容範囲とを共に満たすように前記第２の現像処理における現像条件を決定する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】パターン付き基板全体にわたるクリティカルディメンジョン（ＣＤ）のばらつきなどを軽減し、あるいは除去することができるリソグラフィ装置および／または方法を提供する。
【解決手段】化学増幅型レジストがコーティングされた試験基板上の異なるロケーションについて、露光後ベークステップの中の、時間の関数としての温度を得るステップが含まれている。化学増幅型レジスト上の放射線量とレジスト層中に生成される促進剤の露光後濃度との間の関係が取得される。ＣＤを促進剤の露光後濃度に関連付ける、かつロケーション全体にわたる、時間の関数としての温度に関連付けるモデルを使用して、指定されたＣＤを得るための放射線量を計算する。基板上の異なるロケーション毎に計算された放射線量を使用して、試験基板と同一基板をパターニングする。この方法を使用して、パターン付き基板全体にわたるＣＤの均一性を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】 側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成したときのフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、基板上にフォトレジスト膜を成膜し、該フォトレジスト膜を高エネルギー線で露光し、現像液を用いて現像し、フォトレジストパターンを形成した後、該フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する方法により基板上にパターンを形成するパターン形成方法において、少なくとも、前記フォトレジストパターンは、膜強度としてのハードネスが０．４ＧＰａ以上またはヤングモジュラスが９．２ＧＰａ以上のものを形成し、該フォトレジストパターンの側壁に、前記スペーサーとして珪素酸化膜を形成することによって基板にパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、平版印刷版材料に対して像様露光後に平版印刷版を得るのに、現像処理が必要な平版印刷版材料と、不要な平版印刷版材料とを、同一の露光、現像装置で容易に同時に並行して取り扱い処理して平版印刷版を得ることができる平版印刷版の製版装置、平版印刷版の製版方法、および平版印刷版材料の搬送振り分け装置を提供することにある。
【解決手段】平版印刷版材料に対して、露光する露光手段と、露光後の該平版印刷版材料の種類を現像が必要なまたは不要な種類に判別する判別手段と、該判別手段の判別結果に対応してそれぞれ該平版印刷版材料の搬送先を現像が必要な平版印刷版材料用の現像処理手段または現像が不要な平版印刷版材料用のストッカに搬送振り分ける搬送振り分け手段、および該現像が必要な平版印刷版材料用の現像処理手段を有することを特徴とする平版印刷版の製版装置。 （もっと読む）

【課題】従来の異物除去率を維持し、ろ過ハウジング内に残留するろ過用原溶液が少なく、高い生産性を有し、フィルタカートリッジの交換が容易である電子材料用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】３つの第一連通口を有する第一固定部材２１と、相互に平行に配置され、第一連通口に、長手方向の一方の端部が連結された３つのろ過ユニット４０と、を備え、ろ過ユニット４０は、長手方向の少なくとも一方の端面に貫通孔が形成された略柱状のろ過ハウジング４１と、ろ過ハウジング４１内に配置され、フィルタを有する略柱状のフィルタカートリッジ４２と、をそれぞれ一つずつ備える電子材料用組成物用のろ過器２０。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクのレジスト膜の感度を適切に評価する。
【解決手段】基板１２上面に転写パターンを形成するための薄膜１４を成膜し、薄膜１４の上面に化学増幅型レジストのレジスト膜１６を塗布したレジスト膜付マスクブランク１０であって、レジスト膜１６は、紫外線光の露光によって透過率が変化する化学増幅型レジストからなり、薄膜１４の転写パターンを形成するための領域以外の領域に塗布されているレジスト膜１６に対し、複数箇所で紫外線光を露光して紫外線光に対する反射率を変化させている。 （もっと読む）

【課題】半導体製造に用いられるレジストパターンやフォトマスクの遮光膜パターンなどの微細パターンと下地基板との密着性の評価において、微細パターンにせん断などを生じさせずに定量的に密着性を測定する密着性評価方法、および評価装置を提供する。
【解決手段】原子間力顕微鏡のカンチレバーに設けられた探針を基板表面から離して走査し、前記基板表面に形成されたパターンの密着性を計測するパターンの密着性評価方法において、前記探針が、前記探針を前記カンチレバーに取り付ける基部と前記パターンと接触する先端部とで構成され、前記基部と先端部とは頸部を形成し、前記基部は、前記カンチレバーから前記頸部に向かう垂直方向において連続した傾斜面をなし、前記先端部は、前記パターンの側面と接触する側の最大幅が前記頸部の幅と同じか又は大きい形状を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥発生度合を樹脂原料段階で評価可能な樹脂の評価方法、および、化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記に示す（１）〜（４）の手順による、感放射線性樹脂組成物における現像欠陥の発生度合を評価することを特徴とする評価方法である；
（１）基板上に被評価対象の感放射線性樹脂組成物の膜を形成する手順、
（２）前記膜を露光後焼成する手順、
（３）前記露光後焼成した膜を現像液に溶解し、所定濃度の現像液溶液とする手順、
（４）動的光散乱法により、前記現像液溶液中の流体力学的半径を測定する手順。 （もっと読む）