【課題】塗布欠陥及びパターン欠陥等の欠陥の発生を減少させることのできるリソグラフィー用レジスト組成物を提供する。
【解決手段】リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法であって、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、コロイダルゾルを前記フィルター３上流から通過させてフィルターにコロイド粒子を吸着させた後、該フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることにより、該リソグラフィー用レジスト組成物中の微小粒子を除去するリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。符号１、６、７はタンク、２、４は送液ポンプ、３はフィルター容器、５は充填容器、８はドレイン、９は排出弁、１０は二次側弁を表す。 （もっと読む）

【課題】塗布欠陥及びパターン欠陥等の欠陥の発生を減少させることのできるリソグラフィー用レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法であって、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、前記フィルターが設置されている容器内を減圧下に保持した後、前記フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることを特徴とするリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】再生レジスト中の固形分濃度を加熱残分法によらずに迅速に精度よく決定する手段を提供し、その上で膜厚のバラツキが小さくなるようにレジスト粘度を調整する手段を提供することである
【解決手段】回収した使用済みレジストの粘度を、溶剤を添加して目標とする粘度よりは高く設定された所定の粘度まで下げる工程、希釈したレジストの固形分濃度を、予め求めてある屈折率と固形分濃度の関係を示す検量線に基づいて算出する工程、固形分濃度が所定の値になるまで希釈したレジストに水を添加する工程、屈折率の測定と粘度の測定を行いつつ、溶剤と水で希釈したレジストが目標の粘度と固形分濃度になるまでさらに溶剤を添加する工程、とを有することを特徴とする使用済みレジストの調整方法及びその装置である。 （もっと読む）

【課題】レジスト塗布時に基板の貫通孔に入り込んだレジストを容易に除去する。
【解決手段】貫通孔３を有する基板４の表面にレジストを塗布する方法であって、レジスト吸収部材１により貫通孔３を塞いだ状態で、基板４の表面にレジストを塗布することを特徴とするレジスト塗布方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子といった微細なパターニングを必要とする回路パターンの印刷に適用する感光性樹脂よりなり、版未洗浄部の存在による残留有機物の混入（コンタミ）や異物の未除去での影響を改善し、印刷特性の優れた印刷用凸版の製造方法を提供する。
【解決手段】凸版印刷法に用いられる印刷用凸版の製造方法であって、版材基材上に光硬化性の感光性樹脂の凸パターンを形成する工程と、前記凸パターン形成後の前記感光性樹脂上の全面に光触媒機能を有する層を少なくとも1層以上形成する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】使用済みの平版印刷版を再利用する際に、アルミニウム純度や微量金属含有量の品質を満たした平版印刷版用アルミニウム基体を、副成される酸化アルミニウムの量が低減され、高い収率で得ることができ、地球温暖化の原因となるＣＯ_２発生量が大幅に削減された平版印刷版用アルミニウム基体の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム基体に、粗面化処理、及び、陽極酸化処理を順次施した平版印刷版用支持体上に、アクリロニトリルを共重合成分として有するビニルコポリマーを含有する画像記録層を備える使用済みの平版印刷版を含むアルミニウム基体用再生材料を準備し、この再生材料により再生地金を得て、再生材地金に必要な量の新アルミニウム地金及びＣｕを含む微量金属母合金を加えて新たなアルミニウム基体を作製する平版印刷版用アルミニウム基体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗槽に混入した現像液の成分が、循環して基板に汚れを発生させない現像装置を提供する。
【解決手段】水置換工程の水置換槽Ｓ４へ水洗水を供給する循環タンクＳＴ１に、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器４０を備え、測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水Ｄ３及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整する。現像液成分による汚染度として水洗水の導電率を用いる。循環タンクとして２基の循環タンクを並列に設け、一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が公差外となった際に、他方の循環タンクに切り換えること。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンを高精度で形成することのできる半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置を提供する。
【解決手段】基板に第１パターンを形成する工程と、第１パターンの状態を計測する計測工程と、第１パターンを化学的に処理してリソグラフィーに対する耐性を付与するフリージング工程であって、計測工程の計測結果に基づいて処理条件を変更するフリージング工程と、基板に第２パターンを形成する工程とを具備し、フリージング工程は、処理液を塗布する工程と、第１加熱工程と、不要な処理液を除去するストリッピング工程と、第２加熱工程と、を具備し、変更する処理条件は、第１加熱工程の加熱温度、ストリッピング工程の処理時間、第２加熱工程の加熱温度のうちの少なくともいずれか１つである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、洗浄特性が著しく向上しており、現像装置に悪影響を及ぼすことなく、平版印刷版原版の現像装置内の付着堆積物を、非常に効率よく除去することができる現像装置用洗浄組成物を提供する。
【解決手段】平版印刷版原版の現像装置用洗浄組成物であって、（ａ）酸化剤および（ｂ）活性化剤を含むことを特徴とする洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】異物を効率よく除去することができ、混入異物の極めて少ない感放射線性樹脂組成物を得ることが可能な感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物の予備組成物を、フィルター部分で、フィルター有効濾過面積当たりの濾過量を３０Ｌ／ｍ^２以下に保持して２回以上繰り返し濾過する工程を含む感放射線性樹脂組成物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】レジストの溶剤とリンス液が異なる成分であってもレジストを再利用できる再生レジストの製造方法を提供すること。
【解決手段】使用前レジストを塗布工程Ｓ１０で塗布した後に、残余の使用済レジストを回収し、該使用済レジストから再生レジストを製造する方法であって、使用前レジストの溶剤が主としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）であり、塗布後の使用前レジストに、例えばＰＧＭＥのように、ＰＧＭＥＡより低沸点の他の溶剤を含むリンス液を添加して使用済レジストを得るリンス工程Ｓ２０と、この使用済レジストの回収工程Ｓ３０後に、他の溶剤を所定の濃度以下になるように分留する分留工程Ｓ４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】銀錯塩拡散転写法を利用する平版印刷版の処理方法において、画像銀の親油性を損なうことなく非画像部の親水性を向上させ、特に非画像部のインキ汚れや、ブランケット汚れを改善する製版方法を提供すること及び上記製版方法において、使用される処理液が長期にわたる保存にも安定である処理液を提供すること。
【解決手段】ハロゲン化銀乳剤層の上層に物理現像核層を有する銀塩拡散転写法を利用した平版印刷版の処理方法において、現像処理後に下記一般式１で表される化合物の存在下で処理することを特徴とする平版印刷版の処理方法及びそれに用いる版面処理液。
【化１】
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【課題】高感度の光重合系平版印刷版を自動現像機により長期間にわたり現像処理しても、発生した現像かすにより生じた付着物を、簡易にかつ自動現像機内のパーツを損傷することなく除去することのできる自動現像機の現像槽の洗浄液を提供する。
【解決手段】光重合系平版印刷版用自動現像機の現像槽の洗浄液であって、該洗浄液が下記一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする洗浄液。


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【課題】異物や汚染物の混入を十分に低減することができ、且つ異物、汚染量の低減された樹脂組成物溶液を効率よく得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】内部に収容された液に非接触で液の液面を測定する非接触タイプの液面計４０を備えるタンク１０を用いて樹脂組成物溶液を製造する。液面計４０は、非接触で液面位置を検出する検出手段として、液の重量の測定、マイクロ波の使用、レーザーの使用、超音波の使用、及び放射線の使用のいずれかを用いたものである。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクトの発生を抑制できるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。また、異物経時特性（保存安定性）に優れるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。そして、さらに好ましくは、処理前後で感度やレジストパターンサイズの変化が起こりにくいホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、有機溶剤（Ｃ）とを含むホトレジスト組成物を、臨界表面張力が７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上の第１の膜を備えた第１のフィルタを通過させる工程を有し、且つ前記第１のフィルタを通過させる工程の前後の一方又は両方に、さらに、該ホトレジスト組成物を、ポリオレフィン樹脂またはフッ素樹脂製の第２の膜を備えた第２のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性に優れており、薬液処理に対するマスキング効果を発揮することができ、しかも剥離後の被着体への粘着剤の残渣のないマスキング用剥離性粘着テープを提供すること。
【解決手段】本発明の薬液処理方法は、送り出しロール及び巻き取りロールを用いたロール・ツー・ロール方式でフィルム型積層体に薬液処理を行う薬液処理方法であって、薬液処理面を有するフィルム型積層体の前記薬液処理面と反対側の面にサポート用テープを貼着した状態で前記薬液処理面に薬液処理を行う工程と、前記薬液処理後に前記サポート用テープを剥離する工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】樹脂組成物溶液中に含まれるディフェクト要因となり得る微粒子を効果的に除去できディフェクトの発生を抑制することができる樹脂組成物溶液の製造方法、及び製造装置を提供する。
【解決手段】樹脂組成物溶液を収容するタンク１０に収容された樹脂組成物溶液を、タンク１０から排出し、送液手段及びろ過手段を有する循環経路にて循環ろ過させる樹脂組成物溶液の製造方法である。送液手段として、ダイアフラムポンプ１３を使用し、さらに、ダイアフラムポンプ１３の下流のポンプ吐出ライン２８ｐに第１のダンパー３０を有する循環経路にて循環ろ過を行う製造方法である。ダイアフラムポンプ１３に、第２のダンパー１３ｃを備えることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板の疎水化処理を簡便かつ効率的に実現可能な表面処理液及びその表面処理液を用いた疎水化処理方法、並びに疎水化された基板を提供する。
【解決手段】シリル化剤と、炭化水素系非極性溶剤とを含有する表面処理液を用いて、基板の疎水化処理を行う。シリル化剤としてはＮ，Ｎ−ジメチルアミノトリメチルシラン（ＤＭＡＴＭＳ）が好ましく、炭化水素系非極性溶剤としては炭素数６〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状の炭化水素系溶剤、又はテルペン系溶剤が好ましい。 （もっと読む）

【課題】基体に塗布した際の膜厚が均一でピンホールやハジキ等の面状欠陥が発生しにくく、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、高精細な永久パターンを効率良く形成可能な感光性フィルム、感光性フィルムの製造方法、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性フィルムの製造方法は、i）感光性基およびアルカリ現像性を付与するための酸基を導入した化合物、ii）重合性化合物、iii）光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を含有する塗布液を調製する塗布液調製工程と、前記塗布液に脱泡処理を施す脱泡工程と、前記脱泡工程後に、前記塗布液を支持体に塗布する塗布工程と、前記塗布液を乾燥させて前記支持体上に感光層を形成する乾燥工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）