【課題】例えば、１つ又は複数の放射ビームの波長の公称値からのずれによってもたらされる１つ又は複数の問題を緩和し又は最小化することができるリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを基板に投影する投影系を有しており、複数の放射ビームは、第１波長範囲内の放射から形成される第１の１つ又は複数の放射ビームのグループと、第１波長範囲と異なる第２波長範囲内の放射から形成される第２の１つ又は複数の放射ビームのグループと、を備える。また、本装置は、第１のグループの１つ又は複数の放射ビームが第２のグループの１つ又は複数の放射ビームと異なる角度で分散素子に入射し、かつ分散素子から出力される第１及び第２のグループの１つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備える。 （もっと読む）

【課題】配線基板の外周部に異物の原因となるガラス繊維や樹脂を露出させない。
【解決手段】配線基板用パネルＡを載置するテーブル１と、配線基板用パネルＡの外周部を部分的にテーブル１上に押圧して固定する押圧板２と、配線基板用パネルＡ上に露光用のレーザ光を照射するレーザ照射装置３とを具備して成る露光装置１０であって、押圧板２は、レーザ光を透過する透明材料から成る。押圧板２の下の領域を露光することにより、配線基板用パネルＡの外周部に導体層１２を残すことができる。これにより、配線基板用パネルＡの外周部に異物の原因となるガラス繊維や樹脂を露出させない。 （もっと読む）

【目的】マルチビーム形成アパーチャによって散乱した荷電粒子によるブランキング偏向器アレイへの帯電とコンタミ成長を抑制する装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、荷電粒子ビームを放出する電子銃２０１と、マルチビームを形成するマルチビーム形成アパーチャ部材２０３と、マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーが配置されたブランキングプレート２０４と、マルチビーム形成アパーチャ部材２０３とブランキングプレート２０４との間に配置された、電磁レンズ２１２，２１４と、電磁レンズ２１２，２１４の間であってマルチビームの集束点位置に配置され、集束点から外れた荷電粒子の通過を制限する制限アパーチャ部材２１６と、複数のブランカーによってビームｏｆｆの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する制限アパーチャ部材２０６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザ描画装置を用いて被描画基板上の感光性レジストに露光し、所望のパターンをレーザ描画するパターン描画方法において、レーザの消費電力を削減した省エネルギーのパターン描画方法及びパターン描画プログラムを提供する。
【解決手段】レーザ描画装置を用いて複数の被描画基板上の感光性レジストに順次露光し、所望のパターンをレーザ描画するパターン描画方法であって、前記被描画基板にレーザ描画をしていない待機中は、前記レーザ描画装置のレーザの励起電流値を、前記レーザの出力調整が可能な範囲内での許容最低値に下げて消費電力を低減させ、前記被描画基板にレーザ描画をするときに、前記レーザの励起電流値を所定の電流値に立ち上げてから所望のパターンをレーザ描画することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】記録ディスク媒体の原盤パターン露光のための露光システムのコストを抑制する。
【解決手段】原盤に電子線を照射してディスク状記録媒体の原盤パターンを描画する露光装置とその制御装置を含む露光システムにおいて、原盤パターンを描画するための描画データ信号が、複数の波形パターンの組合せからなるものであるとき、制御装置５０に、複数の波形パターンのうち互いに異なる波形パターンを個々の波形データ列として記憶する波形データ記憶部５１、５２と、互いに異なる波形パターンを示す波形データ列により描画データ信号を構成するための波形データ列の出力順序を記憶する出力順記憶部５３、５４とを個別に備え、さらに、波形データ列を出力順序に従って順次、露光装置に送出するデータ処理部５６を備える。 （もっと読む）

【課題】描画処理の実行前に、互いに異なる２つのＲＩＰパラメータ各々に基づくＲＩＰ展開によって生成された、図形の描画に供される２つの画像データの差分を見落とすことなく速やかに確認できる技術を提供する。
【解決手段】画像処理装置２は、設計データＤ０が表す所定の処理領域を設定する処理領域設定部２５と、指定パラメータＰａ１と基準パラメータＰａ２とのそれぞれを用いて、処理領域の表示倍率に応じた解像度で、処理領域に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開する表示用ＲＩＰ展開部２６とを備える。指定パラメータＰａ１に基づくＲＩＰ展開によって得られた指定画像Ｄ２１と、基準パラメータＰａ２に基づくＲＩＰ展開によって得られた基準画像Ｄ２２との差分Ｓが抽出され、その差分Ｓを視覚的に強調した態様で処理領域表示画面８１に指定画像Ｄ２１と基準画像Ｄ２２とが表示される。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対して光ビームを照射して描画する描画装置およびその焦点調整方法において、収束光学系の経時変化に対応することができ、しかも描画時の基板表面に収束光学系の焦点位置を適正に調整することのできる技術を提供する。
【解決手段】観察光学系８０のダミー基板８０１と観察用カメラ８０３とを一体的に昇降可能とする。ダミー基板８０１の上面８０１ａをステージ１０上の基板Ｗの表面Ｓと略同一の高さに設定し、観察用カメラ８０３により観察されるダミー基板上面８０１ａでの描画光学像が最も小さくなるように、光学ヘッド４０ａのフォーカシングレンズ４３１の位置を調整する。このときの光学ヘッド４３１とダミー基板上面８０１ａとの距離を基準距離として、オートフォーカス部４４１，４４２によるオートフォーカス動作を実行する。 （もっと読む）

【課題】ＲＩＰパラメータを設定する都度、当該ＲＩＰパラメータに基づくＲＩＰ展開によって生成された図形の描画に供される画像データを、描画処理の実行前に、容易に確認できる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】画像処理装置２は、設計データＤ０が表す所定の処理領域ＲＴを設定する処理領域設定部２５と、指定パラメータＰａ１用いて、処理領域ＲＴの表示倍率に応じた解像度で、処理領域に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開する表示用ＲＩＰ展開部２６とを備える。表示用ＲＩＰ展開部２６におけるＲＩＰ展開は、直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ドットゲインの軽減、マージナル抑制により高精細・高画質の印刷を実現できる凸版印刷版を得る。
【解決手段】印刷画像を表す多値画像データに基づき２値画像データを生成する工程と、２値画像データから目標立体形状データを生成する工程と、目標立体形状データに基づいて露光量データを算出する工程と、２値画像データのＯＮ画素に近接する画像外近接画素に所定の露光量を与えるエッジ露光量設定工程と、露光量データに基づき版上のＯＦＦ画素の領域にレーザ光を照射して版上に残す領域の外側部分を彫刻し、エッジ露光量設定工程で設定された露光量に基づき版上の画像外近接画素にレーザ光を照射して画像部に対応するレリーフ頂面の縁部の角部の少なくとも一部が面取りされた凸部形状を有するレリーフを形成するレーザ彫刻工程と、により凸版印刷版を製造する。 （もっと読む）

【課題】ステージの移動に伴って生じる振動に起因する処理精度の低下を適切に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、基板Ｗを水平姿勢で保持するステージ１０と、ステージ１０に保持された基板Ｗに対して光を照射して基板Ｗにパターンを描画する光学ユニット４０と、ステージ１０を光学ユニット４０に対して相対移動させるステージ駆動部２０と、移動されるステージ１０の位置の変動を計測して位置変動情報を取得する位置変動情報取得部３０１と、ステージ１０が移動される際に生じる振動成分のうち振動数が既知である対象振動成分の位相情報を、位置変動情報から特定する位相情報特定部３０２と、対象振動成分の位相情報に基づいてステージ１０の振動状況を予測する振動予測部３０３と、予測された振動状況に基づいて、光学ユニット４０による光の照射位置を補正する描画位置補正部３０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】多量の描画データを空間的光変調器の駆動回路へ高速に供給すると共に、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みによる露光量のばらつきを補正して、描画精度を向上させる。
【解決手段】描画データを、光ビームによる基板の走査方向と直交する方向において、光ビーム照射装置の空間的光変調器の隣接するミラーの中心点間の距離に応じた等間隔の座標毎に分けて、等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２に記憶する。光ビームによる基板の走査に伴い、描画データを等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２から読み出し、メモリ７２から読み出した描画データの座標を、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みに応じて補正し、補正後の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給する。 （もっと読む）

【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】シリコンなどのウエハー上にレーザー光を用いて露光することで描画を行う描画装置において、ナノミクロンオーダーの高精度な位置決めを行うこと。
【解決手段】レーザー光を一定方向に往復させて所定の間隔でドットパターンの描画を行う光学素子用の描画装置であって、レーザー光を照射する照明光学系と、
基盤を載置するＸＹステージと前記照明光学系と前記ＸＹステージとの相対位置を測定する前記ＸＹステージ上に設置されたナノスケールと、前記基盤上の描画信号の基準位置とその描画信号波形データ出力と、前記ナノスケールによって測定された往路のドットパターンの描画終了位置から、復路のドットパターンの描画開始位置を抽出する軸制御ユニットと、前記軸制御ユニットによって抽出された描画開始位置から描画を開始するように前記照明光学系の位置を補正する位置補正手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】チップファースト型のＦＯ−ＷＬＰにおいて、再配線層を適切に形成できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、複数の半導体チップ９１が間隔をあけて配列された疑似ウェハ９を載置するステージ１１と、ステージ１１に載置された疑似ウェハ９を撮像する撮像ヘッド１４と、再配線層の回路パターンを記述した描画データ８を記憶する記憶装置１６４と、撮像ヘッド１４が取得した画像データに基づいて疑似ウェハに配置された各半導体チップ９１の理想位置からの位置ずれ量を特定し、描画データ８に記述された回路パターンを、当該回路パターンが接続対象とする端子パッドが配置されている半導体チップ９１の位置ずれ量に基づいて補正する補正処理部２４と、ステージ１１に載置された疑似ウェハ９に対して光を照射して、疑似ウェハ９に補正後の回路パターンを描画する光学ヘッド１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示する。
【解決手段】データ変換部８１１では、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータが生成されるとともに、描画ラスタデータの生成時に当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータが生成される。描画ラスタデータおよび部分ラスタデータを含む集合を描画データセット５１として、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセット５１が記憶部８２１にて記憶される。表示制御部６０１は、複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータに基づいて、当該パターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易にディスプレイ６０２に表示する。 （もっと読む）

【課題】ディスク状磁気記録メディア用の微細パターンを回転ステージを回転させつつ電子ビーム走査により描画する際の周方向描画位置の精度を向上させる。
【解決手段】各半径位置の周方向の所定領域毎に、その所定領域が電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスE_nから所定時間Δt_nの経過後(t_n+Δt_n)に、その所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始することを原則とし、回転速度ムラに起因してある所定領域についての描画開始の基準となるエンコーダパルスE_nから所定時間Δt_nが経過する前に、その所定時間Δt_nの経過後に生じるべきエンコーダパルスE_n+1が生じた場合には、その発生時刻t'_n+1にその領域のパターン描画を開始する。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、光源の寿命を落とすことなく、適切な光量調整を行なう。
【解決手段】光量調整を行なう場合、ＤＭＤの有効ミラーをＯＮ状態にして投影光の光量を測定し、測定された光量と目標光量との比である使用率を定める。そして、使用率に基づいて、不使用ミラーの配列を示す調光フィルタデータを生成する。このとき、不使用ミラーが略一様な分布で、かつ不規則に並ぶようにする。ＤＭＤを利用した光量調整を行なっている間、放電ランプの出力が徐々に低下し、測定光量が目標光量に達しない状況になると、測定光量が目標光量より所定量多い基準光量に達するまで放電ランプの出力をアップする。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの走査方向と直交する方向の強度分布を補正して、パターンの高低差を抑制する。
【解決手段】光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。描画制御部７１は、パターンを描画するための描画データと、補正用パターンを描画するための補正用データとを、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給して、走査方向と直交する方向の幅又は位置が走査方向において変化する補正用パターンを、描画するパターンの走査方向に重ねて描画させる。 （もっと読む）

【課題】アナモルフィック光学系を利用して低輝度の変調光場を集中させることにより、高い合計光強度がライン画像の全体長さに沿って同時に発生され、これにより、あらゆるドット様ピクセル画像が同時に発生される単一パス高解像度高速印刷用途に使用される画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系１３０を用いて画像形成面１６２上へ二次元画像の略一次元ライン画像を発生させるために利用される単純化された単一パス画像形成システム１００において、システム１００はさらに、均質光発生器１１０と、均質光発生器１１０から受信される均質光１１８Ａを変調するようにコントローラ１８０により制御される空間光変調器１２０と、変調器１２０により発生される変調光場１１９Ｂを画像化しかつ集中させ、かつ画像形成面１６２上に略一次元ライン画像ＳＬを投影させるように位置合わせされるアナモルフィック光学系１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】音響光学変調器で変調される１または複数の光源アレイによるダイレクトイメージングシステムを提供する。
【解決手段】ダイレクトイメージングシステムは、複数本のビームを放射するように構成される複数の光源を有する照明ユニット１００と、複数本のビームを整形して位置または角度をそろえる光学系６０と、位置または角度の一方がそろった複数本のビームを受けるとともに、音響波が音響方向に伝搬する際に、複数本のビームの異なる部分を連続して回折させるように位置決めされる音響光学変調器７０と、音響光学変調器で変調された複数本のビームを用いて、ある走査速度で露光面を走査するように構成される走査素子８０とを備え、走査速度は、複数本のビームの上記異なる部分を非コヒーレントに一体化して単一の露光スポットを得るように選択される。 （もっと読む）