【課題】露光装置の経時変化等の原因により、露光時におけるマスク位置が露光対象基材の移動方向に直交する方向にずれたときに、マスク位置を精度よく補正することができる露光装置を提供する。
【解決手段】光源とマスク３との間に介在するように基準板４が配置されており、基準板４には、各マスク３毎に、マスク３が配置されるべき位置の基準を示す第１基準マーク４１が設けられている。カメラ５１により第１基準マーク４１及びマスクアライメントマーク（スリット３２）を検出し、制御部７は、検出された両者間の距離ａに基づいて、フィルム移動方向に直交する方向におけるマスク３のずれを検出し、駆動部６によりマスク３の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】大型の被露光材を露光するために、複雑且つ高コストの露光機構を要することなく、露光に使用するマスクのコストを抑えることである。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、光源からの照射光を遮断する遮光領域と照射光を透過させる透光領域とを金属板に形成した複数のメタルマスクと、光源と搬送された被露光材との間に、複数のメタルマスクを保持するマスク保持部とを備える。マスク保持部は、同一平面上に並置された複数のメタルマスクを、隣り合うメタルマスクの各端部が互いに接触するように、連結して保持するものであり、複数のメタルマスクは、並置且つ連結されることによって全体として１個のメタルマスクを構成すると共に、マスク保持部に対して、それぞれ個別に着脱できるものである。 （もっと読む）

【課題】
露光工程のタクトタイムを短縮することができる露光装置を提供する。
【解決手段】
搬送中に露光される基板Ｐが載置されるステージ１と、前記ステージ１の中間に設けられ、前記基板Ｐを露光する露光手段２と、前記露光手段２より基板１の搬送方向の手前側のステージ１２と奥側のステージ１３との間を往復し、前記手前側のステージ１２上に載置された基板Ｐを前記奥側のステージ１３上に搬送する搬送手段３と、を含んで構成され、前記搬送方向の手前側のステージ１２上には複数枚の基板Ｐが搬送方向と平行な列を成して載置され、前記搬送手段３は、前記手前側のステージ１２上に載置された複数枚の基板Ｐを同時に搬送し、前記露光手段２は、搬送手段３により搬送中の基板Ｐを露光する露光装置である。 （もっと読む）

【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送手段２０と、被処理基板Ｇに対する露光処理空間を形成するチャンバ８と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Ｌを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段３０と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】
熱によるフィルムの変形を抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】
ディスプレイ用のフィルム７を、搬送しながらフォトマスク３，４を介して露光する露光装置であって、開口部３１を有する第１フォトマスク部３と、前記フィルム７の搬送方向Ａと垂直な方向において、前記開口部３１よりも細幅に形成され、前記開口部３１の全幅に渡って所定間隔で配置された複数の小開口部４１を有する第２フォトマスク部４と、を含んで構成されたものである。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの走査方向と直交する方向の強度分布を補正して、パターンの高低差を抑制する。
【解決手段】光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。描画制御部７１は、パターンを描画するための描画データと、補正用パターンを描画するための補正用データとを、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給して、走査方向と直交する方向の幅又は位置が走査方向において変化する補正用パターンを、描画するパターンの走査方向に重ねて描画させる。 （もっと読む）

【課題】連続露光方式により、画像表示部パターンとともにクロススキャン方向に配置された額縁パターンやアライメントマークなどを形成するカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】矩形の被露光基板を連続して移動させながら、露光光源から照射される露光光を、露光マスクのマスクパターンをブラインドシャッタにより被露光基板上に選択的に露光するようにして、アライメントマークや額縁パターンなどは静止露光により、画像表示部パターンはスキャン露光により露光して、カラーフィルタパターンを被露光基板に転写する。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの温度を管理して、基板の膨張、収縮に起因する露光精度への影響を抑制することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持するワークステージ２をステップ駆動するワーク駆動部は、第１固定子、及び第１固定子に対向配置された第１可動子を備える第１リニアモータ３０と、第２固定子、及び第２固定子に対向配置された第２可動子を備える第２リニアモータ４０とで構成される。第１及び第２可動子に沿って配設された冷媒循環路と、冷媒を循環供給する第１及び第２可動子側冷媒供給装置と、冷媒循環路の入口付近及び出口付近に配設されて、冷媒の温度を検出する温度センサとを備え、温度センサによって検出された冷媒の温度に基づいて、リニアモータ３０、４０から基板Ｗに伝達される熱量が一定となるように温度管理される。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとの隙間への付着物の噛み込みを検出でき、マスクの疵付きを防止でき高い露光精度を維持できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板２に転写すべきパターンが形成されたマスク１２が設けられており、光源１１から出射された露光光を透過させて基板２にパターンを露光する。基板２は、ステージ１０により、マスク１２に対してスキャン方向に移動される。マスク１２はマスクホルダ１３に保持され、マスクホルダ１３には、加速度センサ１４が設けられている。そして、加速度センサ１４によりマスク１２の鉛直方向の加速度を検出する。判定部１６は、加速度センサ１４の検出結果が所定値を超えたか否かを判定し、この判定結果に基づいて、ステージ１０を制御する制御部１５は、ステージ１０による基板２の移動を継続又は停止させる。 （もっと読む）

【課題】高精度のパターンを形成しながら、スループット向上を実現する。
【解決手段】基板に直接描画パターンを形成することが可能な露光装置の投影光学系に画像分割光学系２７を設ける。画像分割光学系２７により、第一結像光学系によって形成されたパターン像ＭＰを第１結像光学系の結像面ＦＳにおいて３分割し、３つの分割パターン像を、主走査方向Ｘに関して互いに間隔を空けながら、副走査方向Ｙに沿って並ぶように形成する。 （もっと読む）

【課題】摩耗粉の発生が抑制され、清浄な状態で基板を搬送することができる転動装置及びそれを備えた近接スキャン露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを搬送する基板搬送機構１０は、複数の転動装置２０を平面状に分散して配設することで基板Ｗを支持する。転動装置２０は、内面に半球形状の軌道面４７が形成された半球状凹部４６を備える本体４１と、半球状凹部４６に回動自在に収容されて一部が開口から突出する大径の主ボール４３と、軌道面４７と主ボール４３との間に転動自在に介在する複数の転動ボール４４と、複数の転動ボール４４とともに軌道面４７と主ボール４３との間に介在し、転動ボール４４より小径の複数のスペーサボール４５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとを離間させるときに発生するマスクの剥離力を小さくして、マスクの落下や位置ずれを抑制することができるとともに、タクトタイムを短縮することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】マスクＭと基板Ｗとを相対的に離間する方向に移動させる際、相対移動に伴ってマスクＭに作用する剥離力Ｆが、フランジ２６に対するマスクＭの保持力ｆよりも小さくなるように、マスクＭと基板Ｗとの相対移動速度Ｖを制御する。 （もっと読む）

【課題】携帯機器用の液晶表示パネルの大きさに合わせて効率的にマイクロレンズアレイを使用し、基板材料の無駄を低減することができるマイクロレンズアレイを使用した露光装置を提供する。
【解決手段】マスク２０は、形成するパネルと同一の幅Ｗｐのパターンが形成されたパターン領域２０ａを有し、各パターン領域は、製造せんとするパネルの第２方向２の配列ピッチＰの整数ｎ（ｎ≧２）倍のピッチｎＰで配置されている。パターン２０ａの正立等倍像を基板上に結像させるマイクロレンズアレイは、パターン領域２０ａと同数のマイクロレンズアレイチップ２２を第２方向２に配列したものであり、各マイクロレンズアレイチップ２２は、第２方向の長さがパターン２０ａの第２方向の幅Ｗｐよりも長く、各パターン領域２０ａの透過光は、対応するマイクロレンズアレイチップ２２により基板に照射されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】
液晶露光装置において、フォトマスクの変形に伴うガラス基板上のパターンの変形を避けて液晶パネルの品質を向上させると共に、フォトマスクとガラス基板間の圧力変動によって生じるマスク変形が小さくなるまで待つことなく露光開始可能とすることで生産性をも向上する。
【解決手段】
フォトマスク５１１と対向するガラス基板５１３を支えるチャック５１５の裏面にひずみ測定手段６０１を設置し、フォトマスク５１１とガラス基板５１３との間隔を調整するときの圧力変動を前記ひずみ測定手段６０１で測定し、このひずみ値が、予め設定したひずみ値になり、かつ、その時間微分値が負の値をとるときにフォトマスク５１１のパターンをガラス基板５１３に転写する。 （もっと読む）

【課題】マスクをプリアライメントする際に、マスクとマスクが接する面との間の摩擦によってマスクが損傷するのを防止することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させるエア供給機構１２５と、浮上したマスクＭの端面と当接して、マスクＭを位置決めするマスク用位置決めピン１９６と、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を有する。 （もっと読む）

【課題】高出力でかつ品質の安定したパターン露光装置を提供する。
【解決手段】平行光ビームとワークとを相対的に移動させ、前記平行光ビームにより前記ワークにパターンを露光するパターン露光装置において、前記平行光ビームを主走査方向に走査させる主走査手段と、前記ワークを副走査方向に走査させるステージと、前記平行光ビームを出射するための、活性層に沿う方向が前記主走査方向に対して垂直であるマルチモードの半導体レーザとを備え、前記ワークの任意の露光箇所を前記平行光ビームで露光することを特徴とするパターン露光装置。 （もっと読む）

【課題】描画対象物におけるパターンの形成位置の制御を簡便な構成で可能として、コストの低減を図る。
【解決手段】基板Ｗを支持するステージ１０に固定的に形成された複数の基準線Ｌrが副走査方向Ｘに並んでいる。また、光学ヘッド４２、４３との相対位置関係が固定された状態で基準線Ｌrに対向するラインカメラ５０が設けられており、このラインカメラ５０によって基準線Ｌrを撮像する。このように、副走査方向Ｘに並んで形成された基準線Ｌrをラインカメラ５０で撮像するといった構成を備えることで、エンコーダを用いた従来技術と比較してより簡便な構成によって、基板Ｗに形成されるパターンの副走査方向Ｘへの位置を制御することができる。その結果、コストの低減を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】描画データの解像度やエンコーダのパルス信号の周期に依存することなく露光間隔を設定し、描画データの解像度で決まる露光間隔とエンコーダのパルス信号の周期で決まる露光間隔とのずれを小さくして、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な移動量に応じたパルス信号を出力するエンコーダ３２を設け、エンコーダ３２のパルス信号からチャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な移動量を検出する。描画データの解像度よりも細かな解像度で基準座標を設定し、目標とする基準露光間隔に対して、描画データの解像度で決まる露光間隔及びエンコーダ３２のパルス信号の周期で決まる露光間隔を、基準座標上で演算して、チャック１０の位置座標を決定し、チャック１０の位置座標に応じた描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、多重露光を行って基板にパターンを描画する際、描画データの量を増やすことなく描画品質を向上させて、高速かつ高精細にパターンの描画を行う。
【解決手段】光ビーム照射装置（２０）の空間的光変調器（２５）の１つのミラーで反射された光が基板へ照射される領域と、他のミラーで反射された光が基板へ照射される領域が、光ビームによる基板の走査に伴って部分的に重なる多重露光を行って、基板にパターンを描画する。基板に描画するパターンの図形の座標データから、描画の要否を判定するサンプリング点を解像度の大きさの露光領域（２ａ）毎に周期的に変動させて、描画データを生成し、生成した描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（２７）へ供給する。 （もっと読む）

【課題】装置全体の大きさを小さくすることができ、基板搬送系の長さを短くすることができ、これにより、搬送系を単独の装置で組み立てることができるスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】第１露光領域２２の光源３７は、露光光２５を、垂直方向から、基板搬送方向の順方向側に向けて傾斜させて出射し、反射部材３３で反射させて、露光光をこの反射部材３３よりも、基板搬送方向の上流側に配置されたマスク３１に、垂直方向に対し、基板搬送方向の上流側に向けて傾斜させた光として、照射する。第２露光領域２３の光源３８は、露光光２６を、垂直方向から、基板搬送方向の逆方向に向けて傾斜させて、出射する。露光光２５及び２６は相互に平行光として、基板１に照射される。 （もっと読む）