【課題】フィルム基材の熱膨張に拘わらず、所定の間隔で偏光部を形成することができ、偏光部が高精度で形成された偏光フィルムを得ることができるフィルム露光装置を提供する。
【解決手段】配向材料が塗布されたフィルム１０は、バックロール５に巻き架けられた後、偏光フィルムの巻取装置に送給される。フィルム１０はバックロール５によりシワを伸ばされて支持されており、そのフィルム移動域に、２個のスリットマスク７，１７が配置されている。このスリットマスク７，１７は、露光光源６，１６からの露光光を帯状にしてフィルム１０に照射する。このフィルム１０がバックロール５に接触する手前に、冷却ロール８が配置されていて、冷却ロール８はフィルム１０に転動してこれを冷却する。 （もっと読む）

【課題】記録ディスク媒体の原盤パターン露光のための露光システムのコストを抑制する。
【解決手段】原盤に電子線を照射してディスク状記録媒体の原盤パターンを描画する露光装置とその制御装置を含む露光システムにおいて、原盤パターンを描画するための描画データ信号が、複数の波形パターンの組合せからなるものであるとき、制御装置５０に、複数の波形パターンのうち互いに異なる波形パターンを個々の波形データ列として記憶する波形データ記憶部５１、５２と、互いに異なる波形パターンを示す波形データ列により描画データ信号を構成するための波形データ列の出力順序を記憶する出力順記憶部５３、５４とを個別に備え、さらに、波形データ列を出力順序に従って順次、露光装置に送出するデータ処理部５６を備える。 （もっと読む）

【課題】ディスク状磁気記録メディア用の微細パターンを回転ステージを回転させつつ電子ビーム走査により描画する際の周方向描画位置の精度を向上させる。
【解決手段】各半径位置の周方向の所定領域毎に、その所定領域が電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスE_nから所定時間Δt_nの経過後(t_n+Δt_n)に、その所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始することを原則とし、回転速度ムラに起因してある所定領域についての描画開始の基準となるエンコーダパルスE_nから所定時間Δt_nが経過する前に、その所定時間Δt_nの経過後に生じるべきエンコーダパルスE_n+1が生じた場合には、その発生時刻t'_n+1にその領域のパターン描画を開始する。 （もっと読む）

【課題】周辺露光幅の不均一を簡便に把握することを可能とする周辺露光装置及び周辺露光方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜が形成された基板を基板保持回転部により保持するステップと、前記フォトレジスト膜を露光可能な露光光が、前記基板の周辺部に照射されるとともに前記基板の周縁の外側を通過するように、前記基板保持回転部により前記基板を回転しながら前記基板に向けて前記露光光を放射するステップと、前記基板の周縁の外側を通過した前記露光光に基づいて前記周辺部に照射される前記露光光の幅を検出するステップとを含む周辺露光方法により上記課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】ロール状基材に連続した画像を形成する筒状体マスク及びこれを使用した露光装置を提供する。
【解決手段】光透過性を有する筒状体と、該筒状体の周方向に連続して刻設された凹部からなるパターンと、該凹部に充填された遮光部材とから構成される筒状体マスクと、該筒状体マスクの中央に設置された光源とから構成され、少なくとも片面に感光性樹脂を塗布したロール状基材の該樹脂塗布面と、前記筒状体の表面とを接触回転させ、前記光源によって露光する。 （もっと読む）

【課題】所望の描画パターンにおける対角線方向に隣接する１対のエレメントについての電子ビーム描画を行った後の現像後パターンをより鮮鋭なものとする。
【解決手段】１対のエレメントＡ₁、Ａ₂の少なくとも一方のエレメントＡ₁について、一方のエレメントＡ₁についての半径方向Ｙへの偏向走査Ｄ₁の他方のエレメントＡ₂側の一端位置を、一方のエレメントＡ₁の設計上の配置における半径方向端部位置ｙよりも他方のエレメントＡ₂から離間した位置に設定し、半径方向Ｙへの偏向走査長さＬ₁が、一方のエレメントＡ₁の半径方向Ｙの設計上の長さＬよりも短くなるように描画する。 （もっと読む）

【課題】回転傾斜露光装置において、液体槽に溜められた液体にレジストが浸されることなく、液体を介してレジストに露光光を照射することができるようにすること。
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸されたレジスト防液構造体１０の開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに照射される。レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、回転モータ２２等から構成され、防液部材３０内に液体が浸入しないように、マスクＭの透明基板が防液部材３０の開口３１ａを覆い開口３１ａを密封する。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置されたマスクＭとレジストＲからなる被照射物Ｗが回転する。マスクＭが開口３１ａを密封しているので、液体中にレジストＲを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】ステージの回転により生じる液体の波（液面の乱れ）や気泡の影響を受けることがない回転傾斜露光装置を提供すること。
【解決手段】モータ２２により回転するステージ２１上に、マスクＭをレジストＲに密着させたワークＷが置かれ、これらが液体容器３０の液体中に浸されている。光出射部１０から出射する露光光は液体容器３０の底面から入射し、この露光光の光軸に対しステージ２１の表面は斜めに配置される。このため、ワークＷのレジストＲは斜め方向からの光により露光され、レジストＲにはマスクＭのパターンに応じた円錐や角錐状の立体形状のパターンが形成される。液体中にワークＷを浸しているので、大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができ、また、液体容器３０の底面（側面でもよい）から光を入射させているので、液面の乱れや気泡の影響を受けることがない。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れ、且つ、外形形状となるフォトレジスト部に傾斜部が形成された電鋳型とその製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳型１は、紫外線に対して透過性を有する基板２と、前記基板の表面に導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜３と、前記導電膜の上面に形成され、前記導電膜の上面から前記第１のフォトレジスト層４の上面に向かって傾斜する第１の貫通孔を有する第１のフォトレジスト層と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光領域における半径方向に沿った辺のＬＥＲを良好にする。
【解決手段】情報記録媒体製造用の凹凸パターンを形成するための樹脂層が形成された基材を回転させた状態において樹脂層に描画用ビームを照射することによって、凹凸パターンを形成するためのサーボパターンＰＳａを含む露光パターンＰａを樹脂層に描画する描画方法であって、露光パターンＰａにおけるサーボパターンＰＳａのうちの少なくとも一部のパターン（プリアンブルパターンＰＳ１等）の描画に際して、基材の回転方向と交差する方向（同図における上下方向）に描画用ビームを往復動させて、そのパターンにおける基材の半径方向の一部を描画する第１の部分描画処理を、第１の部分描画処理において描画用ビームのビーム中心を移動させる第１の移動範囲の半径方向に沿った長さＬａよりも短く規定した長さＬｂだけ半径方向に沿って第１の移動範囲を移動させて複数回に亘って実行する。 （もっと読む）

【課題】サーボエリアおよびデータエリアの微細パターンの描画が基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に実行でき、一定ドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板上に、電子ビームＥＢの照射をブランキング手段２４に対するオン・オフ信号によって制御し、ビーム偏向動作を偏向手段２２に対する偏向信号の出力によって制御し、サーボエレメント１３およびグルーブパターン１６またはドットパターンを走査して描画する際に、パターン形状を描画するためのパターン形状偏向信号に加えて、ビームスポットの周方向の相対線速度を調整する相対線速度偏向信号を偏向手段に出力し、サーボエリアでの相対線速度＞基板線速度＞データエリアでの相対線速度に設定して描画する。 （もっと読む）

フレキソ印刷要素を熱現像して表面上にレリーフ像を形成する装置、及び前記フレキソ印刷要素を現像する方法。前記方法は、フレキソ印刷要素の画像形成及び露光表面上の架橋フォトポリマーを軟化又は溶融させることを含む。前記装置は、フレキソ印刷要素の画像形成表面と接触し、且つ前記フレキソ印刷要素の画像形成表面上を移動して、前記フレキソ印刷要素の画像形成及び露光表面上の軟化又は溶融した非架橋フォトポリマーを除去するロールを含む。前記非架橋フォトポリマーは、フレキソ印刷要素の画像形成表面に隣接するヒータを用いて、又は前記印刷要素の表面と接触する１つのロールを加熱することによって軟化又は溶融する。任意で、前記装置は、熱現像前にフレキソ印刷要素の画像形成表面を硬化させる装置である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ用ビームを用いて、表面層に同心円状の溝を形成する方法であって、これにより上記のタイプの機械的緩みまたは遊びによって与えられる影響を減少させる方法の実現
【解決手段】リソグラフィ用ビーム２を照射することにより、軸５の周りに回転可能である本質的に平らな基板３の表面層４に所定の程度まで露光された材料の溝６を形成する方法は、リソグラフィ用ビーム２および軸５が、その軸周りの基板３の回転中に、溝６の部分がリソグラフィ用ビーム２による２回以上の照射を受け、溝６が前記２回以上の照射の合計として形成されるように互いに相対的に制御される。さらに、この方法による装置、および、このような装置を制御する命令を具備したコンピュータプログラムプロダクトが説明される。 （もっと読む）

【課題】ブランキングを行う必要をなくすことでビーム電流のロスを無くし、スループットを向上する。
【解決手段】描画パターンが疎である区間Ｒ２は基板周方向の移動速度Ｖsub及びビーム偏向速度Ｖbeamを速くし、密である区間Ｒ１，Ｒ３Ｖsub及びＶbeamを遅くすることで、ブランキング制御部３１によるブランキングをなくす。このとき、描画パターンを径方向に太い大きさで形成したい区間Ｒ６においては、最適速度生成器４７で描画速度Ｖexpを区間Ｒ４，Ｒ５よりも遅く設定し、Ｖexpが略一定の場合よりもＶsubを相対的に遅くすることで、太い描画を実現できる。 （もっと読む）

【課題】ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高いビーム記録装置及び記録方法を提供する
【解決手段】露光ビームを偏向する偏向工程と、露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、潜像パターンのうち、連続的な露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成する。ビーム偏向速度及び基板速度（線速度）を変化させるとともに、長いピット又はスペースを記録する必要が生じた場合にはビーム遮断を併用する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、極めて微細な加工を簡易な制御により行う。
【解決手段】光ディスク用原盤製造装置２０は遷移金属の不完全酸化物からなる無機レジスト材料を基板１００上に成膜してレジスト層１０２を形成しレジスト基板１０３を得て、当該レジスト層１０２に特異出力光ＬＥを照射し所望の凹凸パターンと対応した選択的な露光を施し感光させる。その後光ディスク用原盤製造装置２０は、当該パターンが露光されたレジスト基板１０３を現像し光ディスク用原盤を得る。これにより露光部２６は、レジスト層１０２にレーザ光を照射し発生させる熱の拡散を抑え、微細なパターンの露光ができる。かくして光ディスク用原盤製造装置２０は極めて微細な加工を簡易な制御により行うことができる。 （もっと読む）

【課題】ニアフィールド露光と無機レジストプロセスを組み合わせて飛躍的な高密度記録を実現できるようにする。
【解決手段】原盤のリソグラフィ工程において、予め無機レジスト層の表面上へ保護薄膜を形成し、露光後に保護薄膜を剥離した上で現像を行う。無機レジスト層が保護薄膜に覆われた状態で露光を行うことで、無機レジスト上へ直接レーザを照射した際にレジスト材料の揮発でソリッドイマージョンレンズ表面が汚れてしまい、原盤−レンズ間のギャップ制御が不安定になる問題を回避する。さらに保護薄膜によって、露光部分の無機レジストの隆起を抑制することで、無機レジスト記録後の数１０ｎｍの隆起現象によって原盤とソリッドイマージョンレンズ間のギャップが塞がって衝突が起こる危険性を回避する。 （もっと読む）

【課題】表面に高密度の凹部を有し、かつ、簡易に製造が可能なパターン形成体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０に設けられたヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層２０と、フォトレジスト層２０に形成された凹部２１とを備えるパターン形成体である。凹部２１は、略平行な複数のトラック上に並んで配列され、かつ、トラックＴｎの延びる方向の位置が、隣接するトラックの２つの凹部２１の中央に配置されている。 （もっと読む）

【課題】レジストへパターン描画を行う電子ビーム描画方法において、露光現像後のレジストに設けられる溝の立ち上がり角度を所望の値に調整可能とする。
【解決手段】基板10を一方向に回転させつつ、電子ビームEBを、回転ステージ41の半径方向Yまたは該半径方向と直交する方向Xへ高速振動させるとともに、半径方向Yおよび／または半径方向Xと直交する方向へ偏向を行い、エレメントの形状を順次塗りつぶすように走査制御し、順次エレメントを描画する際に、高速振動を制御するための高速振動波形信号として、式（１）で表される合成波を用い、レジストの溝の所望の立ち上がり角度に応じて、式（１）におけるｎを定める。
【数１】


（ただし、２≦ｎ≦４９。） （もっと読む）

【課題】 感光性材料を付した外形が円形の断面を有し軸方向に長い可撓性の被露光材料の表面や内面を所望のパターン形状に露光する。
【解決手段】
被露光材料を吸引保持して該被露光材料の軸方向の形状を直線に矯正する吸着ブロックと、前記被露光材料に軸回りの回転運動をさせるための回転ステージおよび／または該被露光材料に軸方向の移動運動をさせる移動ステージと、該被露光材料に付した前記感光性材料を露光するための光源を含む露光光学系を設け、前記吸着ブロック上で軸方向の形状を直線に矯正した前記被露光材料の部分を連続的または間欠的に露光する。 （もっと読む）