【課題】
本発明の目的は、基板に所定パターンの薄膜を精細に塗布することができる薄膜塗布装置を提供することにある。
【解決手段】
ｘｙｚ直交座標系を定義したとき、ｚ方向に向けて薄膜材料を吐出する複数のノズルがｙ方向に配列するノズル列を含む複数のノズルヘッドと、前記複数のノズルヘッドを保持するホルダと、を含み、前記ホルダは、前記複数のノズルヘッドを取り付ける際に、前記複数のノズルヘッド各々のｙ方向に対する配置位置を規定することができる位置決め機構を有する。 （もっと読む）

【課題】ステージの移動に伴って生じる振動に起因する処理精度の低下を適切に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、基板Ｗを水平姿勢で保持するステージ１０と、ステージ１０に保持された基板Ｗに対して光を照射して基板Ｗにパターンを描画する光学ユニット４０と、ステージ１０を光学ユニット４０に対して相対移動させるステージ駆動部２０と、移動されるステージ１０の位置の変動を計測して位置変動情報を取得する位置変動情報取得部３０１と、ステージ１０が移動される際に生じる振動成分のうち振動数が既知である対象振動成分の位相情報を、位置変動情報から特定する位相情報特定部３０２と、対象振動成分の位相情報に基づいてステージ１０の振動状況を予測する振動予測部３０３と、予測された振動状況に基づいて、光学ユニット４０による光の照射位置を補正する描画位置補正部３０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】チップファースト型のＦＯ−ＷＬＰにおいて、再配線層を適切に形成できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、複数の半導体チップ９１が間隔をあけて配列された疑似ウェハ９を載置するステージ１１と、ステージ１１に載置された疑似ウェハ９を撮像する撮像ヘッド１４と、再配線層の回路パターンを記述した描画データ８を記憶する記憶装置１６４と、撮像ヘッド１４が取得した画像データに基づいて疑似ウェハに配置された各半導体チップ９１の理想位置からの位置ずれ量を特定し、描画データ８に記述された回路パターンを、当該回路パターンが接続対象とする端子パッドが配置されている半導体チップ９１の位置ずれ量に基づいて補正する補正処理部２４と、ステージ１１に載置された疑似ウェハ９に対して光を照射して、疑似ウェハ９に補正後の回路パターンを描画する光学ヘッド１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】スリーブの回転時に生じる回転振れを抑制でき、高速回転でのパターニングを実現できる露光装置を提供すること。
【解決手段】本発明の露光装置（１）は、軸方向の一端部に被保持部（１６ｂ）が設けられたスリーブ（１６）と、スリーブ（１６）の中心を回転軸Ｘとして、スリーブ（１６）を周方向に回転させる回転駆動部（１３）と、被保持部（１６ｂ）の外周面の外側に配置され、チャック部（１４）の中心に向けて駆動され被保持部（１６ｂ）をチャックする少なくとも２つの保持爪（１４ａ）を有するチャック部（１４）と、スリーブ（１６）に露光する露光部（１８）とを具備し、チャック部（１４）の中心及び回転駆動部（１３）の回転軸が略同一直線上に配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】物体保持装置に保持された物体を迅速に搬出する。
【解決手段】 基板ホルダ３０の上面上に載置された基板Ｐを該基板ホルダ３０から搬出する基板Ｐの搬出方法は、前記基板ホルダ３０に予め保持された基板トレイ６０に前記基板Ｐを下方から支持させることと、前記基板トレイ６０に前記基板Ｐを吸着保持させることと、前記基板ホルダ３０から前記基板Ｐに対して気体を噴出することと、前記基板Ｐが前記基板トレイ６０に吸着保持され、且つ前記基板Ｐに対して前記気体が噴出された状態で前記基板トレイ６０を前記基板ホルダ３０の上面に平行な方向に沿って相対移動させることにより、前記基板Ｐを前記基板ホルダ３０から搬出することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 良好な結像性能と小型化を両立する投影光学系を提供する。
【解決手段】 投影光学系は、物体面に配置された物体の中間像を形成する第１の反射光学系と前記中間像を像面に投影する第２の反射光学系とを含む。前記第１の反射光学系は、前記物体面から出射され前記物体面に直交する第１方向に沿って入射した光を反射する第１の平面鏡と、前記第１の平面鏡からの光を反射する第１の光学系と、前記第１の光学系からの光を反射して前記中間像の形成位置に向け前記第１方向に沿って出射する第２の平面鏡とを有する。前記第２の平面鏡における光の反射位置と前記中間像の形成位置との間の前記第１方向における距離は前記第１の平面鏡における光の反射位置と前記物体面との間の前記第１方向における距離よりも短い。 （もっと読む）

【課題】回転する試料にビームを照射してパターンデータを露光する技術において、偏向による収差なく良好な長い直線が得ること。
【解決手段】円周位置補正信号生成手段（２７）は、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する。半径位置補正信号生成手段（２９）は、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する。 （もっと読む）

【課題】パターンを形成した後の切断処理が困難な基板であっても、効率よく露光処理を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスク（１８ａ等）を経た照明系１からの露光光により基板２１を露光するプロキシミティタイプまたはコンタクトタイプの露光装置１０である。照明系１では、マスクを照明することのできる照明可能領域Ｌａが、マスクを複数に分割した大きさ寸法に設定され、照明系１は、マスクに対して移動することにより、照明可能領域Ｌａをマスクの全領域に行き渡らせることが可能である。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の空間強度分布に時間変動がある場合でも安定なフォーカス状態を維持する光ディスク原盤露光装置を提供する。
【解決手段】ビーム形状の変化を読み取り、ビームの変動に合わせて４分割光ディテクタ１１３ｃの位置を補正することを特徴とし、ビーム形状の変化による４分割フォトディテクタ１１３ｃに入射するビームの光強度の空間強度分布の変動をキャンセルすることで、フォーカス状態の変動を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】移動体に用力を伝達するためのケーブルの撓みを抑制する。
【解決手段】Ｘケーブルガイド装置５０は、２つの中間ガイドユニット５１を有しており、ケーブルＣの長手方向中間部の２箇所を保持している。中間ガイドユニット５１は、Ｘ軸方向に移動可能、且つケーブルＣを保持する中間支持部材５４がＹ軸方向に移動可能となっており、Ｘ粗動ステージ２３ＸのＸ位置に対応して、２つの中間支持部材５４それぞれが互いに反対の方向に駆動されることにより、ケーブルＣの撓みが抑制される。 （もっと読む）

【課題】運動性能の向上した基板ステージ装置を提供する。
【解決手段】 基板ステージ２０は、Ｘ軸方向に関する位置を個別に制御可能であってＹ軸方向に関して互いに分離して配置される第１Ｘテーブル２４ａと第２Ｘテーブル２４ｂとを含み、Ｘ軸方向に沿って移動するＸ粗動ステージ２３ｘと、基板Ｐを保持し、Ｘ粗動ステージ２３ｘに誘導されて少なくともＸ軸方向に沿って移動する微動ステージ３０と、Ｙ軸方向に関して第１Ｘテーブル２４ａと第２Ｘテーブル２４ｂとの間に配置され、微動ステージ３０を下方から支持し、微動ステージ３０と共に少なくともＸ軸方向に沿って移動可能な重量キャンセル装置５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢまでの時間の遅れによる寸法変動を補正し描画された微細パターンに応じたレジストパターンを得ることができるように電子ビーム描画を行う。
【解決手段】サーボパターンと、グルーブパターンとを含む微細パターンを描画する電子ビーム描画方法において、電子ビームEBの照射のタイミングを、電子ビームEBを遮断するブランキング手段26に対するオン・オフ信号により制御する際に、それぞれのパターン毎の露光後経過時間に対するレジスト11の感度変動データに基づいて、パターン毎に、描画半径毎のオン・オフ信号による電子ビームEBの照射のデューティ比を変化させて、レジスト11の露光量を調整する。 （もっと読む）

【課題】サーボ情報を正確に読出しできるサーボパターンを形成可能な露光パターンを描画する。
【解決手段】両位相サーボ部のパターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂの描画時に、これらを構成する露光領域Ａ１および非露光領域Ａ２のうちの回転方向で並ぶ一組の領域Ａ１，Ａ２の各半径位置毎の回転方向に沿った合計長をそれぞれ第１の長さとしたときに、両パターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂの一方の領域Ａ１における回転方向と交差する辺の半径方向に対する交差角度と、他方の交差角度との同一の半径位置における角度差が最大となる半径位置を含む領域内において、１つのサーボトラックＳＴにおける第１の長さの範囲内への描画用ビームの総照射量を第１の長さで除した第１の値が、同一の半径位置において、両パターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂのうちのトラックＳＴ内の交差角度が小さい一方よりも、交差角度が大きい一方の方が大きくなるようにビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】製品の歩留りを向上させることができる画像記録方法、および画像記録システムを提供する。
【解決手段】描画パターンが形成される被描画体の露光面の凹凸形状を形状測定器で測定する。これにより得られた凹凸形状の変位データを波形鈍化処理部８１で補正して、プリズムペアによる光ビームの焦点調節が可能となるようにする。波形鈍化処理部８１を経た変位データと、元の変位データとの差分を差分算出部８２で算出する。差分算出部８２で得られた差分の最大値と閾値とを露光可否判定部８３で比較し、この比較結果に基づいて、露光可否を判定する。露光可能であると判定された場合、波形鈍化処理部８１を経た変位データに応じて、プリズムペアの駆動を制御する。露光不可であると判定された場合は、露光記録は行わない。 （もっと読む）

【課題】所望の描画パターンにおける対角線方向に隣接する１対のエレメントについての電子ビーム描画を行った後の現像後パターンをより鮮鋭なものとする。
【解決手段】１対のエレメントＡ₁、Ａ₂の少なくとも一方のエレメントＡ₁について、一方のエレメントＡ₁についての半径方向Ｙへの偏向走査Ｄ₁の他方のエレメントＡ₂側の一端位置を、一方のエレメントＡ₁の設計上の配置における半径方向端部位置ｙよりも他方のエレメントＡ₂から離間した位置に設定し、半径方向Ｙへの偏向走査長さＬ₁が、一方のエレメントＡ₁の半径方向Ｙの設計上の長さＬよりも短くなるように描画する。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送路２の上方において、基板搬送方向に交差する方向に配列された複数の発光素子Ｌを有する光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記被処理基板が前記光源の下方を搬送されない状態で、前記被処理基板に対する前記光源からの光照射位置に沿って基板幅方向に進退可能に設けられ、前記光源により照射された光の照度を検出する照度検出手段３１と、前記照度検出手段が検出した照度と前記発光素子の駆動電流値との関係を相関テーブルＴ２として記憶すると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】水平方向のサイズがコンパクトで、かつ、高精度な位置合わせを可能とする露光マスク保持装置及びこれを用いる露光装置を提供する。
【解決手段】マスク保持装置２１は、リニアガイド機構２４ａが設けられたフレーム２３と、フレーム２３に対し鉛直方向に上下移動するＺ軸移動部２５と、Ｚ軸移動部２５の鉛直下方に位置すると共にＺ軸移動部２５に支持され、Ｚ軸移動部２５に対して鉛直軸周りの回転位置が調整されるθ軸移動部２７と、θ軸移動部２７の鉛直下方に位置すると共にθ軸移動部２７に支持され、θ軸移動部２７に対して水平面に対する傾きが調整されるチルト軸移動部２９と、チルト軸移動部２９の鉛直下方に位置すると共にチルト軸移動部２９に支持され、チルト軸移動部２９に対しＹ軸方向での位置が調整されると共に、下面で露光マスクＭを保持する水平方向移動部３１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出した複数のレーザビームを被露光体４上に一定間隔に並べて集光するｆθレンズ７と、ｆθレンズ７を射出した複数のレーザビームを被露光体４の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子８と、を備え、音響光学素子８は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体４の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子４の光射出側には、複数のレーザビームの０次回折光を遮断する遮光マスク２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】熱の影響を緩和させつつパターンを微細化すること。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、複数の表示素子を用いて前記パターンを形成するパターン形成ステップと、前記対象面のうち複数の単位領域に区画された投影領域に前記パターンを投影する投影ステップとを含み、前記パターン形成ステップは、前記投影ステップにおいて前記投影領域のうち前記単位領域ごとに前記パターンが投影されるように複数の前記表示素子のうち一部ずつを順に駆動させて前記パターンを形成する。 （もっと読む）