【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板ステージ２上の基板Ｇと原版ステージ３上の原版Ｍとを同期移動させながら前記原版のパターンを前記基板上に露光する露光装置１であって、前記基板ステージの上方に設けられ、前記基板に対し局所的に光を照射する局所露光部２０と、前記局所露光部の発光駆動を制御する制御部４０とを備え、前記局所露光部は、基板幅方向にライン状に配列され、前記基板ステージによって移動される前記基板に対し光照射可能な複数の発光素子Ｌと、前記複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部２５とを有する。 （もっと読む）

【課題】複数の光源部の照度をそれぞれ制御することで、ギャップ分布による露光面での照度のばらつきを小さくすることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置ＰＥは、複数の光源部７３と、露光制御用シャッター７８と、インテグレータレンズ７４と、コリメーションミラー７７と、を有する照明光学系７０を備え、基板Ｗに対して近接対向するマスクＭに向けて照明光学系７０から光を照射することで、マスクＭのパターンＰを基板Ｗに露光する。露光領域内の複数箇所にて、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを測定するギャップセンサ１７を備え、複数の光源部７３は、複数箇所にて測定された各ギャップに応じて照度をそれぞれ変更する。 （もっと読む）

【課題】ドットゲインの軽減、マージナル抑制により高精細・高画質の印刷を実現できる凸版印刷版を得る。
【解決手段】印刷画像を表す多値画像データに基づき２値画像データを生成する工程と、２値画像データから目標立体形状データを生成する工程と、目標立体形状データに基づいて露光量データを算出する工程と、２値画像データのＯＮ画素に近接する画像外近接画素に所定の露光量を与えるエッジ露光量設定工程と、露光量データに基づき版上のＯＦＦ画素の領域にレーザ光を照射して版上に残す領域の外側部分を彫刻し、エッジ露光量設定工程で設定された露光量に基づき版上の画像外近接画素にレーザ光を照射して画像部に対応するレリーフ頂面の縁部の角部の少なくとも一部が面取りされた凸部形状を有するレリーフを形成するレーザ彫刻工程と、により凸版印刷版を製造する。 （もっと読む）

【課題】スループットの向上を図ることのできる荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】制御計算機１９は、描画パタンを精度を要求される領域とそうでない領域に弁別し、入力部２０から基準値以上の描画精度を要求されるパターンの面積がパターン全体の面積に占める割合を取得し、この割合が所定値以上であるか否かによって描画条件を決定する。割合が所定値未満である場合、基準値未満の描画精度を要求されるパターンを、基準値以上の描画精度を要求されるパターンより高い電流密度で描画する。割合が所定値以上である場合、全てのパターンを同じ電流密度で描画する。電流密度の変化は、電子ビーム５４を透過させる開口部を備えた電流密度調整用アパーチャ１０１を鉛直方向に移動させることで行う。 （もっと読む）

【課題】基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節する。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射する。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、光源の寿命を落とすことなく、適切な光量調整を行なう。
【解決手段】光量調整を行なう場合、ＤＭＤの有効ミラーをＯＮ状態にして投影光の光量を測定し、測定された光量と目標光量との比である使用率を定める。そして、使用率に基づいて、不使用ミラーの配列を示す調光フィルタデータを生成する。このとき、不使用ミラーが略一様な分布で、かつ不規則に並ぶようにする。ＤＭＤを利用した光量調整を行なっている間、放電ランプの出力が徐々に低下し、測定光量が目標光量に達しない状況になると、測定光量が目標光量より所定量多い基準光量に達するまで放電ランプの出力をアップする。 （もっと読む）

【課題】迅速に正確な露光動作を行う。
【解決手段】ワークに対して露光する際に光束を開閉するシャッター装置２６を、エアシリンダ３３でスライドされる一枚のスライド板３２で上記光束を開閉するスライドシャッター３０と、サーボモータ３７で回転される回転板３６で上記光束を開閉する回転シャッター３１とを、併設して構成している。そして、サーボモータ３７によって回転板３６を回転する回転シャッター３１側で露光時間を設定する一方、スライドシャッター３０側で露光のタイミングを設定するようにしている。こうして、迅速に正確な露光動作を行うことができる。さらに、回転板３６によって、フライアイレンズ２５を開放した側から閉鎖することができ、照射開始から照射終了までの間における露光面２９での積算光量を一定にできる。 （もっと読む）

【課題】 グレイトーンマスクを用いたＴＦＴ基板の製造工程において、高画質かつ低価格の液晶パネルを高い歩留まりで生産し続けることが可能な露光装置および露光方法を提供すること。
【解決手段】 照明光学系と投影光学系を有する露光装置において、照明光学系内部に有効光源形状を変化させる有効光源形状調整手段と、投影光学系内部に静止ディストーションのばらつきを変化させる静止ディストーションばらつき調整手段と、プレートステージ上にあってマスク上のパターンを結像する２次元センサと、２次元センサが撮像した結果に基づき前記有効光源形状調整手段もしくは前記静止ディストーションばらつき調整手段のうち、少なくとも一つを調整する調整部を持つ。調整部は同一パターン内の光強度分布を調整することにより有効光源形状調整手段もしくは静止ディストーションばらつき調整手段を調整する。 （もっと読む）

【課題】アパーチャを通り抜ける調節された放射ビームの均一性を維持するための新しい技術を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射源装置からＥＵＶ放射ビームを受け、かつビームを調節してレチクルなどのパターニングデバイスのターゲット領域を照明するためのイルミネータを含む。レチクルは、パターン付き放射ビームを形成する。投影システムは、ＥＵＶリソグラフィによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写する。センサは、ビームが特に非スキャン方向でレチクルに近づくにつれて調整されたビームにおける残留非対称性を検出するために設けられている。フィードバック制御信号は、検出された非対称性に応じて放射源のパラメータを調整するように生成される。フィードバックは、照明スリットの両端における２つのセンサによって測定された強度比率に基づいており、ＥＵＶ放出プラズマを生成するレーザパルスのタイミングを調整する。 （もっと読む）

【課題】エネルギー効率の高い光源装置およびランプ点灯方法を提供すること。
【解決手段】本発明の光源装置は、発光管内に陽極と陰極とが対向配置され、当該発光管内に水銀が封入されたショートアーク型水銀ランプと、前記ショートアーク型水銀ランプに定格電力を供給する定格電力点灯モードと、前記ショートアーク型水銀ランプに定格電力より低い電力を供給する低電力点灯モードとを切り替えて前記ショートアーク型水銀ランプを点灯させるよう、当該ショートアーク型水銀ランプに電力を供給する給電装置とを具えてなる光源装置において、前記給電装置は、前記低電力点灯モードから前記定格電力点灯モードへの移行が１５０ミリ秒間以内で行われるよう電力を供給するものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数段のファイバ光増幅器を備えたレーザ装置において、ファイバ光増幅器の励起を下流側から停止させ、意図しない発振に基づく機器の損傷を抑制する。
【解決手段】レーザ装置は、信号光を出力する信号光出力部１０と、複数のファイバ光増幅器２１〜２３を有し信号光を順次増幅して増幅光を出力する増幅部２０とを備える。ファイバ光増幅器２１〜２３は、各々増幅用ファイバ(添え字ａ)と、励起光源(添え字ｂ)と、励起光源により発生された励起光を増幅用ファイバに伝送する伝送用ファイバ(添え字ｃ)とを備える。ファイバ光増幅器２１〜２３は、各段の伝送用ファイバのファイバ長を上流側からＬ₁，Ｌ₂，Ｌ₃としたときに、Ｌ₁＞Ｌ₂＞Ｌ₃となるように構成される。 （もっと読む）

【課題】従来のボトムゲートのトップコンタクト構造の薄膜トランジスタを製造する時、使用されるマスクの数が多いので、該薄膜トランジスタの製造コストが高くなる。
【解決手段】ソース・ドレイン電極及びパターニングされた活性層を製造するためのマスクに、チャンネル領域に対応する幅が露光装置の分解能より小さいスリットを形成し、露光量を大きくすることで、ソース・ドレイン電極を通常に形成でき、さらに該マスクを用い、露光量を小さくすることで、所望形状の活性層を形成できる。 （もっと読む）

【課題】レンズ形成の自由度を高めることが可能なマイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】マイクロレンズ１４が形成される領域５２２の周囲に反射膜１８を有する下地パターン１７を形成する工程と、下地パターン１７が形成された基板１２上にポジ型の感光性材料で感光層５２を形成する工程と、感光層５２のうちマイクロレンズ１４に対応する領域以外の領域を、感光層５２を挟んで基板１２とは反対側から露光する工程と、露光された感光性材料を現像する工程と、感光性材料の表面を加熱により曲面状に変形させることでマイクロレンズ１４を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】マップデータを高速かつ高精度に表示することが可能なマスク製造用装置を提供する。
【解決手段】マスク製造用装置は、メッシュ値を有する複数のメッシュからなるマップデータを取得するマップデータ取得部（２２１）と、マップデータを表示するための表示画面を有する表示部（２０４）と、表示画面のピクセルサイズよりも大きい擬似ピクセルサイズを設定する設定部（２２２）と、表示画面上のピクセルを擬似ピクセルにグループ化するグループ化部（２２３）と、表示画面上におけるメッシュのメッシュサイズが、擬似ピクセルサイズのα倍（αは正の定数）よりも小さい場合に、各擬似ピクセル内のメッシュのメッシュ値の平均値を算出する平均値算出部（２２４）と、擬似ピクセル内の各ピクセルを、平均値に対応する表示色で表示することにより、表示画面上にマップデータを表示する表示処理部（２２５）とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるマスクを提供する。
【解決手段】マスクは、第１、第２投影光学系の物体面側で第１方向に移動されながら露光光が照射され、その少なくとも一部の像が基板に投影される。第１、第２投影光学系は、第２方向に関して異なる位置に配置され、それぞれ投影領域を形成する。投影領域は、第１、第２方向に第１、第２寸法を有する第１領域と、第２方向に関して第１領域の隣に位置し、第１、第２方向に第３、第４寸法を有する第２領域と、を含む。第３寸法は第１寸法よりも小さい。マスクは、第１、第２投影光学系のそれぞれによって投影され、第１パターンが形成された第１部分と、第２方向に関して第１部分の隣に位置する第２部分と、を有し、第２方向に関する第１部分の第５寸法は、第２寸法以下であり、第１部分からの露光光が第１領域に入射し、第２領域に入射しない。 （もっと読む）

【目的】データ処理領域内のパターン面積密度を計算するまでの計算時間の短縮を図る描画装置を提供する。
【構成】描画装置１００は、チップ領域を複数のデータ処理領域に分割する分割部７０と、複数のセルから、データ処理領域毎に、当該データ処理領域にセルの基準位置が位置するセルを抽出するセル抽出部７８と、データ処理領域毎に、当該データ処理領域と抽出されたセルとを取り囲む枠を作成する外接枠作成部８０と、枠毎に、当該枠内を複数のメッシュ領域に分割して、各メッシュ領域に配置される図形パターンの面積密度を算出する面積密度算出部８６と、異なる複数の枠間における重なるメッシュ領域同士の面積密度を合成する合成部９０と、面積密度を用いて、荷電粒子ビームの照射量を演算する照射量演算部９４と、得られた照射量になるように荷電粒子ビームを照射することによって、試料にパターンを描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コヒーレント光を光源とした場合、被露光体上に発生する露光ムラを抑制することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、入射する光を拡散させる拡散板と、拡散板をコヒーレント光で経時的に重ねて照明するとともに、拡散板の各点への入射角度を経時的に変化させて照明する照明系と、パターン形成領域を有する光変調器と、拡散板から出射されるコヒーレント光をパターン形成領域に集光する集光光学系と、光変調器で変調されたコヒーレント光を被露光体の表面に結像させる結像光学系と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】計測期間における計測部の温度安定化に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】光源６３から射出される光で前記基板の上のマークＷＭを照明し、前記マークで反射した光により前記マークの像を形成する光学系と、前記マークの像を検出する検出部１１とを含み、前記マークの位置を計測する計測部と、前記光学系の所定面における光量を制御する制御部９０と、を有し、前記マークの位置を計測しない非計測期間に前記光源から射出される光の光量は、前記マークの位置を計測する計測期間に前記光源から射出される光の光量よりも低く、前記光源と前記所定面との間の光路における透過率を前記非計測期間で、前記計測期間における透過率よりも高くすることにより、前記非計測期間と前記計測期間の前記所定面における光量の差を低減する。 （もっと読む）

【課題】周辺露光幅の不均一を簡便に把握することを可能とする周辺露光装置及び周辺露光方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜が形成された基板を基板保持回転部により保持するステップと、前記フォトレジスト膜を露光可能な露光光が、前記基板の周辺部に照射されるとともに前記基板の周縁の外側を通過するように、前記基板保持回転部により前記基板を回転しながら前記基板に向けて前記露光光を放射するステップと、前記基板の周縁の外側を通過した前記露光光に基づいて前記周辺部に照射される前記露光光の幅を検出するステップとを含む周辺露光方法により上記課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢまでの時間の遅れによる寸法変動を補正し描画された微細パターンに応じたレジストパターンを得ることができるように電子ビーム描画を行う。
【解決手段】サーボパターンと、グルーブパターンとを含む微細パターンを描画する電子ビーム描画方法において、電子ビームEBの照射のタイミングを、電子ビームEBを遮断するブランキング手段26に対するオン・オフ信号により制御する際に、それぞれのパターン毎の露光後経過時間に対するレジスト11の感度変動データに基づいて、パターン毎に、描画半径毎のオン・オフ信号による電子ビームEBの照射のデューティ比を変化させて、レジスト11の露光量を調整する。 （もっと読む）